专利名称：螺旋混合喷嘴和用于混合两种或多种流体的方法及用于制造异氰酸酯的工艺的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于混合流体尤其;^ (amine)和碳絲(phosgene)的新 颖装置，且涉及用于混合胺和碳酰氯以获絲基甲酰氯(carbamoyl chloride) 和异氰酸酯(isocyanate)的方法。
背景技术：
许多文档公开了用于混合流体尤其;l^应性流体的喻嘴。在光气化反应中发现一个务沐的例子，其中迅逸的混合是一关键M。因此，已经为这种t觜 提出了很多设计，大多数具有同轴的射流，它们可以#、或者不碰撞。 然而，仍然需要进一步改进喷嘴的混合效率，尤其是在光气化反应(phosgenation reaction)中。 发明内容因此本发明的一个目标是提供一种装置，用于将至少第一和第二流体混合，包括(a)第一喷嘴，包括限定第一流室的第一流管，且具有带第一排出口的第一喻嘴头；和(b)第二喻嘴，包括限定第二流室的第二流管，且具有带第 二徘出口的第二喻嘴头；其中所述第一流管^;斤述第二流管;fetb螺放式缠绕到对方之上； 其中在操作所ii^置期间，在第一流室中流动并经由第一排出口流出的第 一流体形成第一流体射流，在第二流室中流动的笫二流体在第二浙出口处形成 第二流体射流，所述第一及第二流体射^t目JJ3t撞，由此混合了第一和第二流 体。本发明特别提供了 一种;kJL环状的装置用于混合至少第一及第二流体，包 括(a)第一喷嘴，包括限定第一流室的第一流管，且具有带第一排出口的第 一辦头；和(b)第二"^觜，包括限定第二流室的第二流管，且具有带第1》 出口的第二喻背头；其中根据具有1到20个转弯的一阿基米德性螺线(Archimedeanspiral)，所述第一流管^S^斤述第二流管彼此螺炎式麟到对方^Ji,且其中 所述第一^二^fi^f变细；其中在辦所錄置期间，在第一流室中流动并经由第一排出口流出的第 一流体形成第一流体射流，在第二流室中流动的第二^^在第二排出口处形成 第二流体射流，所述第一及第二流体射力t4目^^撞，由此混合了第一和第二流 体。本发明的另一目标是还提f工艺用于混合至少第一及第二流体，包括以 下步骤(a)形成第一流体射流，其在第一排出位置由第一流体组成；(b)形成 第二流体射流，其在第1夂出位置由第二流体組成；和(c)才娥具有l到20个 转弯的一阿^ft德性螺线(Archimedean spiral),使*流体射^/^1此螺放 式巻绕，从而使得所述第一及第二流体射5射目^^撞，由此混合了第一及第二 流体。本发明特别提供了一工艺用于混合至少第一及第二流体，包括以下步骤 (a)形成第一流体射流，其在第一排出位置由第一流体城；(b)形成第二流体 射流，其在第^#出位置由第二流体组成；和00使絲流体射么 :此螺炎式 巻绕，从而使得所述第一及第二流体射;jM目互碰撞，由此混合了第一及笫二流 体。本发明的工艺对生产异氰酸酯尤为有用；本发明因》b^提供了一工艺用于 制造异氰酸酯，包括在用于胺和碳酰氯时本发明的混合工艺，1^的步骤是4吏 ^^的胺和碳ibl^反应。值得注意的是这些步^本发明的装置中执行。 在参见下列说明之后，其它目标、特4^L优点将变得更为显而易见。 本发明基于螺放状喻，觜的使用，在下文中将其称为螺旋喻货。特殊的A^T 形状允许稀薄液^NXf並撞、而在同时具有高混合能量。
附图的简JH兌明图1是常规的简易同轴射流^^器喷嘴组件的轴向横截面图； 图2 ;1>^发明的喻觜子组件的轴向 面图； 图3是本发明的喻觜子组件的底部放大视图； 图4是本发明的 子组件的顶部放大视图；图5 ;I^^发明的喻嘴的轴向冲M面图；图6A、 6B、 6C和6D;^本发明的另一些实施例；和 图7 ;lj^发明的"W子组件的另一实施例的轴向;^截面图。 絲实施方式#参见图1，该处示出了一简易的#同辆时流混合器*^组件100， 用于〉膽两流体。自同械流'^^器賴组件100包括同轴地设置在夕卜部流 管101 ^Mp流管"t^头105中的内部流管102及一内部流管^头104。流 室120被定义为内部流管102和内部流管喻背头104内的空间。流室120具有 两端，供给端130及排出端110。流室120的排出端110是由内部流管^头 104的排出端所形成，且其具有给定直径的一排出端。流室121由夕h^流管101 与内部流管102之间的环形空间开始。流室121在外部流管喷嘴头105与内部 流管102之间的环形空间继续。流室121具有两端，供给端131及排出端132。 流室121的排出端132由外部流管，头105的排出端所形成。流室120的排 出端IIO及流室121的排出端132的轴向尺寸;Ut近似。第一流体资L^流室120 JL^排出端110以射流103排出.射流103的初始直径;Ut等于喷嘴头104的 排出口直径。第二流体;緣流室121J^排出端132以环形射流106排出。射 流106的初始厚度;Ut等于喷嘴头105的排出口直径减去喷嘴头104的直径的 差值的一半。当两同轴射流103和106离开喻，觜头104和105时，它们碰撞并 ;^以形成复合射流107。混合的主要驱动力是針流103和106的动能、及其 湍流能量耗散率。这些流体的速率通过喻嘴104和105的相关设计而选取。喷 嘴头104和105逐渐变细的角度可以例如从30。变至60。。本装置尽管已经为A^斤知多年，其^^效率仍需改进.本发明的喷嘴组件因此提t装置用于混合至少第一和第二流体，该装置 包括第一M组件机构用于形成第一螺旋流体射流206、及第二喷嘴组件^J 用于形成与所述第一螺欢流体射流206同轴JIJ^绕的第二螺旋流体射流207， 第一螺旋流体射流206由第一流体组成，第二螺羞流体射流207由第二流体组 成，从而使得第二螺旋流体射流207撞击第一螺旋流体射流206，由此混合第 一与第二流体。这^件^fi^^皮称作t觜子组件20L如*必要，有可食yi供另外一些流管用于其它流体。
参见图2，该处示出了本发明的^^觜組件的放大的纵向横截面图。喷 嘴子组件201被安置到下部壳体250中。螺旋式巻绕的组件包括如下设置的第 一管202及第二管203。笫一流室220被定义为第一流管202与第一流管^^觜 头204内部的空间(仅才斜己在附图的左侧)。第一流室220具有两端，供给端 230 (仅树己在附图的右侧)及排出口 210 (^己在附图的左侧)。第一流室 220的排出口 210由第一流管，头204的排出端所形成、且具有一给定值的 一排出间隙，笫二流室221 ^C^义为第二流管203与第二流管^头205内部 的空间(仅标记在附图的右侧)。第二流室221具有两端，供给端231 (仅标 ie^附图的左侧)及排出口 211 (^fsU封e^附图的右侧)。供给端231在实施 例中示为闭:i^，而盖板251将迫使流^^侧面入口 (导入内腔H认。这将 通过参考图3、图4和图5进一步^Hh流室221的排出口 211是由第二流管 喷嘴头205的排出端所形成、且具有一给定值的一排出间隙。会注意到对于所 描述的实施例，流管202和203合用共有隔壁241和242 (在图4上示出)， 除了在一起形成管203及由此协作形成螺旋巻^M件的下部壳体250处的外部 转弯以外。该组件分别产生第一和第二射流206和207，它们分别在笫一和第 1,出口处出射。当射流206和207离开,觜头204和205时，它们石M并混 合以形成复合射流208。流管的最外部锥角可以变化，例如从30°变到60° ， 优选为40°到50° ，典型的约为45。。在指定点处指定流管的锥角将被理解 为在碰撞前，该组件的轴线、和在指定点处指定管的出口处的总流向之间的 角度。将理解为流管会具有沿流管的环形路径变化的锥角。尤其是，锥角可以 M置中间到装置外部增加。还应指出流管的内部锥角也可以从0变到45。， 优i^i^0变到15。。在所示的实施例中，会注意到所述第一流室220具有沿第一流管朝第一排 出口显著减小的各尺寸。(供给端230的间隙)与(排出口 210的间隙)的比 率可以从I变到IO,优i^L是2到4。在所示的实施例中，会注意到所述笫二流室221也具有沿第二流管朝第二 排出口显著减小的各尺寸。在所示的实施例中(如图4上将进一步示出的)，会注意到所迷第二流室 221也具有从蝶旋式巻绕管外部到内部显著减小的各尺寸。(外端间隙)与(内 端间隙)的比率也可以在供给水平或者排出7jc平或两者处变化。此处，选W^嚇出口的^t尺寸(即宽度和间隙)，以产生所需的速率。 通常，射流206的(表观)速率将为5至90英尺/秒，优选为20至70英尺/ 秒。通常，射流207的(表观)速#为5至70英尺/秒，M为10至40英 尺/秒。在喷嘴头204处的间隙通常为0.04〃到0.20〃 ，优选为O. 05〃到0.10 〃 。在^^觜头205处的间隙为0. 04〃到0. 20〃 ，优选为0. 05〃到0.10〃 。这 些间隙可以是恒定的或者可以沿螺旋线变化。壁厚或隔离间隙通常小于每个排
出口间隙且其通常为0, 03〃到0.10〃 ， >^为0. 03〃到0. 06〃 。如絲虑每 个排出口 ，则可以测量用于排出(作为展开线考虑)的近似长度。排出口典 型地具有一狄L使得L与间隙的比^i^20到200， M为60到150。排出 间隙210可以小于、等于或大于排出间隙211。排出间隙211还可以W卜部到 内部变化，且例如外部上的211是内部上的211的一半。若需要，排出间隙210 也可以同样变化。5ML参见图3，该处示出了没有下部壳体时，本发明的一实施例的喷嘴子 组件的放大的底部视图。可以注意到管202和203合用共有隔壁，在该处管202 由环状转弯产生，而管203由围绕而产生(J^终由被包围^A下部壳体而产 生)。导入内腔被标识为附图上的232。#参见图4，该处示出了没有下部壳体时，本发明的一实施例的喷嘴子 组件的放大的顶部视图。在图4上，可以见到壁241和242，及第二流体的导 入内腔232,该处箭头^J^二管203中的液流的总;i^向，这将参考图5 进一步公开。#参见图5，该处示出了本发明的螺放巻绕组件的放大的纵向横截面 图。仍然出现了第一和第二管202及203，还有下部壳体250。可注意到在图5 上用于引入第二流体的第二流体盖251。由于该盖被设置在由围绕而形成的(且 最终最终由被包围^/v下部壳体而产生)第二管203的顶部上，在所示的实施 例中，盖251还具有;Ut巻绕的形式。当第二流^^导入内腔232被供给到第 二管203内时，第二流体lt^将才N^;Ut与^t轴翻目切的一方向(在图4上 用箭头标注)而流动。通过使用用切向ii^第二流体，在实现切向逸变矢量方 面有额夕N^处，导致'旋涡效应并最^致增强^^。 253a和253b是尖齿。如从前述附图可得到的，本发明的，组件蝶旋式巻绕或包裹自身。术语 "管g螺旋式缠绕到对方之上"意在包含一管缠绕另一管超过一圏的那些情 形。因本发明，通常将考虑到如果存在一直线在至少三个不同位置横断一曲 线，则所述曲线将形成一转弯。通过计数所述直线与所述直线交叉点的数量， 可以计，弯的数量。表示其的一种方法是将交叉点数计为2n+l，其中n是转 弯数。此处的螺放线意在包含从固定点起不断增加的距离处所绘的任意;^t连 续曲线。此处缠^4示有超过一个转弯，导致管的交迭。"转弯"不必一定 意思是圆形，尽管it^L优选实施例，且其包括了螺旋状方形缠绕管。由此设计 产生的不对称嗜强了该两种流体的混合。转弯数不是关键的，且可以在宽泛的 限度之间诸如1到20个转弯之间变化。在一个实施例中，例如对于可描述为"紧螺放"的第一实施例，该数字相当高。M转弯数可以在3到IO之间变 化。在另一个实施例中，该数字相当低，且可以被描迷为"断开螺炎"。则转 弯数可以l^在1. 05与1. 5之间变化。还预J^JU了麟双管的情形。才隊阿 基米德性螺线(Archimedean spiral)，且更优选地根据阿基米德螺旋线(Archimedes' spiral),第一和第二流管^^Mfclfc螺放式^;到对方之上。l/v一条阿^K德性螺线(Archimedean spiral)是极坐标方程为r-a 6 的螺旋 线，其中r是径向距离，e是极角，且y是决定了螺灰线敏紧密程度的一恒 量。 一条阿J^MI螺放线(Archimedes' spiral)是其y为1的螺放线。图6示出了本发明的另一实施例。图6A表示"断开螺凌"的实施例。图 6B表示"方形螺放"的实施例。图6C表示"心脏形螺凌"的实施例。图6D 表示"S形螺威"的实施例。图5示出了本发明的又一实施例，包^""清洁装 置，在此实施例中，沿喻嘴同轴安装的一个支架252,装设有尖齿243a、 243b、 243c等，尖齿位于各管其中之一内，在i^SA^—管202。当支架25Ht^适 当的^fcbL构(未示出)沿喻嘴轴线位移时，尖齿##，擦卡在第一管202内的 碎片和沉淀。因此可获得未堵塞的 组件而不必关闭流程以去除堵塞或受限 制的流动"^f组件。图7示出本发明的又一实施例，其对应于图1中的实施例，其中t背子组 件的底部部分已经^L^改为弯曲形状。这可以祐表示为对应于半球部分(或任 何其它圆形)压制部件。本发明的 组件表面也可以在必要时用包拾凃层、抛光、添加凸脊或凹 槽的常规表面处理法来加工和/或磨光。本发明提供超itt^技术顿组件的多种优点。 一个优点是相比贿t觜 组件在^^效率方面有很大增益。怖的糾几何形状不需要碰撞其它表面， JJM免了腐蚀和昂贵的校准。本发明也可以为喻觜子组件201 (包括盖板251 ;M目联的支架，如果有的话)相对于于下部壳体250提供调整。喷嘴子组件201 关于下部壳体的轴向运动是通过用于调节子组件201的轴向位置的W^M^ (未示出)而实现的。这些^^L构通常可以包旨组件安装于其上的轴;5U多 动该轴的机构。通i^目对于下部壳体调节子组件，随后可以改变接近下部壳体 250的外部管203的尺寸并因此改变通过该管的流率。这将为即将发生的M 提供调整机构。具有可动子组件的该实施例的一个优点是可在线调节最外部射 流的横截面面积。可在线调节'Ii4示在不iH干^t行中的流程的情况下作出 调整的能力。在^L^生产法中，可在线调节性考虑到频，整喻嘴，例如在^t的最外部排出点处的最^降或J5lt^,另一个优点是^的工业化生产调 节能力。可调节'树某些^綠可以允许较宽的工作狄范围。另一伟点PM所安装的，组件相对于下部壳体250、经由其完整运动膝艮而冲击子组件。 ;USL^产的"^器组件可以为碎片或固体^定所堵塞'在下部壳体250上沖 击子组件201可以刮擦卡在最外部管中的碎片和沉淀，如^4该管位置处没有 尖齿的话。，组件制ii^安装简易，它的制it^r法是电逸坎电加工，其为一种可广 泛利用的一种技术。用于制it^发明的装置的怖子组件的一方法将通常包括 以下步骤(a)提供初步加工成品(b)电统故电加工所述初加工成品，外壳可以 用常规加工制得。 一个另外的优点是没有连续移动或旋转的部件，因M免了 该系统的任何Wfe^损。本发明对'^it^^至关重要的高速化学反应尤为有用。因此，本发明作为 光气^^前的反应器用于制M氰酸酯是有用的。在这个实施例中，流经内路 径的流体是一种伯胺，任^^解在一溶剂中。在这个实施例中，流经外#的流体是碳酰氯，^i^k^解在一溶剂中。因此，本发明对制造树异氰酸酯 是有用的，且可以例如从芳香族(aromatic)聚亚安酯、脂肪族(aliphatic)聚 亚安酯、脂环族(cycloaliphatic)聚亚安酯、和芳基脂肪族(araliphatic ) 聚亚安酯中选取。，组件考虑到最小化在反应中使用的过量碳酰氯，或者具有更高〉V^浓 度或更高输出。^^浓度指的是在溶剂内的胺和包括将i^^到t觜的胺^^ 的浓度。如已知技术，有可能单独地循环利用溶剂、碳酰氯、和异氰酸酯的溶液， 或者将它们一起循环回到碳酰氯流中。在一个实施例中，优J^i是不重复^^1尤其是制成了诸如亚甲基二苯基二异氰酸酯(methylene diphenyl diisocyanate) (MDI)的芳香族^Jt安酉旨(aromatic polyisocyanates)(例如 其2，4'-、 2，2'-， 4，4'-异构体和它们的濕合物)，及亚甲^苯^=>异氰酸酯 (MDI)与它的在本领域中称为"天然的"或聚合的MDI (亚甲^苯^异 氰酸酯)的、具有大于2的异氰酸酯官肖yL的a子量聚合物(oligomer)的混 #，曱^Ji异氰酸酯(toluene diisocyanate) (TDI)(例如2，4-、 2， 6-异 构体和它们的混合物)，1， 5-萘二异氰酸酯(naphthalene diisocyanate)和 1,4-二异氰酸苯酉旨(diisocyanatobenzene) (PPDI)。可以得到的其它有机聚
亚安酯(organic polyisocyanate)包括脂肪族聚亚安酯(aliphatic diisocyanate)诸如异佛尔酮二异氰酸酉旨(isophorone diisocyanate) (IPDI) ， 1， 6-二异氰酸己烷(diisocyanatohexane)和4， 4'-二异氰酸酯3 己基曱烷(diisocyanatodicyclo-hexylmethane)(麵I)。还有可以制造的 其它异氰酸酯是二曱苯二异氰酸酯(xylene diisocyanate)，异氰酸苯酯 (pheny 1 i s ocyana t e)。如絲必要，本发明的喷嘴组件的几何形状可以适合于待制造的特定异氰 酸酯。定期测试4ff吏本领域的^""技"员能确定间隙及长度、以及运转状态 的最优值。本发明的喷嘴组件可以;陂用在经典的连续搅拌槽反应器中(有或无挡 板)。该喷嘴组件可以处于蒸汽域中或^^没。本发明的喷嘴组件可以在最小 的改造情况下用于所有5W设备，因此节省了成本。还有，本发明的喷嘴组件 可以用于^^可种类的反应器中；例如该《^觜组件可以被安^^装设有叶#挡 板的一旋转^器底部，或是會觜组件到可以^iUl]作转子/定子类反应器中的 一种注射装置。工艺#^*是那些通常使用的。碳酰氯与胺的摩尔比率通常是过量的并 从1.1:1到10: 1,优i^fe是从1. 3:1到5:1。 一种溶剂通常用于胺和碳酰氯。 典型的溶剂是氯化芳基(chlorinated aryl)和)^芳基(alkylaryl)诸如单氯 苯(monchlorobenzene) (MCB)， o-和p-二氯苯(o-和p-dichlorobenzene)， 三氯苯(trichlorobenzene)和相应的甲苯(toluene) 、 二曱苯(xylene)、曱 苯(methylbenzene )、萘球(naphthalene)、和本领域中已知的许多其它诸如 曱苯(toluene) 、 二曱苯(xylene)、硝基苯(nitrobenzene)、酮(ketone)、 及酯(ester)。胺^給浓度可以是从5到40wt。/。而碳酰氯浓度可以是从40到 100wt%。胺流的温度通常由40到80。C组成而碳酰氯流的温度通常由-20到0 。C组成。该工艺在通常^大气压到100磅/平方英寸表压的压力时(在混合 区处)实施。也有可能4吏用一个或多个其它反应器(尤其^1连续搅拌槽反应器)以完成 反应。在用于制造异氰酸酯的工艺中，还有可能使用若干典型单元，用于循环 利用溶剂和/或过量碳酰氯、去除盐酸和将盐酸循环回收为氯，等等。 范围
权利要求
1、一种用于混合至少第一和第二流体的装置，包括(a)第一喷嘴，包括限定第一流室的第一流管，且具有带第一排出口的第一喷嘴头；和(b)第二喷嘴，包括限定第二流室的第二流管，且具有带第二排出口的第二喷嘴头；其中所述第一流管及所述第二流管彼此螺旋式缠绕；其中在操作所述装置期间，在第一流室中流动并经由第一排出口流出的第一流体形成第一流体射流，在第二流室中流动的第二流体在第二排出口处形成第二流体射流，所述第一及第二流体射流相互碰撞，由此混合第一和第二流体。
2、 如权利要求1所述的装置，其中所述第一流管和所述第二流 管根据一阿基米德性螺线(Archimedean spiral)彼此螺旋式缠绕到对方 U。
3、 如权利要求1所述的装置，其中所述第一流管和所述第二流 管根据一阿基米德螺旋线(Archimedes' spiral)彼此螺旋式缠绕到对方 U。
4、 如权利要求1所述的装置，其中逐渐变细的所述第一及第二 喷嘴限定了第 一及第二流管。
5、 如权利要求4所述的装置，其中锥角从装置内部到装置外部 增加。
6、 如权利要求l、 2或3所述的装置，其中所述第一流管和所述 第二流管彼此螺it式缠绕到对方之上，由此形成1到20个转弯。
7、 如权利要求6所述的装置，由此形成1.05到1.5个转弯。
8、 如权利要求6所述的装置，由此形成3到10个转弯。
9、 如权利要求l所述的装置，其中所述第一流室具有沿第一流管朝 第一排出口显著减小的各尺寸。
10、 如权利要求1所述的装置，其中所述第二流室具有沿第二流管 朝第1,出口显著减小的各尺寸。
11、 如权利要求1所述的装置，其中所述第二流室具有从螺放式巻 绕管的夕卜部到内部而显著减小的各尺寸。
12、 如任一前迷权利要求所述的装置，还包括在第一或第二流室 上的一流体盖，用于分别切向进给所述第一或第二流体。
13、 如任一前述权利要求所述的装置，是大致圆形的。
14、 一种大致圆形的装置，用于混合至少第一和第二流体，包括 U)第一喻货，包括限定第一流室的第一流管，且具有带第一排出口的第一喻嘴头；和(b)第二喻嘴，包括限定第二流室的第二流管，且具有带第-= #出口的 第二喻嘴头；其中根据具有1到20个转弯的一阿基米德性螺线(Archimedean spiral)，所述第一流管及所述第二流管;NUb螺威式缠绕，且其中所述第一及 第二< ，变细；其中在操作所#置期间，在第一流室中流动并经由第一排出口流出的第 一流体形成笫一流体射流，在第二流室中流动的第二流体在第二排出口处形成 第二流体射流，所述第一及第二流体射; j^目互碰撞，由此混合第一和第二流 体。
15、 如权利要求14所述的装置，其中逐渐变细的所述第一及第 二喷嘴限定了第一及第二流管，同时锥角从装置内部到装置外部增 加。
16、 如权利要求14所述的装置，其中所述第一流管和所述第二 流管to匕螺旋式g到对方之上，由此形成1. 05到1. 5个转弯。
17、 如权利要求14所述的装置，其中所述第一流管和所述第二 流管to螺放式缠绕到对方^Ji，由此形成3到10个转弯。
18、 如权利要求14所述的装置，其中其中所述第一和第二流室分别 具有沿第一和第二流管朝第一和第二浙出口显著减小的各尺寸。
19、 如权利要求14所述的装置，其中所迷第二流室具有从螺旋式巻 绕管的夕卜部到内部而显著减小的各尺寸。
20、 如权利要求14所述的装置，其中所述第一排出口和所述第 二排出口被厚度不超过每个所述排出口尺寸的一壁所隔离。
21、 如权利要求14所述的装置，还包括在第一或第二流室上的 一流体盖，用于分别切向进给所述第一或第二流体。
22、 用于混合至少第一和第二流体的工艺，包括以下步骤 (a)形成第一流体射流，其在第一排出位置由第一流体组成； (b) 形成第二流体射流，其在第二排出位置由第二流体组成；和(c) 使各流体射流彼此螺旋式巻绕，从而使得所迷第一及第二 流体射流相互碰撞，由此混合第一及笫二流体，
23、 如权利要求22所述的工艺，其中使每条流体射流彼此螺旋 式巻绕的所述步骤是根据一条阿基米德性螺线(Archimedean spiral)。
24、 如权利要求22所述的工艺，其中使每条流体射流彼此螺旋 式巻绕的所述步骤是根据一条阿基米德螺旋线(Archimedes' spiral )。
25、 如权利要求22所述的工艺，其中使每条流体射流彼此螺旋 式巻绕的所述步骤包括形成1到20个转弯。
26、 如权利要求22所述的工艺，其中所述第一流体射流和所述 第二流体射流是巻曲的。
27、 如权利要求22所述的工艺，其中该第一流体包括一种胺且 该第二流体包括碳酰氯，或者该第一流体包括碳酰氯且该第二流体包 括一种胺。
28、 用于混合至少第一和第二流体的工艺，包括以下步骤(a) 形成第一流体射流，其在第一排出位置由第一流体组成；(b) 形成第二流体射流，其在第二排出位置由第二流体组成；和(c) 根据具有1到20个转弯的一阿基米德性螺线(Archimedean spiral)，使各流体射;ML此螺旋式巻绕，从而使得所述第一及第二流体射流相^ 雄，由此^^第一;s^二流体。
29、 如权利要求28所述的工艺，其中所述阿基米德螺旋线 (A^chimedes, spiral)具有1. 05到1. 5个转弯。
30、 如权利要求28所迷的工艺，其中所述阿基米德性螺线 (Archimedean spiral)具有3至!] 10个转弯。
31、 如权利要求28所述的工艺，其中所述第一流体射流和所述 第二流体射流是巻曲的。
32、 如权利要求28所述的工艺，其中该第一流体包括一种胺且 该第二流体包括碳酰氯，或者该第一流体包括碳酰氯且该第二流体包 括一种胺。
33、 用于制造异氰酸酯的工艺，包括如在权利要求27中所限定 的混合工艺，随后的步骤是使混合的胺和^J^A反应，
34、 用于制造异氰酸酯的工艺，包括如在权利要求32中所限定 的混合工艺，随后的步骤是使混合的^碳^t^反应。
35、 如权利要求33所述的工艺，用于制造从一组中选取的一种 异氰酸酯，该组包括亚曱J^:苯fci异氰酸酯和它的聚^^f生物、曱t异 氰酸酯、1， 5-p^lL酸酯、1， 4-二^酸苯酯、二曱^ji异氰酸酯、异氰酸 苯酯、^#尔酮二异氰酸酯，1，6-二异氰酸己^4，4'-二异氛酸酯^Sf、己基 曱烷。
36、 如权利要求34所述的工艺，用于制造从一组中选取的一种 异氰酸酯，该组包括亚曱P苯J^异氰酸酯和它的聚合衍生物、甲t异 氰酸酯、1，5-^i异氰酸酯、1，4-二异氰酸苯酯、二甲仁异氰酸酯、异氰酸 苯酯、##尔酮二异氰酸酯，1,6-二絲酸己錄4，4'-二异氰酸酯J3f己基 甲烷。
37、 如权利要求l所述的装置，还包括由装设有尖齿的可动支架 所组成的一清洁装置。
38、 如权利要求l所述的装置，其中喷嘴子组件的主体部分已经 净U改为弯曲形状。
全文摘要
一种用于混合至少第一和第二流体的装置，包括(a)第一喷嘴，包括限定第一流室的第一流管，且具有带第一排出口的第一喷嘴头；和(b)第二喷嘴，包括限定第二流室的第二流管，且具有带第二排出口的第二喷嘴头；其中所述第一流管及所述第二流管彼此螺旋式缠绕到对方之上。本发明也提供了一种用于混合若干流体的工艺，尤其适用于制造异氰酸酯，且值得注意的是其在本发明的装置中执行。
文档编号B01F5/00GK101155627SQ200680011474
公开日2008年4月2日 申请日期2006年3月6日 优先权日2005年4月8日
发明者J·L·阿尔布赖特, N·A·格罗布 申请人:亨茨曼国际有限公司