专利名称：一种适用于大颗粒物料下滑的滑道的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及色选机技术领域，具体属于一种适用于大颗粒物料下滑的滑道。
背景技术：
现有的滑道结构比较简单，一般滑道正面是由多个滑槽构成。物料在滑槽上下滑时，受到一定的阻力，容易出现跳动。物料一个出现跳动，落到其他物料之上，容易带碰到其他物料，造成物料多数横向跳动。这样滑道特别不适用于大颗粒物料。
实用新型内容本实用新型的目的是提供一种适用于大颗粒物料下滑的滑道，解决了物料在滑道上出现横向跳动的问题，设计简单，结构合理，可以有效的阻止物料在下滑过程中的横向跳 动，使物料下滑得更平缓、均匀。本实用新型采用的技术方案如下一种适用于大颗粒物料下滑的滑道，包括滑道，所述的滑道面上具有多个连续并置排列的滑槽，滑道底面两边具有固定槽，中间具有固定条，滑槽底面设有沟槽，相邻滑槽之间具有凸起部分。所述的滑道正面两侧具有固定板。所述的滑槽面进行真空镀膜处理。与已有技术相比，本实用新型的有益效果如下本实用新型设计将相邻滑槽的之间具有凸起部分，可以有效的阻止物料在下滑过程中的横向跳动，同时可以减小纵向跳到，使物料下滑得更平缓、均匀。
图I为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
参见附图，一种适用于大颗粒物料下滑的滑道，包括滑道1，滑道I面上具有多个连续并置排列的滑槽2，滑道I底面两边具有固定槽3，中间具有固定条4，滑槽2底面设有沟槽5，相邻滑槽2之间具有凸起部分6。可以有效的阻止物料在下滑过程中的横向跳动，同时可以减小纵向跳到，使物料下滑得更平缓、均匀。滑道I正面两侧具有固定板7。防止物料跳出滑道造成物料浪费，滑槽2面进行真空镀膜处理，减小物料下滑阻力，便于物料下滑。
权利要求1.一种适用于大颗粒物料下滑的滑道，包括滑道，其特征在于所述的滑道面上具有多个连续并置排列的滑槽，滑道底面两边具有固定槽，中间具有固定条，滑槽底面设有沟槽，相邻滑槽之间具有凸起部分。
2.根据权利要求I所述一种适用于大颗粒物料下滑的滑道，其特征在于所述的滑道正面两侧具有固定板。
3.根据权利要求I所述一种适用于大颗粒物料下滑的滑道，其特征在于所述的滑槽面进行真空镀膜处理。
专利摘要本实用新型公开了一种适用于大颗粒物料下滑的滑道，包括滑道，滑道面上具有多个连续并置排列的滑槽，滑道底面两边具有固定槽，中间具有固定条，滑槽底面设有沟槽，相邻滑槽之间具有凸起部分。本实用新型解决了物料在滑道上出现横向跳动的问题，设计简单，结构合理，可以有效的阻止物料在下滑过程中的横向跳动，使物料下滑得更平缓、均匀。
文档编号B07C5/342GK202492111SQ20122002914
公开日2012年10月17日 申请日期2012年1月20日 优先权日2012年1月20日
发明者江国军 申请人:安徽唯嵩光电科技有限公司