一种活性炭净化剂生产设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及环保设备领域，尤其涉及一种活性炭净化剂生产设备。
【背景技术】
[0002]粉末活性炭净化技术对水进行处理的历史已达70年之久，从美国第一次应用粉末活性炭消除氯酚所带来的嗅味至今，去除水中杂质的有效方式仍是活性炭净化技术，其净化效果已得到众多国家首肯。活性炭按外观形状可分为粉末活性炭或颗粒活性炭。一般将90%以上通过80目标准筛或粒度小于0.175mm的活性炭通称粉末活性炭或粉末炭，粒度大于0.175mm的活性炭称作颗料活性炭。随着分离技术的进步和某些应用要求的出现，粉末炭的粒度有越来越细化的倾向，有的场合已达到微米甚至纳米级。活性炭是由含碳材料制成的一种外观呈黑色，内部孔隙结构发达、表面积大，吸附能力强的一类微品质碳素材料。活性炭作为一种表面积大、吸附能力强的低成本吸附剂，目前在城市污水、工业废水深度处理和污染水源净化方面的应用非常广泛，但是活性炭净化剂的生产需要很多设备，成本高，占地大，急需一种设备能完成活性炭净化剂的生产。
【实用新型内容】
[0003]针对现有技术的上述缺陷，本实用新型提供的一种活性炭净化剂生产设备，解决了活性炭净化剂生产占地大，成本高，工作效率低的问题。
[0004]为了达到上述目的，本实用新型提供如下技术方案:
[0005]一种活性炭净化剂生产设备包括:进料口、研磨机、烘干室、研磨机出料口、控制台、混合室、混合室出料口、烘干室出料口。
[0006]其中，所述控制台能够控制研磨机、烘干室、混合室。
[0007]其中，所述烘干室内的粉末可进入混合室与混合室内的其他原料混合产生净化剂。
[0008]本实用新型的有益效果是:本实用新型提供的一种活性炭净化剂生产设备，原料来源丰富，成本较低，具有较好的吸附性与降解性，无污染，应用前景较好，设备占地面积少，工作效率高，降低人工成本。
[0009]为了能更进一步了解本实用新型的特征以及技术内容，请参阅以下有关本实用新型的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本实用新型加以限制。
【附图说明】
[0010]下面结合附图，通过对本实用新型的【具体实施方式】详细描述，将使本实用新型的技术方案及其它有益效果显而易见。
[0011]图1是本实用新型一种活性炭净化剂生产设备的结构示意图。
【具体实施方式】
[0012]为更进一步阐述本实用新型所采取的技术手段及其效果，以下结合本实用新型的优选实施例及其附图进行详细描述。
[0013]请参阅图1，一种活性炭净化剂生产设备包括:进料口 1、研磨机2、烘干室3、研磨机出料口 4、控制台5、混合室6、混合室出料口 7、烘干室出料口 8。
[0014]步骤I，将活性炭放入进料口 I，通过进料口 I到达研磨机2，研磨机2开始研磨，研磨后产生活性炭粉末，符合要求的粉末进入烘干室3，不符合要求的活性炭粉末通过研磨机出料口 4取出。
[0015]步骤2，符合要求的活性炭粉末进入烘干室3，烘干后可以选择进入混合室6与其他材料混合后通过混合室出料口 7取出，还可以直接通过烘干室出料口 8直接取出使用。
[0016]该一种活性炭净化剂生产设备，不仅仅生产活性炭净化剂，也可以生产其他符合要求的其他原材料进行加工。
[0017]综上所述，本实用新型提供的一种活性炭净化剂生产设备，设备占地面积少，工作效率高，降低人工成本，应用广泛。
[0018]以上所述，仅为本实用新型的【具体实施方式】，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。
【主权项】
1.一种活性炭净化剂生产设备，其特征在于，包括:进料口、研磨机、烘干室、研磨机出料口、控制台、混合室、混合室出料口、烘干室出料口，所述研磨机顶部连接进料口，研磨机的左侧连接烘干室，所述混合室右侧连接烘干室，底部与混合室出料口链接。2.根据权利要求1所述的一种活性炭净化剂生产设备，其特征在于，所述控制台能够控制研磨机、烘干室、混合室。
【专利摘要】本实用新型涉及环保设备领域，尤其涉及一种活性炭净化剂生产设备。该一种净化剂生产设备包括：进料口、研磨机、烘干室、研磨机出料口、控制台、混合室、混合室出料口、烘干室出料口。所述研磨机顶部连接进料口，研磨机的左侧连接烘干室，所述混合室右侧连接烘干室，底部与混合室出料口链接，本实用新型提供的一种活性炭净化剂生产设备，具有研磨，烘干，混合等优点，运行成本低，研磨产生的粉末可分离，简化劳动量，提高作业效率，环保的特点。
【IPC分类】B01J20/20, C02F1/28
【公开号】CN204897470
【申请号】CN201520306869
【发明人】曲亮
【申请人】沈阳美联科技有限公司
【公开日】2015年12月23日
【申请日】2015年5月14日