自动化清洗站的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型是一种用于晶圆厂的自动化清洗站的技术领域，特别是一种针对分布于无尘室高空中的自动化物料搬运系统(AMHS)，所设计能有效率地去除粉尘的设备。
【背景技术】
[0002]半导体12吋(300mm)晶圆厂，因为生产高科技芯片，对于芯片生产环境的要求非常严格，目前业界已知因素中粉尘与震动对芯片良率的影响不容忽视。此类晶圆厂中是采用自动化物料搬运系统(Automated Material Handling System,简称AMHS)，利用高电压产生磁浮力驱动各式搬运车的运行，其磁场所产生大量静电让环境中飞扬的微小粉尘容易沾附于搬运车上，且搬运车系统行驶速度高，因轨道环绕无尘室运行而有许多接缝与转弯处，也容易使搬运车产生较大的震动，搬运车经年累月运转，其本身零组件与运行轨道摩擦，产生大量的粉尘(particle)，这些粉尘将随着搬运车运行和震动而散布于无尘室中，这对于芯片生产的良率会造成严重的影响。其中因为高架起重搬运器(Overhead HoistTransports,简称0HT)直接将装载芯片(Wafer)的前开式晶圆运载盒(Front OpeningUnified Pod,简称F0UP)，运送至芯片生产机台的前开式接口机械标准(Front-OpeningInterface Mechanical Standard，简称FH1S)系统，所以最容易将搬运车上的粉尘震落并沾附于FOUP上，当生产机台开启FOUP门的时候，因机台内为真空状态(负压)，会将FOUP上与环境中的粉尘吸入生产机台内，造成粉尘散落在芯片上因而造成芯片的严重缺陷。
[0003]理想的解决办法是定期去除附着在高架起重搬运器(OHT)上及分布于轨道上的粉尘，尤其是囤积在高架起重搬运器(OHT)上的粉肩颗粒(Particle)。但是高架起重搬运器(OHT)运行在分布于晶圆厂内的高空轨道上，以人工清洗除安全疑虑外也不方便及实际，耗时又会降低产能，且去除过程中若造成粉尘飘散，更会造成厂房环境遭受污染，有鉴于此，本实用新型创作人设计了此一自动化清洗站。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型主要目的在于提供一种自动化清洗站，运用于晶圆厂的无尘室内，针对自动化物料搬运系统(AMHS)中的易囤积粉肩颗粒(Particle)的高架起重搬运器(OHT)顶面和机身以及轨道，使用消除静电、吹风除尘等程序加以清洗，之后吸气同时将粉肩颗粒(Particle)吸入管内而被收集，有效率地去除粉肩颗粒(Particle)，减少晶圆生产中有可能影响良率的潜在危害因素。
[0005]为达上述的目的，本实用新型提供一种自动化清洗站，其结构包括:一机体，具有供轨道和高架起重搬运器通过的一清洗空间，该机体于该清洗空间的内壁区域安装着至少一吸风盘、至少一风刀与至少一离子释放棒；至少一吸气接头，安装在该机体上，由该机体内的吸气管路与该吸风盘相接；至少一供气接头，安装在该机体上，由该机体内的供气管路与该风刀相接；以及至少一离子云产生器，安装于该机体上，由该机体内线路与该离子释放棒相接。
[0006]其中，该清洗空间由上而下分为第一空间及第二空间，尺寸是由第一空间渐渐向第二空间扩大，该第一空间能供该轨道通过，该第二空间能供该高架起重搬运器通过。
[0007]其中，该风刀与该离子释放棒安装在该机体内的位置邻近于该第一空间与该第二空间相接区域的侧壁，该侧壁具有一狭长的送风口，该风刀所产生的喷射风流以及该离子释放棒所产生的正、负离子皆经该送风口进入该清洗空间内。
[0008]其中，该风刀与该离子释放棒具有两组，分别安装于两个位置相对的该第一空间与该第二空间相接区域，即在该轨道及该高架起重搬运器经过路径的两侧位置。
[0009]其中，该风刀的出风口是面对该高架起重搬运器的顶面位置。
[0010]其中，该吸风盘安装在该机体的位置是在该第二空间所在区域的内壁。
[0011]其中，该第二空间所在区域的内壁剖面呈U字型，其中该吸风盘具有三组，并分布于两垂直面及底面位置。
[0012]其中，上述自动化清洗站进一步包括有至少一喷气装置，该喷气装置安装于该机体内，每一喷气装置包括一旋转机构及一喷气管，该喷气管与该供气管路相接并由该旋转机构带动旋转，该喷气管的喷气口经由该旋转机构动作能位于该轨道内。
[0013]其中，该喷气装置数目为四个，位置是在该机体内四角隅且邻近于第一空间与第二空间相接区域的侧壁，该侧壁具有至少一通道口，当该旋转机构动作时，能带动该喷气管经该通道口在该机体内部或该清洗空间移动。
[0014]其中，该喷气装置安装在一往复移载装置上，在该喷气装置喷气过程中由该往复移载装置产生往复移动，使气体产生扰流现象。
[0015]本实用新型的有益效果如下:
[0016]当一高架起重搬运器(OHT)经该轨道进入自动化清洗站，该自动化清洗站经消除静电、吹风除尘、吸气集尘等程序，能有效率地去除该轨道及该高架起重搬运器上的粉肩颗粒(Particle)；
[0017]自动化清洗站的运作模式是由该离子云产生器产生大量的正负离子，以消除静电，并由该风刀产生的高压气体吹离附着于物体表面的粉肩颗粒(Particle)，再由大面积的该吸风盘吸取飘浮于清洗空间内的粉肩颗粒(Particle)，最后收集排出。
[0018]再者，为了有效去除粉肩颗粒(Particle)，本实用新型进一步包括有至少一喷气装置，该喷气装置安装在该机体顶部内四角隅位置，包括一旋转机构及一喷气管，该喷气管并与该供气管路相接是由该旋转机构带动旋转的，该喷气管的喷气口会经由该旋转机构动作而移动至该轨道内。另外该喷气装置能安装在一往复移载装置上，该往复移动装置为一气压缸。在该喷气装置喷气过程中由该往复移载装置产生往复移动，使气体产生扰流现象。如此有助于进一步清除轨道内的囤积粉肩颗粒(Particle)。
[0019]以下配合图式及组件符号对本实用新型的实施方式做更详细的说明，使熟习该项技艺者在研读本说明书后能据以实施。
【附图说明】
[0020]图1为本实用新型自动化清洗站安装自动化物料搬运系统(AMHS)的轨道处的示意图；
[0021]图2为本实用新型的立体图；
[0022]图3为本实用新型的去除机体外壳后的内部结构示意图；
[0023]图4为本实用新型的侧视图；
[0024]图5为本实用新型运作时，该高架起重搬运器尚未进入该机体中间位置的示意图；
[0025]图6为本实用新型运作时，该高架起重搬运器已进入机体中间位置，欲开始进行清洗作业的示意图。
[0026]附图标记说明:
[0027]A自动化清洗站，I机体，11清洗空间，111第一空间，112第二空间，13侧壁，131送风口，132通道口，14内壁，15供气接头，151供气管路，16吸气接头，161吸气管路，2吸风盘，3风刀，4离子释放棒，41离子云产生器，5喷气装置，51旋转机构，52喷气管，6往复移载装置，8轨道，81内导轨，9高架起重搬运器，91导轮。
【具体实施方式】
[0028]如图1所示，本实用新型自动化清洗站A是安装于晶圆厂的无尘室中，于自动化物料搬运系统(AMHS)的轨道8经过位置，能清洗于该轨道8运行的高架起重搬运器9 (OHT)。详细运作方式在后面段落再作描述。
[0029]首先就本实用新型的结构作一详细的说明，如图1及图3所示，为本实用新型的立体图及内容结构的示意图。本实用新型自动化清洗站A的机体I具有开口朝上、供轨道8通过的一清洗空间11，该清洗空间11由上而下分为第一空间111及第二空间112，尺寸是由第一空间111渐渐向第二空间112扩大，该第一空间111宽度是对应该轨道8尺寸，该第二空间112则对应该高架起重搬运器9 (OHT)尺寸，该清洗空间11的横向长度是大于该高架起重搬运器9，主要的除尘作业区于中间区段。
[0030]该机体I于该清洗空间11的内壁区域安装着至少一吸风盘2、至少一风刀3与至少一离子释放棒4，其中该风刀3与该离子释放棒4安装于该机体I内，位置邻近于该第一空间111与该第二空间112相接区域的侧壁13。该侧壁13具有一狭长的送风口 131，该风刀3所产生的喷射风流以及该离子释放棒4所产生的正、负离子皆经该送风口 131进入该清洗空间11内。该风刀3的出风口是面对该高架起重搬运器9的顶面位置。该吸风盘2是安装于该第二空间112所在区域的内壁14，该内壁14纵向剖面形状呈U字型，在本实施例中该吸风盘2具有三组，分布于两垂直面及底面位置。
[0031]该机体I内具有至少一离子云产生器41，经线路与该离子释放棒4相接，由该离子释放棒4产生大量正、负离子，通过离子云达到消除静电的效果，使粉肩颗粒(Par