一种用于均匀分散物料的真空混合装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及将粉体分散于液体中的分散技术领域，具体是一种用于均匀分散物料的真空混合装置。
【背景技术】
[0002]具有搅拌混合功能的反应釜是一种适用于液体(包括粘稠状液体)与粉料混合、分散等工艺操作的容器，被广泛地应用在石油、化工等行业的生产领域以及各种科研实验项目研究中。目前的反应釜在用于混合物料时通常是采用先称量再投料搅拌的方式对物料进行混合，这种反应釜存在着一些问题。
[0003]首先，当进行大批量的工业生产时，反应釜内的物料(即粉料与液体)较多，很难在较短的搅拌时间内使粉料与液体之间实现充分的分散混匀，从而导致粉料与液体相互分离，影响分散效果，降低生产的产品质量。而为了解决分散效果不佳的问题，只能通过延长搅拌时间使粉料与液体彼此之间更好的混合，但这样操作必然会降低生产效率、增加生产成本。
[0004]其次，由于不同物料的配比是影响生产速度和产品质量的关键因素，因此较为准确地控制投入到反应釜中的物料对于整个生产环节十分重要。但现有技术中是采用某一容器称量物料后再将物料投入反应釜，物料在不同容器之间进行转移难免会有所损失，因此即便准确称重后，投入到反应釜中的物料仍有所减少，一方面浪费了物料，造成不必要的损耗，另一方面也会导致物料在反应釜内的反应不够理想，使生产的产品质量受到影响。
[0005]基于上述分析，实有必要对现有技术作出改进以解决上述问题。
【实用新型内容】
[0006]本实用新型旨在针对现有技术中存在的问题作出改进，提供一种改良的真空混合装置，以解决现有技术中物料在反应釜内分散效果不理想、物料投放不准确、影响产品质量等问题。
[0007]本实用新型提供一种用于均匀分散物料的真空混合装置，其包括:由釜盖、釜壁和釜底共同围合形成的反应釜、连接有电机的搅拌设备以及与所述反应釜连接的抽真空设备，所述搅拌设备包括搅拌器和乳化搅拌机，所述搅拌器位于所述反应釜中部，所述搅拌器的搅拌轴从所述釜盖向下延伸进入所述反应釜内部，并在其端部固接搅拌叶片，所述乳化搅拌机的搅拌轴从所述釜盖向下延伸进入所述反应釜内部，且所述乳化搅拌机的搅拌轴设置在所述釜壁和所述搅拌器的搅拌轴之间；
[0008]所述反应釜的高度为H，所述搅拌叶片的上端距离所述釜底的高度为hl，所述乳化搅拌机的下端距离所述釜底的高度为h2，其中，0.15H<hl <h2，0.3H < h2 < H。例如，hi = 0.16H、hi = 0.18H、hi = 0.2H、hi = 0.25H 或 hi = 0.3H，h2 = 0.35H、h2 = 0.4H、h2 = 0.45H 或 h2 = 0.5H。
[0009]优选地，hi= 0.2H，h2 = 0.35H。
[0010]进一步地，所述真空混合装置还包括一个或多个重力感应设备，所述重力感应设备固定连接在所述釜壁外周上。
[0011]优选地，所述真空混合装置包括位于同一水平面上的四个所述重力感应设备，所述重力感应设备平均分布在所述釜壁外周上。
[0012]进一步地，任一所述重力感应设备距离所述釜底的高度为h3，0.5H < h3 < H。例如，h3 = 0.6H、h3 = 0.7H、h3 = 0.75H 或 h3 = 0.8H。
[0013]优选地，h3= 0.6H。
[0014]进一步地，所述反应釜的釜盖上设有用于连接所述抽真空设备的阀门。
[0015]与现有技术相比，有益效果如下:
[0016]在本实用新型的真空混合装置中，同时采用了能够产生水平方向离心力的搅拌器和能够让物料形成界面漩涡的乳化搅拌机，二者共同作用，让反应釜中的物料在水平方向和竖直方向都能得以循环，最终形成由下至上的物料循环方式，使物料在上下左右各个方向上都能够得到充分的混合，从而避免了部分物料沉底或未搅拌到的情况。此外，由于本实用新型的真空混合装置中添加了重力感应设备，因此简化了物料的称重和投料步骤，有利于整体生产快速、连续、准确地进行，具备较佳的实用意义。
【附图说明】
[0017]图1是实施例二的真空混合装置的结构示意图。
[0018]图2是实施例二的真空混合装置的俯视图。
[0019]图3是实施例二的真空混合装置的内部结构示意图。
【具体实施方式】
[0020]在本实用新型中，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“中”、“竖直”、“水平”、“横向”、“纵向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅用于说明各部件或组成部分之间的相对位置关系，并不特别限定各部件或组成部分的具体安装方位。
[0021]并且，上述部分术语除了可以用于表示方位或位置关系以外，还可能用于表示其他含义，例如术语“上”在某些情况下也可能用于表示某种依附关系或连接关系。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解这些术语在本实用新型中的具体含义。
[0022]此外，术语“第一”、“第二”等主要是用于区分不同的部件或组成部分，并非用于表明或暗示所指示部件或组成部分的相对重要性和数量。除非另有说明，“多个”的含义为两个或两个以上。
[0023]下面结合实施例和附图对本实用新型的技术方案作进一步的说明。
[0024]实施例一
[0025]本实施例提供一种用于均匀分散物料的真空混合装置，其包括:由釜盖、釜壁和釜底共同围合形成的反应釜、连接有电机的搅拌设备以及与所述反应釜连接的抽真空设备，所述搅拌设备包括搅拌器和乳化搅拌机，所述搅拌器位于所述反应釜中部，所述搅拌器的搅拌轴从所述釜盖向下延伸进入所述反应釜内部，并在其端部固接搅拌叶片，所述乳化搅拌机的搅拌轴从所述釜盖向下延伸进入所述反应釜内部，且所述乳化搅拌机的搅拌轴设置在所述釜壁和所述搅拌器的搅拌轴之间；
[0026]所述反应釜的高度为H，所述搅拌叶片的上端距离所述釜底的高度为hl，所述乳化搅拌机的搅拌轴的下端距离所述釜底的高度为h2，其中，0.15H < hi < h2，0.3H < h2
< H。
[0027]实施例二
[0028]本实施例提供一种用于均匀分散物料的真空混合装置，如图1所示，包括反应釜10、连接有电机的搅拌设备20以及与反应釜10连接的抽真空设备30。
[0029]在本实施例中，反应釜10由釜盖11、釜壁12和釜底13围合而成。在釜盖11上设有阀门14，通过该阀门14可将反应釜10与抽真空设备30连接。结合图2所示，在釜壁12的外周上设有四个重力感应设备40，这四个重力感应设备40位于同一水平面上，并且两两对称地平均分布在釜壁12的外周上。反应釜的高度为H，任一重力感应设备距离釜底的高度为 h3，h3 = 0.6H。
[0030]在本实施例中，结合图3所示，电机与搅拌设备20的连接处恰位于釜盖11处，使得电机位于反应釜外部，搅拌设备20位于反应釜内部。具体地，搅拌设备20包括搅拌器21和乳化搅拌机22。其中，搅拌器21位于在反应釜10的中部，该搅拌器21的搅拌轴211从釜盖11向下延伸进入反应釜10内部，并在其端部固接搅拌叶片212。该搅拌叶片212大致位于反应釜下部，靠近但未接触反应釜的釜底。该搅拌叶片的上端距离釜底的高度为hl，hl=0.2H。另外，乳化搅拌机22的搅拌轴从覆盖11向下延伸进入反应釜10内部，且乳化搅拌机的搅拌轴设置在釜壁12和搅拌轴21之间。该乳化搅拌机下端距离釜底的高度为h2，h2 = 0.35Ho
[0031]在本实施例的真空混合装置中，同时设置了搅拌器和乳化搅拌机用于对物料(即粉料和液体)进行充分混合分散。本实施例中对于搅拌器和乳化搅拌机的位置进行了一定限制，以使二者能够共同发挥作用，在完成各自的水平离心旋转和界面涡旋的同时，相互配合，最终实现物料由下至上的循环方式，使粉料和液体得到充分的混合。
[0032]本实施例的真空混合装置在使用时，首先将反应原料投入到反应釜内；然后开启搅拌器和乳化搅拌机，从而使粉料和液体在反应釜内进行上下左右各个方位的循环运动，得到充分的混合；进一步地，打开阀门，开启抽真空设备，对混合物料进行脱气处理，最终得到混合均匀、无气泡的混合物料。
[0033]显然，本实用新型的上述实施例仅仅是为清楚地说明本实用新型所作的举例，而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属技术领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动，这里无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。
【主权项】
1.一种用于均匀分散物料的真空混合装置，其包括:由釜盖、釜壁和釜底共同围合形成的反应釜，连接有电机的搅拌设备以及与所述反应釜连接的抽真空设备，其特征在于:所述搅拌设备包括搅拌器和乳化搅拌机，所述搅拌器位于所述反应釜中部，所述搅拌器的搅拌轴从所述釜盖向下延伸进入所述反应釜内部，并在其端部固接搅拌叶片，所述乳化搅拌机的搅拌轴从所述釜盖向下延伸进入所述反应釜内部，且所述乳化搅拌机的搅拌轴设置在所述釜壁和所述搅拌器的搅拌轴之间； 所述反应釜的高度为H，所述搅拌叶片的上端距离所述釜底的高度为hl，所述乳化搅拌机的下端距离所述釜底的高度为h2，其中，0.15H < hi < h2，0.3H < h2 < H。2.根据权利要求1所述的真空混合装置，其特征在于:hl= 0.2H，h2 = 0.35H。3.根据权利要求1所述的真空混合装置，其特征在于:所述真空混合装置还包括一个或多个重力感应设备，所述重力感应设备固定连接在所述釜壁外周上。4.根据权利要求3所述的真空混合装置，其特征在于:所述真空混合装置包括位于同一水平面上的四个所述重力感应设备，所述重力感应设备平均分布在所述釜壁外周上。5.根据权利要求4所述的真空混合装置，其特征在于:任一所述重力感应设备距离所述釜底的高度为h3，0.5H < h3 < Ho6.根据权利要求5任一项所述的真空混合装置，其特征在于:h3= 0.6H。7.根据权利要求1至6任一项所述的真空混合装置，其特征在于:所述反应釜的釜盖上设有用于连接所述抽真空设备的阀门。
【专利摘要】本实用新型涉及一种用于均匀分散物料的真空混合装置，其包括：由釜盖、釜壁和釜底共同围合形成的反应釜，连接有电机的搅拌设备以及与反应釜连接的抽真空设备，搅拌设备包括搅拌器和乳化搅拌机，搅拌器位于反应釜中部，搅拌器的搅拌轴从釜盖向下延伸进入反应釜内部，并在其端部固接搅拌叶片，乳化搅拌机的搅拌轴从釜盖向下延伸进入反应釜内部，且乳化搅拌机的搅拌轴设置在釜壁和搅拌器的搅拌轴之间；反应釜的高度为H，搅拌叶片的上端距离釜底的高度为h1，乳化搅拌机的下端距离釜底的高度为h2，其中，0.15H＜h1＜h2，0.3H＜h2＜H。采用在本实用新型的方案，能够使反应釜内的物料在上下左右各个方向上都能够得到充分的混合，从而避免了部分物料沉底或未搅拌到的情况。
【IPC分类】B01F7/16, B01F15/00, B01F13/06
【公开号】CN204746217
【申请号】CN201520575295
【发明人】兰军炎, 张旭日
【申请人】广东博汇新材料科技有限公司
【公开日】2015年11月11日
【申请日】2015年7月31日