应用于BOPP激光全息防伪基膜的在线异物收集装置的制作方法

本申请涉及bopp生产技术领域，尤其是涉及一种应用于bopp激光全息防伪基膜的在线异物收集装置。

背景技术：

bopp激光全息防伪膜是在基膜的表面实施镀铝操作而得到的。镀铝操作对基膜表面摩擦系数要求严格，须降低基膜表面摩擦系数至较小数值，因此，会在基膜中添加爽滑剂。但爽滑剂会随时间而迁移析出，附着在基膜表面，从而降低金属层的附着；且析出颗粒在真空环境中会被吸附，使设备产生隔层，进一步干扰金属的附着。

技术实现要素：

针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本申请提供一种应用于bopp激光全息防伪基膜的在线异物收集装置，解决了现有bopp激光全息防伪基膜表面具有析出颗粒而干扰金属层附着的技术问题。

为实现上述目的，本申请提供了一种应用于bopp激光全息防伪基膜的在线异物收集装置，设置于分切机母卷辊之后，包括：机架；上罩体和下罩体，对设固定于机架中，基膜自上罩体和下罩体间通过；送风组件，与外部气源连通，用于输送洁净空气，包括一组正压管路；集尘组件，用于收集基膜表面异物，包括一组负压管路；其中，上罩体和下罩体结构相同，朝向基膜的一侧表面处开设有正压风口和负压风口；正压管路与正压风口连通；负压管路与负压风口连通。

本申请通过在分切机母卷辊后方加装上、下两罩体覆盖基膜上、下表面，配合送风组件和集尘组件作用，在两罩体朝向基膜侧的正、负压风口形成正、负压气流。正压气流对基膜表面进行气流吹送，不仅能够促进析出颗粒脱离基膜表面，还能够在负压风口处形成扰动，避免负压抽取的析出颗粒在负压风口处聚集而形成隔层，从而使本申请能够稳定、持续地对析出颗粒进行清理。

本申请公开的一个实施例中，机架包括两组对设的门型框架，门型框架的两纵向支架处开设有长槽孔。

本申请公开的一个实施例中，上罩体和下罩体两端壁处均固定有定位结构，定位结构包括螺纹杆和固定螺母，螺纹杆贯穿长槽孔，固定螺母旋接于螺纹杆，与纵向支架活动抵接。

本申请通过上、下两罩体处的定位结构与机架配合，可灵活地调整两罩体与基膜以及两罩体间的位置关系。

本申请公开的一个实施例中，送风组件还包括设置于正压管路中的仪表和阀体。

本申请公开的一个实施例中，集尘组件还包括依次连通设置于负压管路末端的集尘箱和真空泵。

本申请公开的一个实施例中，还包括一控制柜，控制柜设置于机架外，仪表、阀体、集尘箱和真空泵均设置于控制柜中。

本申请采用设置于机架外部的控制柜集成送风组件和集尘组件中的控制部件，以便于人员的控制和维护。

本申请公开的一个实施例中，上罩体和下罩体朝向基膜的一侧表面处开设有多组正压风口和负压风口。增加正、负压风口数量，可减小单一风口面积，有利于降低大面积风口气流对基膜移动平稳性的干扰。

本申请公开的一个实施例中，上罩体和下罩体朝向基膜的一侧表面处还固定有多个毛刷，毛刷沿基膜横向设置，并固定于相邻两组正压风口和负压风口间。

本申请通过增设的毛刷辅助正压风口对基膜表面析出颗粒进行清理，有利于促进析出颗粒脱离基膜表面而被负压气流携带而脱离基膜得以清除。

综上所述，本申请具有以下有益效果：

1.本申请通过在分切机母卷辊后方加装上、下两罩体覆盖基膜上、下表面，配合送风组件和集尘组件作用，在两罩体朝向基膜侧的正、负压风口形成正、负压气流。正压气流对基膜表面进行气流吹送，不仅能够促进析出颗粒脱离基膜表面，还能够在负压风口处形成扰动，避免负压抽取的析出颗粒在负压风口处聚集而形成隔层，从而使本申请能够稳定、持续地对析出颗粒进行清理。

2.本申请通过上、下两罩体处的定位结构与机架配合，可灵活地调整两罩体与基膜以及两罩体间的位置关系。

3.本申请通过增设的毛刷辅助正压风口对基膜表面析出颗粒进行清理，有利于促进析出颗粒脱离基膜表面而被负压气流携带而脱离基膜得以清除。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请在一实施例中的结构示意图。

图2为本申请在一实施例中下罩体的结构示意图。

图3为本申请在一实施例中下罩体与机架的配合结构示意图。

图4为本申请在一实施例中控制柜内的结构示意图。

附图标记：1.机架，10.门型框架，101.纵向支架，102.长槽孔，2.上罩体，3.下罩体，301.螺纹杆，302.固定螺母，303.正压风口，304.负压风口，305.毛刷，4.控制柜，50.正压管路，60.负压管路，61.集尘箱，62.真空泵，9.外部气源管路。

具体实施方式

在下文中，仅简单地描述了某些示例性实施例。正如本领域技术人员可认识到的那样，在不脱离本申请实施例的精神或范围的情况下，可通过各种不同方式修改所描述的实施例。因此，附图和描述被认为本质上是示例性的而非限制性的。

在本申请实施例的描述中，需要理解的是，术语“横向”、“纵向”、“上”、“下”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请实施例和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请实施例的限制。

在本申请实施例的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本申请实施例中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接，还可以是通信；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请实施例中的具体含义。

在本申请实施例中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请实施例的不同结构。为了简化本申请实施例的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请实施例。此外，本申请实施例可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。

下面结合附图对本申请的实施例进行详细说明。

如图1所示，本申请实施例提供了一种应用于bopp激光全息防伪基膜的在线异物收集装置，设置于分切机母卷辊之后，包括机架1、上罩体2、下罩体3、控制柜4、送风组件和集尘组件。上罩体2和下罩体3对设固定于机架1中，且两罩体间具有通道，以便基膜的通过。送风组件的正压管路50和集尘组件的负压管路60分别自控制柜4处引出，靠近上、下罩体处分支后分别贯穿连入两罩体中。

其中，

上罩体和下罩体结构相同。以下罩体为例，如图2所示，下罩体3两端壁处对设固定有定位结构。该定位结构由螺纹杆301和固定螺母302组成。下罩体3朝向基膜一侧的表面处开设有多组正压风口303和负压风口304。正压风口303与正压管路（图中未示出）连通，负压风口304与负压管路（图中未示出）连通。正压风口和负压风口均沿基膜横向设置，两两为一组。相邻两组正、负压风口间的下罩体3表面还固定有毛刷305。

如图3所示，机架1包括两组沿基膜横向对设于基膜两侧的门型框架10。门型框架10的两纵向支架101处开设有长槽孔102。下罩体3两端壁处的螺纹杆分别贯穿对应的长槽孔102后，旋接固定螺母302至其与纵向支架101相抵，使下罩体3固定于机架1中。

如图4所示，控制柜4处外接有外部气源管路9。该外部气源管路9在控制柜4内与正压管路50连通。两者连通处以及正压管路50处设有多个压力表和控制阀体，以监测控制正压管路50中气流压力、流速等指标。负压管路60的末端，以及与该末端依次连通的集尘箱61和真空泵62也设置于控制柜4内。

工作时，根据基膜自母卷辊开卷位置及方向调整上、下罩体在机架中的角度及位置，使两罩体朝向基膜的表面与基膜平行，且毛刷与基膜表面适当接触，通过定位结构固定两罩体与机架的位置关系。于控制柜处启动送风组件和集尘组件运行，对开卷后的基膜上、下表面同时进行毛刷清扫、正压送风吹抚和负压抽取集尘，使析出颗粒脱离基膜表面由负压风口经由负压管路进入集尘箱中。