一种uv固化设备的制造方法

文档序号:8721131阅读:268来源:国知局
一种uv固化设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种UV固化设备,尤其涉及一种低能量UV固化设备。
【背景技术】
[0002]现有技术中的UV固化设备通常采用100mj的UV灯直接对工作物进行照射,不仅能量损耗大,而且固化干燥效果不好,甚至容易烤坏工作物。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的是提供一种UV固化设备,可降低能量损失,保证固化干燥效果O
[0004]为实现上述目的,本实用新型提供一种UV固化设备,包括顶部开口的灯箱本体,所述灯箱本体内安装有灯管,所述灯箱本体的开口处安装有透光罩,还包括用于调整灯管的灯管强弱的电子式安定器。
[0005]作为本实用新型的进一步改进,所述透光罩由玻璃制作而成。
[0006]作为本实用新型的更进一步改进,所述灯管为2KW、灯光强度为20MW/CM2的卤素灯。
[0007]作为本实用新型的更进一步改进,所述灯箱本体在与灯管平行的其中一侧面上设有开孔。
[0008]作为本实用新型的更进一步改进,所述灯箱本体在与灯管垂直的二侧面上设有相互对应的通孔。
[0009]与现有技术相比,本实用新型的UV固化设备的有益效果如下:
[0010](I)采用用于调整灯管的灯管强弱的电子式安定器,从而可以将灯管照射至工作物的灯光强度下降至原强度的23%,可充分降低灯管的强度,降低UV固化设备的能量损耗,还可保证固化干燥效果,避免工作物被烤坏。
[0011](2)透光罩采用玻璃制作而成,从而能够使得灯管照射至工作物的灯光强度进一步降低至原强度的65%,进一步降低UV固化设备的能量损耗和保证固化干燥效果。
[0012](3)灯管采用2KW、灯光强度为20MW/CM2的卤素灯,从而本身强度较弱,功率较低,可进一步降低UV固化设备的能量损耗和保证固化干燥效果。
[0013](4)灯箱本体上采用开孔和通孔,从而有助于通风,降低UV固化设备的温度,保证固化干燥效果。
[0014]通过以下的描述并结合附图,本实用新型将变得更加清晰,这些附图用于解释本实用新型的实施例。
【附图说明】
[0015]图1为本实用新型UV固化设备的示意图。
【具体实施方式】
[0016]现在参考附图描述本实用新型的实施例,附图中类似的元件标号代表类似的元件。
[0017]请参考图1,所述的UV固化设备包括灯箱本体1,所述灯箱本体I的顶部设有开口。所述灯箱本体在其中一侧面上设有开孔12,所述灯箱本体I与该侧面垂直的另二侧面上设有相互对应的通孔13,从而有助于通风,降低UV固化设备的温度。所述灯箱本体I内安装有灯管2,灯管2与灯箱本体I设有开孔12的侧面平行,灯管2与灯箱本体I设有通孔13的侧面垂直。所述灯管为2KW、灯光强度为20MW/CM2的卤素灯,从而具有强度较弱的特点。所述灯箱本体I的开口处安装有透光罩3。所述的UV固化设备还包括电子式安定器4,所述电子式安定器4位于灯箱本体I外,所述电子式安定器4与灯管2连接,用于调整灯管的灯管2的强弱,可以将灯管2照射至工作物的灯光强度下降至原强度的23%,且最低可调至原强度的20%,从而可充分降低灯管2的强度,降低UV固化设备的能量损耗。所述透光罩3由玻璃制作而成,从而能够使得灯管2照射至工作物的灯光强度进一步降低至原强度的65%,由此灯管2可达到的强度值约为3MW/CM2左右(20*23% *65% ),满足UV固化设备的低能量照射,大大减少了能量损失,且保证固化干燥效果。
[0018]以上结合最佳实施例对本实用新型进行了描述,但本实用新型并不局限于以上揭示的实施例,而应当涵盖各种根据本实用新型的本质进行的修改、等效组合。
【主权项】
1.一种UV固化设备,包括顶部开口的灯箱本体,所述灯箱本体内安装有灯管,所述灯箱本体的开口处安装有透光罩,其特征在于:还包括用于调整灯管的灯管强弱的电子式安定器。
2.如权利要求1所述的UV固化设备,其特征在于:所述透光罩由玻璃制作而成。
3.如权利要求1或2所述的UV固化设备,其特征在于:所述灯管为2KW、灯光强度为20MW/CM2的卤素灯。
4.如权利要求3所述的UV固化设备,其特征在于:所述灯箱本体在与灯管平行的其中一侧面上设有开孔。
5.如权利要求3所述的UV固化设备,其特征在于:所述灯箱本体在与灯管垂直的二侧面上设有相互对应的通孔。
【专利摘要】本实用新型公开了一种UV固化设备,包括顶部开口的灯箱本体,所述灯箱本体内安装有灯管,所述灯箱本体的开口处安装有透光罩,还包括用于调整灯管的灯管强弱的电子式安定器。本实用新型的UV固化设备可降低能量损失,保证固化干燥效果。
【IPC分类】B05D3-06
【公开号】CN204429657
【申请号】CN201420749924
【发明人】危银长
【申请人】志圣科技(广州)有限公司
【公开日】2015年7月1日
【申请日】2014年12月3日
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