本发明涉及铸造废气处理领域，特别是涉及一种铸造废气处理系统。
背景技术：
随着铸造工艺的发展，铸造已广泛采用新一代自硬呋喃树脂砂造型，这不仅缩短了生产周期，提高了生产效率，而且也提高了铸件外观质量。但是使用树脂砂型、芯在浇注时，因受高温合金液的烘烤，会散发出带刺激臭味的混合气体，混合气体里不仅有二氧化硫、二氧化氮和少量的一氧化氮、硫化氢外，还会有极少量粘度较大的树脂挥发物，如甲醛、酚、甲醇、笨化合物等有害物质，这种废气四处散发，对人员健康安全有害，也会严重污染环境，影响到人类正常的生产生活。
技术实现要素：
为了解决以上技术问题，本发明提供一种铸造废气处理系统，包括依次连接的进气管、喷淋除污系统、排气管，喷淋除污系统包括依次设置的顺风喷淋室、过滤处理室、逆风喷淋室，顺风喷淋室、过滤处理室、逆风喷淋室底部连通，过滤处理室与逆风喷淋室通过通风管连通，进气管与顺风喷淋室连通，排风管与逆风喷淋室连通。
技术效果：采用喷淋的方式可以使得清洗液与废气接触更加充分，从而除去废气中的杂质，当废气初次进入喷淋除污系统中采用顺风喷淋的方式这样可以使得清洗液与废气充分接触，在出喷淋系统之前采用逆风喷淋的方式，这样使得废气在喷淋系统中的时间更长，从而使得废气得以充分清洗。
本发明进一步限定的技术方案是：
进一步的，进气管背向顺风喷淋室一端连接有抽风机。
前所述的一种铸造废气处理系统，顺风喷淋室沿其顶壁与侧壁均设有一次喷淋管，一次喷淋管上设有若干喷淋头。
前所述的一种铸造废气处理系统，过滤喷淋室顶壁设有二次喷淋管，二次喷淋管上设有若干喷淋头，喷淋头下方设有过滤层。
前所述的一种铸造废气处理系统，通风管内设有用于将过滤处理室内的气体吸至逆风喷淋室的吸风机。
前所述的一种铸造废气处理系统，通风管两端分别连通至过滤处理室和逆风喷淋室的顶部，逆风处理室顶部与通风管连接处设有吸附层。
前所述的一种铸造废气处理系统，逆风喷淋室内设有呈倒l形设置的三次喷淋管，三次喷淋管上方设有与吸附层紧贴设置的格挡块。
前所述的一种铸造废气处理系统，废气处理系统还包括循环水泵，循环水泵一端与逆风喷淋室底部连通，另一端连接至二次喷淋管和三次喷淋管。
本发明的有益效果是：
（1）本发明中采用顺风喷淋和逆风喷淋方式，从而使得清洗液与废气接触更加充分，使得废气；
（2）本发明中将三次喷淋系统中的清洗液进行循环利用，极大的节省了水资源，环保无污染，使得废气重新变为洁净空气排出。
附图说明
图1为为铸造废气处理系统整体结构示意图；
其中：1、进气管；11、抽风机；2、顺风喷淋室；21、一次喷淋管；3、过滤喷淋室；31、二次喷淋管；32、过滤层；4、逆风喷淋室；41、三次喷淋管；42、吸附层；43、格挡块；5、通风管；51、吸风机；6、循环水泵；7、排风管；71、除雾层。
具体实施方式
本实施例提供的一种铸造废气处理系统，结构如图1所示，包括依次连接的进气管1、喷淋除污系统和排气管，废气由进气管1进入喷淋除污系统中，经过喷淋除污系统处理得到洁净的气体再由排气管排出。
进气管1背向顺风喷淋室2一端连接有抽风机11，由抽风机11将铸造过程中产生的废气抽至顺风喷淋室2中，并连接至顺风喷淋顶壁上。这样可以加大进风量，提高工作效率。
喷淋除污系统包括依次设置的顺风喷淋室2、过滤处理室、逆风喷淋室4，顺风喷淋室2沿其顶壁和侧壁上设有一次喷淋管21，一次喷淋管21上设有若干喷头，一次喷淋管21中装有naoh碱性中和液，用于中和废气中的酸性物质，从而避免酸性物质排出。并且由于采用了顺风喷淋的方式，这样可以增大与废气的接触面积，使得清洗更加感觉。并且一次喷淋管21中的中和液不仅可以中和废气中的酸性物质，还可以初步除去废气中的杂质。
顺风喷淋室2底部与过滤喷淋室3连通，并在顺风喷淋室2与过滤喷淋室3中形成清洗液层，废气由清洗液层进入至过滤喷淋室3中，过滤喷淋室3顶壁设有二次喷淋管31，二次喷淋管31上设有若干喷淋头，喷淋头下方设有过滤层32。过滤层32除去废气中的小颗粒杂质，进一步对废气进行净化，由于彩云逆风喷淋的方式，这样可以增加废气在喷淋除污系统中的停留时间，这样使得对废气的处理更加充分。
过滤处理室的顶部与逆风处理室的顶部之间设有通风管5，通风管5内设有吸风机51，将过滤处理室内的气体吸至逆风喷淋室4中，逆风处理室顶部与通风管5连接处设有吸附层42。吸附层42吸取废气中的异味，保证气体排出时保持洁净。
逆风喷淋室4内设有呈倒l形设置的三次喷淋管41，三次喷淋管41上设有若干喷淋头，三次喷淋管41上方设有与吸附层42紧贴设置的格挡块43。这样使得废气先经过三次喷淋管41上的喷淋头进行逆风喷淋后再排出，防止气体直接排出。
喷淋除污系统外还设有循环水泵6，循环水泵6抽取逆风喷淋室4中的清洗液循环利用，这样可以减少水资源浪费。
排风管7内设有除雾层71，这样减少水汽排出。
除上述实施例外，本发明还可以有其他实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案，均落在本发明要求的保护范围。