一种回填式双搅拌臂搅拌装置的制作方法

文档序号:16025670发布日期:2018-11-23 19:15阅读:221来源:国知局
一种回填式双搅拌臂搅拌装置的制作方法

本实用新型属于填料搅拌技术领域,尤其涉及一种回填式双搅拌臂搅拌装置。



背景技术:

目前,通常强制式双卧轴搅拌机在同一个轴上的相同位置只有一个臂搅拌及固定托架,通常搅拌机运行时,在填料过程中对设备有很大的冲击,导致运行不稳定,噪音大;搅拌时间长效率低,搅拌不均匀,耐磨件磨损快,不利于能源的有效合理利用,现有技术存在由于搅拌机运行不稳定,从而导致搅拌效率低且搅拌不均匀的问题。



技术实现要素:

本实用新型提供一种回填式双搅拌臂搅拌装置,以解决上述背景技术中提出了现有技术存在由于搅拌机运行不稳定,从而导致搅拌效率低且搅拌不均匀的问题。

本实用新型所解决的技术问题采用以下技术方案来实现:一种回填式双搅拌臂搅拌装置,包括搅拌轴,所述搅拌轴轴向一侧径向连接一搅拌臂一端,其轴向另一侧径向连接另一搅拌臂一端,所述一搅拌臂与另一搅拌臂呈180度,所述一搅拌臂另一端连接一刮板,所述另一搅拌臂另一端连接另一刮板。

进一步,所述一搅拌臂与另一搅拌臂呈对称双搅拌臂结构。

进一步,所述搅拌轴经蜗轮蜗杆减速机传动。

进一步,所述双搅拌臂搅拌装置采用高耐磨性耐磨件。

有益技术效果:1、本专利采用所述搅拌轴轴向一侧径向连接一搅拌臂一端,其轴向另一侧径向连接另一搅拌臂一端,所述一搅拌臂与另一搅拌臂呈180度,所述一搅拌臂另一端连接一刮板,所述另一搅拌臂另一端连接另一刮板,由于BHS回填式双搅拌臂搅拌机是在每个搅拌轴的同一位置成180度方向有两个搅拌臂,即利用同样的搅拌臂替代托架,相当于增加了一倍的搅拌效率,且是搅拌的负载更加平衡,这样增加了物料输入时的抗冲击力,减小噪音,提高搅拌效率,使搅拌力更加均衡。

2、本专利采用所述一搅拌臂与另一搅拌臂呈对称双搅拌臂结构,由于现有使用普通的双卧轴单臂搅拌机,在搅拌机运行时不断加料(骨料,粉料,水及外加剂),使搅拌机受到大的冲击力,使搅拌机运行不平稳,噪音大,故障率高,同时,单臂搅拌机搅拌效率低,并且搅拌相对不均匀,因此,克服了单臂搅拌机搅拌效率低且搅拌相对不均匀,提高了搅拌效率。

3、本专利采用所述搅拌轴经蜗轮蜗杆减速机传动,由于使用抗冲击能力大的蜗轮蜗杆减速机,蜗轮蜗杆减速机能输出足够的扭矩平衡瞬间的冲击力,使搅拌机在运行时可以抗击进料带来的冲击,使设备运行更加平稳。

4、本专利采用所述双搅拌臂搅拌装置采用高耐磨性耐磨件,由于减少对耐磨件的磨损,降低了客户的使用成本。

5、本专利通过搅拌工具的增加及优化布局,增加搅拌轴的运行速度,因此,具有这样即增加了单位时间的搅拌效率且能耗低,使用寿命长。

6、本专利增加了动力装置,具体驱动系统的增强,确保动力的可靠性。

7、本专利在搅拌机运行过程中加料时,搅拌机不发生瞬间停机,消除故障。

8、本专利由于一套设备具有接近双倍的产能,因此,具有节能并最终节约客户的额外投资。

9、本专利通过在美国矿区填充设备、厄瓜多尔矿区填充以及生产线亭子口水电站的应用,证明使用本专利的搅拌机时,搅拌效率提高90%,耐磨件成本降低40%。

附图说明

图1是本实用新型一种回填式双搅拌臂搅拌装置的结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型做进一步描述:

图中:1-搅拌轴,2-一搅拌臂,3-另一搅拌臂,4-一刮板,5-另一刮板。

实施例

本实施例:如图1所示,一种回填式双搅拌臂搅拌装置,包括搅拌轴1,所述搅拌轴1轴向一侧径向连接一搅拌臂2一端,其轴向另一侧径向连接另一搅拌臂3一端,所述一搅拌臂2与另一搅拌臂3呈180度,所述一搅拌臂2另一端连接一刮板4,所述另一搅拌臂3另一端连接另一刮板5。

所述一搅拌臂2与另一搅拌臂3呈对称双搅拌臂结构。

所述搅拌轴1经蜗轮蜗杆减速机传动。

所述双搅拌臂搅拌装置采用高耐磨性耐磨件。

工作原理:本专利通过采用所述搅拌轴轴向一侧径向连接一搅拌臂一端,其轴向另一侧径向连接另一搅拌臂一端,所述一搅拌臂与另一搅拌臂呈180度,所述一搅拌臂另一端连接一刮板,所述另一搅拌臂另一端连接另一刮板,由于BHS回填式双搅拌臂搅拌机是在每个搅拌轴的同一位置成180度方向有两个搅拌臂,即利用同样的搅拌臂替代托架,相当于增加了一倍的搅拌效率,且是搅拌的负载更加平衡,这样增加了物料输入时的抗冲击力,由于现有使用普通的双卧轴单臂搅拌机,在搅拌机运行时不断加料(骨料,粉料,水及外加剂),使搅拌机受到大的冲击力,使搅拌机运行不平稳,噪音大,故障率高,同时,单臂搅拌机搅拌效率低,并且搅拌相对不均匀,本实用新型解决了现有技术存在由于搅拌机运行不稳定,从而导致搅拌效率低且搅拌不均匀的问题,具有抗冲击力、噪音小、搅拌力均衡、搅拌效率高的效果好的有益技术效果。

利用本实用新型的技术方案,或本领域的技术人员在本实用新型技术方案的启发下,设计出类似的技术方案,而达到上述技术效果的,均是落入本实用新型的保护范围。

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