用于将液体连续施涂到基底的装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种用于将液体连续施涂到基底的装置。
【背景技术】
[0002]根据现有技术，已知通过各种各样的装置和方法(擦拭、刮涂、喷射……)将液体直接施涂到相应基底上。这些措施的成功直接取决于所使用的液体和该液体或基底的相应边界条件。概括来说，在已回火的基底中直接喷射到该基底上可能是有问题的，因为用于包含在液体中的物质的施涂效果在液体的蒸发部分的情况下是不足的。例如在用于压板的脱模剂的情况下，物质溶解在液体中，这允许以更容易或完整的方式从压力机的压板释放被压制的材料。如果没有脱模剂，则不得不在压制过程后以笨重的方式清洁压板，并且待制造的产品的表面可能会是不规则或者被损坏。
[0003]从DE 103 37 594 A1中已知一种用于将液体(脱模剂)施涂到基底的装置。它涉及一种用于连续工作压力机的压带的脱模剂施涂装置，包括施涂辊和配量辊，其中施涂辊可以借由压紧力抵靠于压带进行移动，该压紧力由待施涂到压带的脱模剂量限定，并且该申请公开了一种闭环控制装置，用于根据相应所需的脱模剂施涂量来控制压紧力。在该公开中相关的是施涂辊通过配量辊接纳它的脱模剂，该配量辊收集浸池中的脱模剂并将脱模剂转移到施涂辊，以转移到压带。该装置在原理上证明了其与转移到压带上的低耗能相关的价值，而且也示出了各种系统相关的缺陷。
[0004]在随后的公开DE 10 2010 049 777 A1中提供了一种替代的润湿装备，其接近于与该主题相关的上述公开，并且示出了用于将液体施涂到基底的相同或相似的特征。在该案中，公开的不是压带作为基底，而是待在压力机中压紧并硬化以获得平坦材料面板的材料块作为基底。在该案中，也意图使用液体作为脱模剂，以防止固化期间在压带上结块。由该系统引起的各种缺陷也可以在该案中看到。
[0005]这些缺陷之一是不能调整与待压材料相关的宽度。如果压力机中的该材料的最大宽度是例如4m，并且如果在压力机中制造宽度为3.25m的产品，那么会得到的0.75m的区域不需要施涂脱模剂。在该案中也不可能将不同强度的脱模剂在基底的宽度上适应性地施涂到基底上。由此，不能灵活地分别施涂到基底的整个宽度上或者压带的宽度上或者材料块的宽度上，也不能参照数量进行施涂。
[0006]其它缺陷是浸池由杂质污染。在该案中，包含污染物并来自回流的用过的液体通过施涂辊转回到浸辊，然后到达新鲜液体。也需要捕获不被压带吸收并到达入口间隙(在施涂辊和基底之间的间隙)的边界区的过量液体。常规地也将该液体经清洁后导引回到浸池。明显地，所述液体的再生过程也会引起过滤器的不利磨损和撕裂，使得最终消耗比使用还要多的液体。
[0007]非限制性地，其它缺陷是，浸池需要特定的安装位置，并且从技术的角度来讲不可能实施复杂的安装位置和高处浸池，由于该原因，在机器中的已知设备的可用性被限制。【实用新型内容】
[0008]本实用新型的目的是提供一种通用装置，该装置用于将液体施涂到基底以使得总体上消耗更少液体，并且根据基底的宽度，甚至在特定情形下根据在宽度上的基底的不同属性可以调整液体的施涂。在该目的的扩展中，具体地，液体的配量能力得以提高，并且特别在不同生产和基底条件的高端措施的情形下能够进行调整。
[0009]本实用新型的提供一种用于将液体连续施涂到基底的装置，该装置特别是用于压力机中制造材料的过程，液体藉由施涂装置转移到基底，施涂装置包括施涂辊，所述施涂辊绕施涂辊的轴旋转。针对装置的措施是配量装置布置成将液体施涂到施涂装置的正在旋转的施涂辊上，其中该配量装置适于将液体滴到、喷射到或灌注到施涂辊上。
[0010]有利地，施涂装置或施涂辊相对于基底可动地布置。配量装置适用于根据基底的宽度设定待施涂的液体的宽度。
[0011]特别在用一个或多个喷嘴喷射液体时，有利的是，可根据基底的宽度来调整待施涂的液体，并且仅为在实际上设置有基底的区域中向施涂辊提供液体。
[0012]因此，如果在特别优选的实施例中，基底的行进由传感器跟踪并且配量装置跟随该基底行进，则是有利的。在传送带上的材料块可以与例如特定区域中的理想线偏离。该装置的构造任务是:在边界区中的单独的配量装置(例如多个彼此相邻的喷嘴)是否停用或致动。配量装置也可以进行单独地移位，并且可以根据它们的适用外形(如喷射雾锥)按需要来进行调整。
[0013]最终，可以考虑机械喷射限制，其可以根据基底的边界区来主动地(致动器)或者被动地(由基底本身)移位。机械边界提供这样的优势，即液体而不受由于冲击在边界上而导致的污染，并且一般可以直接在边界处没有任何过滤作用的情况下导引回到配量装置(例如藉由收集槽)。
[0014]根据该实施例，基底和/或施涂装置或施涂辊可以运动以根据相应条件来调整施涂方式或质量。具体地，也可以根据机器或基底来调整该装置，而不考虑安装位置。
[0015]该基底优选地是材料带或者平坦的机械元件，特别地是压力机的钢带或压板。该方法和装置能以特别优选的方式应用于连续工作双带式压力机或者辊压机中。
[0016]作为替代或者以组合方式，可以至少仅部分地沿着施涂辊来施涂液体，并且可以沿着施涂辊在基底和施涂辊之间的入口间隙中分布液体。
[0017]作为替代或者以组合方式，施涂到施涂辊的液体的宽度根据基底的宽度进行设定，特别地通过沿着施涂辊的轴停用或者调整外侧的配量装置。
[0018]作为替代或者以组合方式，当使用多个配量装置时，它们可以沿着施涂辊的轴进行布置，并且它们可以特别地以单独和/或成组的方式受控或受调节。此也特别地包括可以停止单独的各配量装置。
[0019]作为替代或者以组合方式，可以在施涂辊的回流中和/或在施涂辊与基底接触后，在基底上和/或在配量装置和液体薄膜的入口间隙之间确定液体膜，并且该液体膜可以用以藉由开环或闭环控制装置来控制配量装置或液体的施涂量。
[0020]也能以特别优选的方式监测入口间隙，以确定是否有太少或者太多液体，以因此控制或调节配量装置。
[0021]作为替代或者以组合方式，可以沿着施涂辊的轴使用可移位(喷射)边界，优选地，该可移位(喷射)边界具有用于液体的收集槽。所述边界主动或被动地移位，并且应当跟随基底的边界区。当配量装置藉由例如喷射雾锥来覆盖施涂辊的预定局部区域时，此可以是特别有用的，但配量装置不能够足够精密地调整以关于所设定的宽度来进行改变，或者技术努力会太大。
[0022]作为替代或者以组合方式，配量装置可以特别优选地根据表面属性和/或基底密度而在基底的整个宽度上进行不同的调整。
[0023]作为替代或者以组合方式，配量装置可以适用于根据基底的宽度设定待施涂的液体的宽度。
[0024]作为替代或者以组合方式，当使用多个配量装置时，它们可以沿着施涂辊的轴进行设置，其中配量装置也可以布置成能够关于施涂辊的轴进行轴向和/或径向地调整。
[0025]作为替代或者以组合方式，多个配量装置可以单独或成组的方式进行受控或受调
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[0026]作为替代或者以组合方式，至少一个喷嘴可以布置为配量装置。
[0027]可以特别是规定，在施涂辊回流中和/或施涂辊和基底接触之后，多个传感器可以布置在基底上，以检测液体膜，并且这些传感器与开环或闭环控制装置进行有效连接，以控制液体或者配量装置的施涂量。
[0028]作为替代或者以组合方式，可以沿着施涂辊的轴布置可移位喷射边界，优选地，该可移位喷射边界具有用于液体的收集槽。具体地，该可移位喷射边界可以布置成能够主动或被动地进行移位。
[0029]作为替代或者以组合方式，至少外侧的配量装置可以布置成使得它们沿施涂辊的轴可被停用。
[0030]如果该装置用在压力机中，并且材料带或平坦机械元件布置为基底，则是特别有