在气体处理系统内利用涡轮系统的系统和方法与流程

本申请要求2013年10月28日提交的美国临时专利申请第61/896,255号的题为“Control System for a Turbine Based Level Control in Amine Gas Processing(胺气体处理中用于基于涡轮的液位控制的控制系统)”以及2014年10月27日提交的美国非临时专利申请第14/525,081号的题为“Systems and Methods for Utilizing Turbine Systems within Gas Processing Systems(在气体处理系统内利用涡轮系统的系统和方法)”的优先权和权益，为各种目的，两者的全部内容通过引用纳入本文。

背景技术：

这部分意在为读者介绍可能与以下所描述和/或限定的本发明的各方面相关的技术的各方面。相信此讨论有助于为读者提供背景信息以便于更好理解本发明的各方面。因此，应理解，这些陈述应以此而非作为对现有技术的认可来阅读。

本文公开的主题内容涉及涡轮系统，更具体地，涉及在诸如酸性气体去除系统之类的气体处理系统内控制流体的工作参数的系统和方法。

在各种工业应用中，高压反应容器可用于各种气体处理应用。例如，在各种石油化工应用、天然气处理应用和其他工业处理工厂应用中，酸性气体去除系统可利用高压反应容器(例如，高压反应容器)来去除期望的气体中的酸气成分。实际上，来自天然容器的天然气可包含变化数量的酸气(例如，二氧化碳、硫化氢等)。高压反应容器对去除天然气中的酸气成分可能是有益的，有助于减少酸气对这些工业系统或在工业系统内部的作用。

在某些情况下，液体溶剂可离开高压反应容器，并可被处理，之后作为反应物回到高压反应容器。例如，液体溶剂可经过减压机构，减压机构调整以控制高压反应容器内的液位。在酸性气体去除系统内，调整离开高压反应容器的液体溶剂的各种工作参数，以有助于提供从馈送气体中去除酸气成分的连续系统。在某些情况下，在酸气成分从馈送气体中分离之前或之后，液体溶剂的压力和温度增加或减小。然而，可改进诸如减压机构之类的总地被用作控制液体溶剂的工作参数的机构，以增加效率并恢复损失的能量。因此，提供用于改进在各种工业过程内用于控制离开高压反应容器的液体溶剂的工作参数的机构的系统和方法是有益的。

附图说明

当参考附图阅读以下的详细描述时，会更好地理解本发明的各种特征、方面和优点，各附图中相同字符代表相同的部分，其中：

图1是酸性气体去除系统的实施例的示意图，示出了配置为从高压反应容器接收高压流体的涡轮系统；

图2是图1中的涡轮系统的实施例的示意图，其中，涡轮系统包括辅助喷嘴阀、旁通阀和节流阀；

图3是图2中的涡轮系统的节流阀的实施例的示意图，其中节流阀设置于涡轮系统内的不同位置；

图4是图2中的涡轮系统的实施例的示意图，其中，涡轮系统的一个或多个阀联接至监控/分析系统；以及

图5是设置在图2中的涡轮系统内的涡轮的实施例的立体图。

具体实施方式

下面将描述本发明的一个或多个具体实施例。所描述的这些实施例仅为本发明的示例。此外，在提供这些示例性实施例的精确描述的努力中，可能不在说明书中描述实际实施的所有特征。应理解，就像任何工程或涉及项目那样，在任何这样的实际实施的开发中，必须制定大量的具体实施决策，以达到开发者的具体目标，诸如符合在不同实施中可能有变化的、相关系统和相关商业的限制。此外，应理解这种开发工作可能是复杂且耗时的，但对于能从本发明中受益的本领域技术人员却是设计、制作和加工的常规任务。

在引入本发明的各实施例的元件时，冠词“a”、“an”、“the”和“said”意在表示有一个或多个元件。术语“comprising”“including”和“having”意在为包含性的并表示可能有除所列元件外的额外元件。

本文描述的实施例总地与在各种气体处理技术中利用高压反应容器的工业应用相关。例如，在各种石油化工应用、天然气处理应用和其他工业处理工厂应用中，高压反应容器可被用于以液体溶剂处理期望的气体。具体地，这些工业系统中的高压反应容器的液位可被调节和监控。例如，在某些实施例中，液体溶剂可从高压反应容器中去除，并经过减压阀后，作为反应物回到高压反应容器。此外，通过监控和调节从高压反应容器中去除的液体溶剂的量，减压阀可配置以调节高压反应容器的液位。然而，可改进诸如减压机构之类的总地被用作控制液体溶剂的工作参数的机构，以增加效率并恢复损失的能量。因此，提供配置为控制或调节从高压反应容器离开的液体溶剂的工作参数的涡轮系统是有益的。

应注意，在示出的示例、描述和实施例中，酸性气体去除系统被用作具有配置为调节从高压反应容器离开的液体溶剂的工作参数的涡轮系统的工业系统的示例。然而，本文描述的实施例、系统和方法总地可应用于任何工业过程，通过该过程液体溶剂被送出高压反应容器。此外，本文描述的这些实施例、系统和方法总地可应用于任何工业过程，其中液体溶剂被送出高压反应容器，并经过配置为控制高压反应容器内的液位的减压阀。

考虑到上述内容，酸性气体去除系统可为具有配置为调节从高压反应容器离开的液体溶剂(例如，液体流、液体流出物等)的工作参数的涡轮系统的工业系统的示例。此外，通过控制或调节从高压反应容器中去除以进一步处理的液体溶剂的量，涡轮系统可配置以调整高压反应容器的液位。酸性气体去除系统可用于各种工业应用中，诸如石油化工或化学应用、天然气处理应用、工业工厂应用等。具体地，酸性气体去除系统可包括具有涡轮的涡轮系统以及配置为控制酸性气体去除系统内的液体溶剂流的一个或多个阀。此外，当液体溶剂流通过酸性气体去除系统处理时，涡轮系统可帮助调节液体溶剂流的压力和压降。以此方式，涡轮系统可配置为代替酸性气体去除系统内典型地用于期望的液体的减压的其它机构，例如为减压阀。

酸性气体去除系统可总地被用于去除期望的馈送气体中的酸气成分，因而将馈送气体转化为基本无酸气成分的洁净气体(例如，低硫气体)。例如，原始的天然气为源自天然气容器的期望的馈送气体类型，天然气容器可包括各种酸气，诸如二氧化碳或硫化氢。酸性气体去除系统可配置为去除天然气的酸气成分，以有助于减少酸气对工业系统或过程的作用。典型地，酸性气体去除系统使用涉及各种液体溶剂(例如，烷基胺、胺)的水溶液的一系列处理，以去除酸气成分。具体地，溶剂的水溶液在高压(例如，大致在1000psi至1500psi之间)和相对低的温度(例如)下吸收期望的馈送气体的酸气成分。类似地，溶剂的水溶液在低压(例如大致接近大气压力)和相对高的温度(例如)下释放酸气成分。因此，酸性气体去除系统典型地包括再使用溶剂的水溶液的循环过程。例如，在高压反应容器内的高压(例如，大致在1000psi至1500psi之间)和相对低的温度(例如)下，诸如天然气之类的期望的馈送气体的酸气成分与溶剂溶液接触，这导致溶剂溶液吸收酸气成分并形成洁净(例如，低硫的)的馈送气体。低硫气体由酸性气体去除系统产生。此外，吸收了酸气成分的溶剂溶液(例如，高压富溶剂流体流)可在高压和低温下从高压反应容器离开。降低高压富溶剂流体的压力并增加高压富溶剂流体的温度可有助于分离吸收了酸气成分的高压富溶剂，因而允许溶剂流体流再循环进入高压反应容器。典型地，在某些酸性气体去除系统和情况下，可利用减压阀减小高压富溶剂流体的压力。然而，减压阀不可利用随富溶剂流体的压降而生成的能量，因而导致了效率的损失。

如上所述，在本文描述的实施例中，涡轮系统可配置为有助于减小高压富溶剂流体的压力。如以下进一步描述的，实际上在某些情况下涡轮系统可设置为有助于取代各种酸性气体去除系统内的减压阀。具体地，涡轮系统可配置为恢复一部分在富溶剂溶液的压力减小时生成的压力能量，且可将该压力能量转化为旋转机械能量。在某些实施例中，旋转机械能量可在酸性气体去除系统和/或工业系统中利用和/或转化为其它形式的能量。例如，由涡轮系统生成的旋转机械能量可用于驱动泵，以对系统内的额外的过程流体加压、用于通过驱动发电机而转化为电能、或可在酸性气体去除系统内以任何其它方式被使用。

考虑到上述内容，图1是带有涡轮系统12的酸性气体去除系统10的实施例的示意图。如对于图2－5所进一步描述的，涡轮系统12包括涡轮10(例如，液压涡轮、液体涡轮等)和一个或多个阀。如上所述，具体地，如以下进一步详细描述的，涡轮系统可配置为取代设置于酸性气体去除系统内的减压阀14。此外，当本文总地根据具体类型的酸性气体去除系统(例如，利用溶剂的水溶液的天然气处理)描述系统和方法，应注意所描述的技术和机构可用于任何酸性气体去除系统10。例如，本文描述的实施例可用于具有可被涡轮系统12取代的减压阀14的任何酸性气体去除系统10。如上所述，实际上利用涡轮系统12取代减压阀14可有助于增加系统10的效率，且可有助于恢复一部分生成的能量并将生成的压力能量转化为旋转机械能量。

在某些实施例中，酸性气体去除系统10包括向高压反应容器18的基部17提供的期望的馈送气体16。馈送气体16可为任何类型的包括酸气成分(例如，酸性气体)的气体。例如，馈送气体16的类型可包括源自自然地质储器的天然气(例如，乙烷、丙烷等)、合成气或总地带有酸性气体成分的任何类型的气体。馈送气体16的酸气成分可包括二氧化碳、硫化氢、硫醇(例如，甲硫醇、乙硫醇等)等。在某些实施例中，馈送气体16可在大致300psig至2200psig之间的压力下进入高压反应容器18。此外，当馈送气体16进入高压反应容器18时，馈送气体16的温度可大致在26摄氏度至38摄氏度之间。此外，酸性气体去除系统10包括在总体低温下总地接近高压反应容器18的顶部19提供的贫溶剂溶液20(例如，贫溶剂水溶液、贫溶剂溶液、水基贫溶剂溶液等)。在某些实施例中，当贫溶剂溶液20进入高压反应容器18时，贫溶剂溶液20的温度可大致在32摄氏度至43摄氏度之间或大致在38摄氏度至49摄氏度之间。实际上，在某些实施例中，为有助于避免馈送气体16中的较重成分的浓缩，贫溶剂溶液20的温度可为30摄氏度至50摄氏度之间的任意高于馈送气体16温度的温度。随着馈送气体16在高压反应容器18内沿向上方向22移动，馈送气体16在放热过程中与贫溶剂溶液20接触。

因此，在某些实施例中，贫溶剂溶液20在放热过程中受热，且随着贫溶剂溶液20在高压反应容器18内沿向下方向24移动，馈送气体16的酸气成分可从馈送气体16传递至贫溶剂溶液20。以此方式，低硫气体26(例如，洁净气体26)离开高压反应容器。具体地，低硫气体26可为无酸气成分的期望的馈送气体16。此外，贫溶剂溶液20吸收酸气成分，且在高压(例如，大致在1000psi至1500psi之间)和总体高温(例如，大致在55摄氏度至65摄氏度之间)下作为高压富溶剂28离开高压反应容器18。如上所述，将酸性气体去除系统10内的溶剂溶液回收并再循环是有益的。因此，在某些实施例中，高压富溶剂28被进一步处理，将酸气成分分离，以生成贫溶剂溶液20。因此，在某些实施例中，高压富溶剂28可减少以分离酸气成分。同样，在某些实施例中，高压富溶剂28的温度可增加以分离酸气成分。

如对于图2－4进一步描述的，涡轮系统12可配置为减小高压富溶剂28的压力。例如，在某些实施例中，高压富溶剂28的压力可减小至大致在25psig至100psig之间。由此，从涡轮系统12离开的低压富溶剂30可被引导至膨胀箱(flash tank)32。膨胀箱32可配置为膨胀并恢复低压富溶剂30的期望的成分，诸如任何剩余烃气体。此外，低压富溶剂30可接着被引入热交换器34，并进一步至下游处理36。下游处理36配置为分离酸气成分的低压富溶剂30。在某些实施例中，下游处理36可包括再生回路，其中随热量的施加，酸气成分从中分离来生成贫溶剂溶液20。在某些实施例中，热交换器34配置为在进入热交换器34的低压富溶剂30与离开下游处理单元36的贫溶剂溶液20之间进行热交换。此外，离开热交换器34的贫溶剂溶液20进入贫溶剂泵38，该泵配置为增加贫溶剂溶液20的压力至高压反应容器18的压力(例如，从大致在25psig至100psig之间至大致在1000psig至1200psig之间)。之后，在贫溶剂阀40配置为打开时，贫溶剂溶液20被引导回到高压反应容器18。在某些实施例中，增加贫溶剂溶液20的压力所需的能量可源自由涡轮系统12生成的能量。

图2是图1中的涡轮系统12的实施例的示意图，其中，涡轮系统12包括涡轮42以及一个或多个阀44。在所示实施例中，阀44包括辅助喷嘴阀46、旁通阀48和节流阀50。具体地，阀44可配置为调节从高压反应容器18离开并引入涡轮42的高压富溶剂28的流量。应注意，酸性气体去除系统10内的溶剂再循环过程的控制可通过控制贫溶剂溶液20的流量和离开高压反应容器18的高压富溶剂28的流量来调节。以此方式，涡轮系统12可配置为通过调节离开高压反应容器18的流量并向离开高压反应容器18的流量提供阻力而有助于控制酸性气体去除系统10的总体过程。实际上，阀44可同时工作，以并行控制和/或调节离开高压反应容器18的高压富溶剂28的流量和进入涡轮42的高压富溶剂28的流量。

在某些实施例中，高压富溶剂28可从高压反应容器18直接引出并通过引向涡轮42的主喷嘴54(例如，主要喷嘴54)的主流动路径52引入涡轮42，。实际上，主喷嘴54对于离开高压反应容器18的高压富溶剂28的流体可持续打开，而没有任何元件配置为限制或控制该流量。在某些实施例中，增加离开高压反应容器18并进入涡轮42的流量可能是需要的。在这些情况下，辅助喷嘴阀46可打开或接合，以增加进入涡轮42的流量。例如，在某些情况下，辅助流动路径56可从主流动路径52分支并引导一部分高压富溶剂通过辅助喷嘴阀46进入辅助喷嘴58。当辅助喷嘴阀46完全打开时，涡轮42可配置为接收离开的高压富溶剂28的最大量。应注意，在某些实施例中，辅助喷嘴阀46可部分打开，因此一定量的高压富溶剂28从高压反应容器18移除且被引入涡轮42。如上所述，引入涡轮42的高压富溶剂28的量可取决于酸性气体去除系统10的总体再循环过程的期望的工作参数。例如，当高压反应容器18内的液位增加超过可接受的极限时，为了控制高压反应容器18内的液位，可能需要从高压反应容器18移除更大量的高压富溶剂28。

在某些实施例中，涡轮系统12可配置为应对更宽范围的流量容量。例如，在某些情况下，涡轮系统12可配置为应对离开高压反应容器18的额外流量，诸如流量超过主流动路径52和辅助流动路径56可应对的最大流量。在这些情况下，旁通阀48可完全地或部分地打开，以应对离开高压反应容器18的高压富溶剂28的过量流。具体地，旁通流动路径60可从主流动路径52分支，以将一部分高压富溶剂28从高压反应容器18直接引导至涡轮42的下游的流动路径。高压反应容器18可包括出口21，高压富溶剂28通过出口21离开高压反应容器18。在某些实施例中，旁通流动路径60可将高压富溶剂28引至涡轮42和节流阀50的下游的离开流动路径。在某些实施例中，节流阀50也可用于改进涡轮系统12可操控的流量范围。例如，在某些情况下，涡轮系统12可配置为应对较小流量，诸如降至主流动路径52被配置为能应对的最小流量以下的流量。在这些情况下，节流阀50可完全地或部分地关闭，以应对离开高压反应容器18的高压富溶剂28的衰减流量。例如，关闭节流阀50可有助于在涡轮系统12内提供额外的阻力。如上所述，涡轮42总地配置为减小高压富溶剂28的压力，并通过涡轮出口59输出低压富溶剂30至离开流动路径62。

在某些实施例中，多个辅助喷嘴阀46、辅助流动路径56和辅助喷嘴58可随涡轮42提供和配置。例如，一个或多个辅助喷嘴阀46(例如，2个、3个、4个、5个、6个或更多个)、相应的辅助流动路径56和辅助喷嘴58可随涡轮42配置。此外，应注意在某些情况下，酸性气体去除系统10内可设多个涡轮系统12(例如，2个、3个、4个、5个、6个或更多个)。在这些情况下，离开高压反应容器18的主流动路径52可分为多个主流动路径52。多个主流动路径52中的每个可被引向多个涡轮系统12中的特定涡轮系统12。

图3是图2中的涡轮系统12的节流阀50的实施例的示意图，其中节流阀50设置于涡轮系统12内的不同位置。例如，如上对于图2所述，节流阀50可沿离开路径62设置在涡轮42的下游和在旁通流动路径60与出口59之间的第一联结点64的上游。在其它实施例中，节流阀66可沿离开流动路径62设置在涡轮42和联结点64的下游。在某些实施例中，节流阀68可设置在高压反应容器18的下游和在主流动路径52与旁通流动路径60之间的第二联结点70的上游。此外，在某些实施例中，节流阀72可设置在第二联结点70的下游、涡轮42的上游，且在主流动路径52和辅助流动路径56之前的第三联结点73的上游。在其它实施例中，节流阀72可设置在第二联结点70的下游、涡轮42的上游，且在第三联结点73的下游。

在某些实施例中，节流阀50或66可配置为通过限制从涡轮42离开的流量而增加涡轮系统12内的阻力，因而向涡轮系统12提供了应对低流量分布的机构。节流阀68和72可配置为增加阻力并限制来自高压反应容器18的高压富溶剂28的流量。此外，应注意，节流阀50、66、68和72可结合使用，从而以期望的方式调节并引导高压富溶剂28的流量。例如，在某些实施例中，节流阀可关闭以限制至涡轮42的高压富溶剂28的流量，且可引导高压富溶剂28至离开流动路径62。应注意，在其它实施例中，为了有助于涡轮系统12应对更宽范围的流量分布，任何数量的阀44可设置在涡轮42的上游或下游。此外，如对于图4进一步描述的，还可将额外的机构设于带有高压富溶剂28流量的另一有细微差别的控制的涡轮系统12。

图4是图2中的涡轮系统的实施例的示意图，其中，涡轮系统12的一个或多个阀联接至监控/分析系统74。监控/分析系统74可包括控制器76，控制器76与显示器78、一个或多个处理器80以及存储器82联接。控制器76可配置为与涡轮系统12的诸如一个或多个阀44或一个或多个传感器75之类的一个或多个部件通信并从中收集信息。例如，在某些实施例中，控制器76可配置为调节和控制涡轮系统12的一个或多个工作参数。

在某些实施例中，处理器80可包括一个或多个处理设备，且存储器82可包括一个或多个有形的、非暂时性的、机器可读的介质，该介质总地存储可由处理器80执行的指令，以执行本文所述的方法和控制动作。

这样的机器可读介质可为任何可由处理器获取或可由任何通用计算机或专用计算机或其它带有处理器的机器获取的介质。示例地，这样的机器可读介质可包括RAM、ROM、EPROM、EEPROM、CD-ROM，或其它光盘存储、磁盘存储或其它磁性存储装置，或可用于以机器可执行指令或数据结构的形式承载或存储期望的程序代码的、且能被处理器访问或被任何通用计算机或专用计算机或其它带有处理器的机器访问的任何其它介质。当信息在网络或另一通信连接(或硬线的、或无线的、或硬线与无线的结合)中向机器传递或提供时，机器适应地将该连接视为机器可读介质。因此，适应地将任何这种连接称为机器可读介质。上述内容的组合也包括在机器可读介质的范围内。机器可执行指令包括，例如，导致处理器或任何通用计算机、专用计算机或专用处理机器执行特定功能或功能组的指令和数据。

例如，在某些实施例中，控制器76可配置为与联接至一个或多个阀44中的每个的电致动器、开关(例如，霍尔开关、电磁开关、继电器开关、限位开关)等通信。以此方式，控制器76可配置为基于期望的遍布酸性气体去除系统10的流量分布而打开、关闭、部分打开、部分关闭任何阀44。此外，在某些实施例中，控制器76可配置为与遍布涡轮系统12和酸性气体去除系统10设置的各种传感设备75通信。传感设备75可包括流量计、温度传感器、振动传感器、间隙传感器、压力传感器或配置为感测酸性气体去除系统10的工作参数的其它传感器。例如，传感设备75可配置为感测高压富溶剂28、低压富溶剂30、贫溶剂溶液20、馈送气体16等的温度、压力、流动速率、反应速率等。在某些实施例中，传感设备75可设置在涡轮系统12内，诸如沿涡轮系统12的流动路径52、56、60或62设置。

在某些实施例中，具体类型的传感设备75可设置在酸性气体去除系统10的诸如高压反应容器18之类的其它部件内。例如，高压反应容器18可包括配置为监控高压反应容器18的各种工作参数的液位传递器84。在某些情况下，液位传递器84可配置为提供与压力机18内在贫溶剂溶液20与馈送气体16之间的放热过程相关的信息。由液位传递器收集并传递至控制器76的信息可包括与温度、压力、反应速率、生成的低硫气体26的量、生成的高压富溶剂28的量等相关的信息。具体地，液位传递器84和可设置在高压反应容器18内的各种其它传感设备75可用于确定从高压反应容器18引出的高压富溶剂28的量。

此外，基于从液位传递器84和/或其它传感设备75收到的信息或反馈，控制器76可配置为调节阀44，以获得期望的流量分布。例如，如果控制器76接收到信息(表明)从高压反应容器18引出的高压富溶剂的量大于主喷嘴54可应对的流量容量或流量限制，控制器76可配置为打开或部分打开辅助喷嘴阀46。类似地，如果控制器76接收到信息或反馈(表明)从高压反应容器18引出的高压富溶剂的量小于主喷嘴54可应对的流量容量或流量限制，控制器76可配置为关闭或部分关闭辅助喷嘴阀46。此外，如果控制器76接收到信息(表明)从高压反应容器18引出的高压富溶剂的量大于辅助喷嘴58可应对的流量容量或流量限制的大致10％－20％，控制器76可配置为打开或部分打开旁通阀48。类似地，如果控制器76接收到信息或反馈(表明)从高压反应容器18引出的高压富溶剂的量小于辅助喷嘴58可应对的流量容量或流量限制有大致10％－20％，控制器76可配置为关闭或部分关闭一个或多个节流阀50、56、68和72。应注意，在其它实施例中，也可利用其它类型的传感信息(例如液位传递器84的信息)，以提高涡轮系统12的总体效率的方式来控制阀44。应注意，所提供的与各阀44所应对的流量容量和限制有关的范围是作说明性目的的，且各阀工作的范围可依赖于期望的总体系统效率而变化。

例如，在某些情况下，诸如当涡轮系统12接收高压富溶剂28的量小于主喷嘴54的工作容量或限制时，可关闭旁通阀48，可关闭辅助喷嘴阀46，且可完全或部分地关闭节流阀50。如果控制器76接收的信息或反馈与高压反应容器18的输出的增加有关，各阀44可配置为打开，以接纳额外流量。例如，随着流量的增加，节流阀50可配置为打开，以使涡轮42能够输出低压富溶剂30的流。此外，取决于额外流量，辅助阀46和/或旁通阀48可配置为打开。

此外，应注意各阀44能以任何组合工作，且各阀44可具有重叠的工作范围。例如，在某些情况下，辅助喷嘴阀46可配置为在节流阀50完全打开前、在节流阀50配置为打开的同时或在节流阀50配置为打开后打开。类似地，旁通阀48可配置为在辅助喷嘴阀46完全打开前、在辅助喷嘴阀46配置为打开的同时或在辅助喷嘴阀46配置为打开后打开。

在某些实施例中，监控/分析系统74可允许操作者与酸性气体去除系统10交互。例如，监控/分析系统74的显示器78包括可被操作者用来接收传感信息或人工指令的人机界面(例如，HMI)。具体地，HMI可包括配置为从操作者接收信息或向操作者提供信息的使用者输入/输出(功能)。例如，在某些情况下，可配置操作者输入每个阀44的工作范围。此外，显示器78可用于显示从传感设备75接收的信息或大体与涡轮系统12或酸性气体去除系统10的任何部件相关的信息。

图5是设置在图2中的涡轮系统12内的涡轮42(例如，液体涡轮)的实施例的立体图。具体地，涡轮42包括配置为通过主要流体路径52直接接收高压富溶剂28的主喷嘴54。此外，涡轮42包括配置为通过辅助流体路径56接收高压富溶剂28的辅助喷嘴58，此过程由辅助喷嘴阀46调节。

本文通过附图中的示例示出了具体实施例并对这些具体实施例做了详细描述，而本发明可有各种修改和替代形式。然而，应理解本发明不意在限制于所公开的具体形式。而是，本发明覆盖了落入由以下所附权利要求所限定的本发明的精神和范围内的所有修改、等同物和替代物。