聚羧酸减水剂合成分子靶向均化反应设备的制作方法

文档序号:19302717发布日期:2019-12-03 18:32阅读:来源:国知局

技术特征:

1.聚羧酸减水剂合成分子靶向均化反应设备,其包括壳体(1),所述壳体(1)上部固接有若干个进料管(2),所述进料管(2)上设置有电子流量控制器(3),进料管(2)的端部设置有雾化器(4);其特征在于:

所述聚羧酸减水剂合成分子靶向均化反应设备还包括至少一块分散板(5),所述分散板(5)卡设于所述壳体(1)内,分散板(5)上均匀布设有若干通孔;

所述壳体(1)的外壁上开设有用于分散板(5)插装的通槽,所述通槽上设置有至少一个限位机构(6),所述限位机构(6)设置于通槽上开设的限位孔(64)中;所述限位机构(6)包括限位块(61)、连接片(62)和弹簧组件(63),所述限位块(61)底部固接于所述连接片(62),连接片(62)底面与所述弹簧组件(63)的一端固接,弹簧组件(63)的另一端与所述限位孔(64)的下表面固接;

所述限位块(61)上部设置为便于分散板(5)滑移的圆弧形结构;

所述壳体(1)相对于所述通槽的另一侧内壁上开设有卡槽(11),所述卡槽(11)用于卡接所述分散板(5)。

2.如权利要求1所述的聚羧酸减水剂合成分子靶向均化反应设备,其特征在于:所述通槽处设置有用于限制所述分散板(5)过多插入所述壳体(1)内的凸台(12),所述分散板(5)上还设置有用于抵接所述凸台(12)的挡块(51),所述挡块(51)与凸台(12)尺寸相适配。

3.如权利要求1所述的聚羧酸减水剂合成分子靶向均化反应设备,其特征在于:所述聚羧酸减水剂合成分子靶向均化反应设备还包括检修口(7),所述检修口(7)设置于所述壳体(1)上。

4.如权利要求1所述的聚羧酸减水剂合成分子靶向均化反应设备,其特征在于:所述分散板(5)在插装后与所述壳体(1)内壁的抵接处均涂有密封层。

5.如权利要求1所述的聚羧酸减水剂合成分子靶向均化反应设备,其特征在于:所述壳体(1)底部设置有出料口(10),所述出料口(10)的连接管路上设置有控制阀。

6.如权利要求1所述的聚羧酸减水剂合成分子靶向均化反应设备,其特征在于:所述分散板(5)上设置有便于手持的把手(8)。

7.如权利要求1所述的聚羧酸减水剂合成分子靶向均化反应设备,其特征在于:所述壳体(1)内壁上设置有便于所述分散板(5)滑入所述卡槽(11)的弧形凸块(9),所述弧形凸块(9)位于卡槽(11)的下侧。

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