双碱法脱硫吸收塔的制作方法

文档序号:11117456阅读:810来源:国知局
双碱法脱硫吸收塔的制造方法与工艺

本发明属于环保领域,特别涉及一种双碱法脱硫吸收塔。



背景技术:

目前,现有的工业锅炉的烟气会产生硫和氮氧化合物,这些均是大气污染的主要物质,严重破坏了生态环境,危害了人体健康。

烟气脱硫的主要采用的方法有:酸法、碱法、石灰石- 石膏湿法、双碱法、氨法、金属氧化物法等, 其中双碱法烟气脱硫工艺因其是为了克服石灰石- 石膏湿法中脱硫塔容易结垢和堵塞的缺点发展而来的,其特点是塔内用可溶性的钠碱清液进行脱硫,然后塔外用石灰乳液进行再生行再生反应,反应后的浆液流入沉淀再生池沉淀,经再生池沉淀后的上液体由循环泵打入脱硫塔循环使使用。但是其占地面积大、运行费用高,设备不集成。



技术实现要素:

本发明提供了一种双碱法脱硫吸收塔,集烟气除硫和碱液再生为一体,设备一次性投资小、耗能小,脱硫效率高。

为了实现上述发明目的,本发明的技术方案是这样的,一种双碱法脱硫吸收塔,所述的吸收塔中心位置设置有上端开口,底端与吸收塔底壁相固定的内筒,所述的内筒上部为圆柱形的上筒,内筒下部为上小下大的圆锥形下筒,所述的上筒外设置有直径大于上筒直径的圆柱形的外罩,外罩通过支撑架与吸收塔内壁相固定,所述的外罩底部开口,外罩的顶部与内筒上端开口相对应的位置处设置有钠碱清液进口,上筒的顶端与外罩顶部之间有留有钠碱液流通通道;所述的圆锥形下筒外套有上大下小的圆锥形外筒,圆锥形外筒底端与吸收塔底壁相固定,圆锥形下筒的外壁与圆锥形外筒的内壁所围成的空间为V型沉淀区,所述的内筒底部设置有水平状态的钠碱液进管和竖直状态的烟气进管,V型沉淀区的上方设置有熟石灰浆液加料管。

为了进一步除去钠碱清液中的沉淀,所述的支撑架的上方设置有过滤层。

优选地,所述的烟气进管管口连接有旋风分布器,所述的旋流分布器包括主管和沿主管圆周呈发散状布置的支管,该支管与主管相连通,所述的支管上部沿着支管的轴向等间距设置有多个出气口。

所述的外罩下边缘向外弯折形成导流板。

为了排出V型沉淀区底部的沉淀,所述的V型沉淀区底部设置有排泥管。

有益效果:

1、本发明集烟气除硫和碱液再生为一体,设备一次性投资小、耗能小,脱硫效率高。

2、本发明充分利用旋流混合优点,最大化的提高了气液混合效率,从而提高了脱硫效率,同时还集斜管沉淀和过滤除沉淀为一体,回流至内筒的钠碱清液中几乎无亚硫酸钙和副产物硫酸钙等沉淀,使得再生的钠碱液反应活性高、吸收速度快,为良性循环,从另外一方面进一步提高了脱硫效率。

3、内筒下部的碱液与烟气混合反应,吸收了烟气中的二氧化硫后,在烟气的推力下上升,通过钠碱液流通通道,在重力的作用下,下降进入V型沉淀区,与熟石灰浆液反应,反应后的浆液经沉淀,上清液进一步经过滤层过滤后,通过钠碱清液进口溢流回至内筒内,整个过程无需压力泵,不但减少了设备投资,而且节省了能耗。

附图说明

图1是本发明的结构示意图。

具体实施方式

为了加深对本发明的理解,下面将结合实施例和附图对本发明作进一步详述,该实施例仅用于解释本发明,并不构成对本发明保护范围的限定。

参见图1所示,一种双碱法脱硫吸收塔,所述的吸收塔1中心位置设置有上端开口,底端与吸收塔底壁相固定的内筒,所述的内筒上部为圆柱形的上筒2,内筒下部为上小下大的圆锥形下筒3,所述的上筒2外设置有直径大于上筒直径的圆柱形的外罩4,外罩4通过支撑架5与吸收塔1内壁相固定,所述的外罩4底部开口,外罩4的顶部与内筒上端开口相对应的位置处设置有钠碱清液进口6,上筒2的顶端与外罩4顶部之间有留有钠碱液流通通道7;所述的圆锥形下筒外套有上大下小的圆锥形外筒8,圆锥形外筒8底端与吸收塔1底壁相固定,圆锥形下筒3的外壁与圆锥形外筒的内壁所围成的空间为V型沉淀区9,所述的内筒底部设置有水平状态的钠碱液进管10和竖直状态的烟气进管11,V型沉淀区的上方设置有熟石灰浆液加料管12,V型沉淀区底部设置有排泥管13。

为了进一步除去钠碱清液中的沉淀,所述的支撑架的上方设置有过滤层14。

优选地,所述的外罩下边缘向外弯折形成导流板15。

所述的烟气进管管口连接有旋风分布器,所述的旋流分布器包括主管和沿主管圆周呈发散状布置的支管,所述的支管与主管相连通,所述的支管上部沿着支管的轴向等间距设置有多个出气口。

烟气由烟气进管11进入吸收塔内,与通过钠碱液进管10喷出的碱液清液充分接触反应除硫后由烟囱排放,吸收了烟气中的二氧化硫后的钠碱液,在烟气的推力下上升,通过钠碱液流通通道7,在重力的作用下,下降进入V型沉淀区9,与通过熟石灰浆液加料管12进入V型沉淀区9的熟石灰浆液反应,反应后的浆液经沉淀,上清液进一步经过滤层14过滤后,通过钠碱清液进口6溢流回至内筒2内,脱硫效率达95%以上。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

当前第1页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1