一种四氯化锗水解产物固液分离装置的制作方法

文档序号:12145993阅读:1138来源:国知局

本发明涉及半导体技术领域,特别是指一种四氯化锗水解产物固液分离装置。



背景技术:

锗具备多方面的特殊性质,在半导体、航空航天测控、核物理探测、光纤通讯、红外光学、太阳能电池、化学催化剂、生物医学等领域都有广泛而重要的应用,是一种重要的战略资源。

目前美国的锗储量全球第一,但由于主要以铅锌伴生矿为主,锗的产量受制于铅锌的产量,实际上并无增长潜力,而在中国,对稀有金属的整合之下,未来几年锗的产量将会逐步下降,预计控制在140万吨左右(2010年),相对产量的严格受限,社会对锗的需求显现出稳定增长的态势,尤其是太阳能电池、红外光学、光纤这三种行业对锗的需求增长最为明显,这也是现时主要应用锗的领域。另外,PET催化剂对锗的需求也稳定增长。我国供给了世界71%的锗产品,是全球最大的锗生产国和出口国,但由于我国高附加值深加工产品技术环节薄弱,导致内需相对有限,产品多以初加工产品出口为主。

在锗提取技术中,以锗精矿为原料,经过氯化蒸馏、复蒸、精馏、水解、过滤、烘干、煅烧得到高纯GeO2 产品。其中以四氯化锗精馏液与超纯水进行水解反应,以得到四氯化锗水解产物,需将所述四氯化锗水解产物进行离心过滤,得到二氧化锗和滤液,然而,目前将所述四氯化锗水解产物进行分离的手段仍有待改进。



技术实现要素:

本发明的目的是为了解决上述背景技术中所提到的问题,提供了一种分离效果好,分离彻底的四氯化锗水解产物固液分离装置。

为了实现上述目的,本发明的技术方案如下:

一种四氯化锗水解产物固液分离装置,包括分离筒体,所述分离筒体的顶端设置有电机,所述分离筒体内设置有旋转轴,所述旋转轴的顶端伸出所述分离筒体和所述电机连接,所述分离筒体上部设置有进料管,所述旋转轴上设置有多个叶片,所述多个叶片呈螺旋状均匀分布在所述旋转轴外壁上,相邻两个叶片之间形成分离室,所述分离室内设置有分离过滤筛板,所述分离过滤筛板上设置有多个筛孔,所述分离筒体底部左右两侧分别设置有第一出液管和第二出液管,所述分离筒体底部中间设置有固体排出管,所述分离筒体正下方设置有分别和所述第一出液体管、所述第二出液管和所述固体排出管对应的第一液体室、固体室和第二液体室。

优选的,所述叶片为旋式叶片。

优选的,所述分离筒体上设置有压力计。

优选的,所述叶片为翅片。

优选的,所述翅片的厚度为1.5~0.8mm。

优选的,所述翅片呈圆形、方形、螺旋形或针状。

与现有技术相比,本发明提供的四氯化锗水解产物固液分离装置,分离效果好,分离彻底。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1 为本实施例中的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

具体实施例:

结合图1所示的一种四氯化锗水解产物固液分离装置,包括分离筒体3,分离筒体3的顶端设置有电机1,分离筒体3内设置有旋转轴4,旋转轴4的顶端伸出分离筒体3和电机1连接,分离筒体3上部设置有进料管2,旋转轴4上设置有多个叶片6,多个叶片6呈螺旋状均匀分布在旋转轴4外壁上,相邻两个叶片6之间形成分离室,分离室内设置有分离过滤筛板5,分离过滤筛板5上设置有多个筛孔,分离筒体3底部左右两侧分别设置有第一出液管14和第二出液管9,分离筒体3底部中间设置有固体排出管11,分离筒体3正下方设置有分别和第一出液体管14、第二出液管9和固体排出管11对应的第一液体室13、固体室12和第二液体室10。

本实施例中,叶片6为旋式叶片。

本实施例中,分离筒体3上设置有压力计8,可以实时观测分离的离心旋转情况。

本实施例中,叶片6为翅片。

本实施例中,翅片的厚度为1.5~0.8mm。

本实施例中,翅片呈圆形、方形、螺旋形或针状。

本实施例工作时,将水解产物从进料管2进入分离筒体3,分离筒体3内的旋转轴4在电机1的带动下,离心旋转,对进入分离筒体3内的固液混合物进行分离,液体进入分离过滤筛板5,固体不能通过分离过滤筛板5,因此,固体在中间沉积,液体从筒体两侧的第一出液管14和第二出液管9进入第一液体室13和第二液体室10,固体物则从中间的固体排出管11进入固体室12,固液分离结束。

以上所述仅为本发明的较佳实施例,并不用以限制本发明,凡在本发明的保护范围内所作的任何修改、等同替换等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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