一种复合式有机废气净化器的制作方法

本实用新型涉及废气处理用设备技术领域，具体为一种复合式有机废气净化器。

背景技术：

目前，普通采取喷淋吸收法的废气处理设备效率较低，去除有机废气只能达到70％左右而且有二次污染。且由于现在工业生产过程中产生大量的废气，所以对废气处理现在有很大的需求。现有的废气处理技术对废气的处理效果都不是很好，为此需要提供一种改进的有机废弃处理设备，使废气回收率提高，减少环境污染。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种复合式有机废气净化器，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种复合式有机废气净化器，其中，包括冷凝室、氧化反应室和二次处理罐,冷凝室左端连接有进气管，冷凝室通过管道与氧化反应室连接，所述氧化反应室通过管道与制氧装置连接，所述氧化反应室下端安装有二次处理罐，所述二次处理罐包括上层处理室和下层处理室，所述二次处理罐底端设有净气出口，且二次处理罐内部的上层处理室与下层处理室之间安装有支撑架。

优选的，所述冷凝室与氧化反应室之间的管道上安装有加压泵，所述制氧装置输氧管道下端安装有曝气管。

优选的，所述上层处理室内部设置有阳极架、绝缘架和阴极板，所述阳 极架和阴极板均安装在绝缘架上。

优选的，所述下层处理室内部设置有光触媒层、芯体支架和紫外线灯，所述光触媒层和紫外线灯均安装在芯体支架上，所述光触媒层和紫外线灯呈间隔布置。

优选的，冷凝室下端设置有排渣槽。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型通过设置冷凝室，预先除去废气中的颗粒杂质，再通过氧化反应室，使有机物发生氧化反应，得到洁净气体，且通过在氧化反应室内部安装曝气管，使反应更加彻底。通过二次处理罐，再次经过上层反应室，对未反应的气体进行二次处理，且处理后的气体经过紫外灯做出更进一步的处理，从而保证了排出气体的洁净度。

附图说明

图1为本实用新型一种复合式有机废气净化器的结构示意图；

图2为本实用新型一种复合式有机废气净化器氧化反应室的内部结构示意图；

图中：1-进气管；2-冷凝室；3-加压泵；4-制氧装置；5-管道；6-氧化反应室；7-二次处理罐；8-上层处理室；9-支撑架；10-下层处理室；11-净气出口；12-排渣槽；13-阳极架；14-绝缘架；15-阴极板；16-光触媒层；17-芯体支架；18-紫外线灯；19-曝气管。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通 技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-2，本实用新型提供的一种实施例：一种复合式有机废气净化器，包括冷凝室2、氧化反应室6和二次处理罐7，冷凝室2左端连接有进气管1，冷凝室2通过管道5与氧化反应室6连接，氧化反应室6通过管道5与制氧装置4连接，氧化反应室6下端安装有二次处理罐7，二次处理罐7包括上层处理室8和下层处理室10，二次处理罐7底端设有净气出口11，且二次处理罐7内部的上层处理室8与下层处理室10之间安装有支撑架9，冷凝室2与氧化反应室6之间的管道5上安装有加压泵3，制氧装置4输氧管道下端安装有曝气管19，上层处理室8内部设置有阳极架13、绝缘架14和阴极板15，阳极架13和阴极板15均安装在绝缘架14上，下层处理室10内部设置有光触媒层16、芯体支架17和紫外线灯18，光触媒层16和紫外线灯18均安装在芯体支架17上，光触媒层16和紫外线灯18呈间隔布置，冷凝室2下端设置有排渣槽12。

具体使用方式：本实用新型工作中，将废气连接进气管道1，废气经冷凝室2处理，可以除去废气中的颗粒杂质，再通过氧化反应室6，使有机物发生氧化反应，得到洁净气体，通后通过二次处理罐7，再次经过上层反应室8，对未反应的气体进行二次处理，且处理后的气体经过紫外灯18做出更进一步的处理，从而保证了排出气体的洁净度。

本实用新型一种复合式有机废气净化器，设置有冷凝室2，预先除去废气中的颗粒杂质，再通过氧化反应室6，使有机物发生氧化反应，得到洁净气体，且通过在氧化反应室6内部安装曝气管19，使反应更加彻底。通过二次处理罐7，再次经过上层反应室8，对未反应的气体进行二次处理，且处理后的气体经过紫外灯18做出更进一步的处理，从而保证了排出气体的洁净度。本实用新型结构简单、净化效果好，与现有技术相比具有明显的优点。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。