涂装喷涂带标尺枪架的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型的装置是喷涂技术领域，尤其涉及调整喷枪涂装喷涂工件的技术领域。
【背景技术】
[0002]本实用新型之前工件涂装作业前，根据工件的部位需要调整喷涂角度和距离，以保证喷涂效果良好，无喷涂重叠、漏喷、静电花等现象。但是由于操作员经验不足，没有调整的依据和量化的调整方式，有可能造成以上喷涂问题出现，出现产品不良，造成良品率降低，生产效率下降等不良后果。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型为了解决现有技术的不足，本实用新型提供了涂装喷涂带标尺枪架，工件涂装作业前，根据工件的部位需要调整喷涂角度和距离，以保证喷涂效果良好，无喷涂重叠、漏喷、静电花等现象。
[0004]本实用新型所采用的技术方案是:
[0005]本实用新型的涂装喷涂带标尺枪架，包括:支架、喷枪杆、喷枪，其中喷枪固定在喷枪杆的下端，喷枪杆与支架相固定，支架上设置标尺，喷枪杆与支架间通过连接阀相固定；喷枪杆与喷枪间活动铰接，且在铰接位置设置角度尺。
[0006]还可以采用以下技术措施:
[0007]所述的支架包括垂直支架和水平支架，在垂直支架和水平支架上分别设置标尺。
[0008]所述的喷枪杆与喷枪的连接位置设置角度调节装置。
[0009]通过在喷涂枪架的支架上添加标尺刻度，通过调整支架上前后、左右、上下来调整喷枪与工件之间的距离，喷枪与喷枪杆连接加装带角度尺和调节装置，支架之间的位置可以通过标尺刻度精确调整，控制喷枪的精确距离，喷枪与喷枪杆之间可以通过角度尺调整喷枪角度来调整喷枪与工件之间的角度。使涂装喷涂角度和涂装喷涂距离等数值量化，可以做到精确调整，避免造成的喷涂过重叠、漏喷、静电花等现象。从而提高良品率，节约成本，提尚广能，提尚生广效率，增加效益。
【附图说明】
[0010]图1为:本实用新型的涂装喷涂带标尺枪架的示意图；
[0011]图2为:本实用新型中支架的连接示意图；
[0012]图3为:本实用新型中喷枪处的示意图。
【具体实施方式】
[0013]结合附图对的技术方案做进一步说明。图1是本实用新型的涂装喷涂带标尺枪架示意图，本实用新型的涂装喷涂带标尺枪架包括:支架1、喷枪杆2、喷枪3，其中喷枪固定在喷枪杆的下端，喷枪杆与支架相固定，支架上设置标尺7，喷枪杆与支架间通过连接阀4相固定；喷枪杆与喷枪间活动铰接，且在铰接位置设置角度尺5。在喷涂枪架的支架上添加标尺刻度，喷枪与喷枪杆间连接加装角度调节装置6，支架之间的距离可以通过标尺刻度精确调整，支架包括垂直支架Ia和水平支架lb，在垂直支架和水平支架上分别设置标尺并通过支架连接阀调整并锁紧支架，确保控制喷枪之间的精确距离，调整好支架距离后，喷枪的角度也是一个重要的指标，喷枪与喷枪杆之间可以通过角度尺控制喷枪的角度，并通过喷枪杆和喷枪连接位置的调节装置调节固定喷枪的角度，使涂装喷涂角度和涂装喷涂距离等数值量化，可以做到精确调整，实际工作中工件涂装作业前，需要调整喷涂角度和距离，本本实用新型装置可已通过调整支架上前后、左右、上下来调整喷枪与工件之间的距离，并根据支架上的刻度把数值量化，然后通过调整喷枪角度来调整喷枪与工件之间的角度，并根据角度标尺的刻度把数值量化。使涂装喷涂角度和涂装喷涂距离等数值量化，可以做到精确调整，避免造成的喷涂过重叠、漏喷、静电花等现象。从而提高良品率，节约成本，提高产能，提高生产效率，增加效益。
【主权项】
1.一种涂装喷涂带标尺枪架，包括:支架、喷枪杆、喷枪，其中喷枪固定在喷枪杆的下端，喷枪杆与支架相固定，其特征在于:支架上设置标尺，喷枪杆与支架间通过连接阀相固定；喷枪杆与喷枪间活动铰接，且在铰接位置设置角度尺。
2.根据权利要求1所述的涂装喷涂带标尺枪架，其特征在于:支架包括垂直支架和水平支架，在垂直支架和水平支架上分别设置标尺。
3.根据权利要求1所述的涂装喷涂带标尺枪架，其特征在于:喷枪杆与喷枪的连接位置设置角度调节装置。
【专利摘要】一种涂装喷涂带标尺枪架，包括：支架、喷枪杆、喷枪，其中喷枪固定在喷枪杆的下端，喷枪杆与支架相固定，支架上设置标尺，喷枪杆与支架间通过连接阀相固定；喷枪杆与喷枪间活动铰接，且在铰接位置设置角度尺，通过在喷涂枪架的支架上添加标尺刻度，喷枪与喷枪杆连接加装带角度尺和调节装置，支架之间的位置可以通过标尺刻度精确调整，控制喷枪的精确距离，喷枪与喷枪杆之间可以通过角度尺调整喷枪角度来调整喷枪与工件之间的角度。使涂装喷涂角度和涂装喷涂距离等数值量化，可以做到精确调整，避免造成的喷涂过重叠、漏喷、静电花等现象。从而提高良品率，节约成本，提高产能，提高生产效率，增加效益。
【IPC分类】B05B15-08
【公开号】CN204448390
【申请号】CN201420724798
【发明人】张晓光, 邱立宝, 王纪刚, 臧文清, 朱美惠
【申请人】天津立中车轮有限公司
【公开日】2015年7月8日
【申请日】2014年11月28日