高效率检粒机的制作方法

本实用新型涉及一种检粒机，尤其涉及一种可以用于使二极管玻壳紧密排列，且便于工人快速检粒的高效的检粒机。

背景技术：

二极管玻壳在生产时中因切割、成粒容易产生破碎、管口有裂口、或者长短产生残次品，在出厂的时候需要人工拣出残次品。在成堆的二极管玻壳中挑出不合格产品是一件非常难的事情，工人们费尽心思也很难将不合格产品全部拣出，这就需要制作一种工具可以方便、简单将不合格的二极管玻壳分出。

此前申报的中国专利(申请号：CN201320206586.8，公告号：CN203184253U，名称为“一种检粒机”)。公开了如下技术方案：由检粒板、进料桶、出料箱组成，所述的检粒板上有规则排列的锯齿状沟槽，沟槽底部夹角为80-100°，沟槽宽度为2-4mm，二极管玻壳可以整齐的排列在沟槽内。检粒板下方有振动装置，可以控制检粒板有规则的振动，手工将残次品拣出后，合格的产品继续移动并掉入检粒板下方的出料箱内。通过实际使用发现，这种检粒机使用起来效率不高，原因在于，工人在检粒时，视野范围只能顾及到大约直径约30厘米圆，检粒板过大，上面排满了玻壳，工人需要分区域的检查，但是玻壳排满后，没有分界线，导致工人在检粒时很容易眼花，导致重复工作，或是漏检。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种便于工人操作的高效率检粒机。

为了实现上述目的，本实用新型包括，检粒板、下料斗，所述检粒板上有规则排列的锯齿状沟槽，检粒板下方有振动装置，下料箱位于检粒板下方，所述检粒板分成两个平行排部的第一检粒板和第二检粒板，第一检粒板和第二检粒板之间设置凸起的格挡架，格挡架上设置滑轨，滑轨上设置可沿检粒板长度方向滑动的灯。

将检粒板分成两个水平平行在同一个平面上的小检粒板，便于工人操作。且小检粒板之间设置格挡架，将两个小检粒板明确的分隔开，从而不会影响工人的视野，防止重复检测或漏检。此外，设置能够滑动的灯便于工人看清玻壳的状态，同时也能起到标记已检区和未检区的作用，防止重复检测和漏检。

进一步的，所述第一检粒板的底面中心设置定位于机架上的第一转轴，第一转轴指向机架外的一端固定一个第一转轮；第二检粒板底面中心设置定位于机架上的第二转轴，第二转轴指向机架外的一端固定一个第二转轮。检测完成后，转动转轮，即可直接将玻壳倒入下料箱，操作非常方便。

进一步的，所述下料斗底端连接缓冲板，缓冲板上设置导向板，导向板固定于缓冲板中间，成水平设置的V字型，其开口两端分别抵触第一或第二检粒板(、)。设置缓冲板能够是玻璃在检粒板上排列更整齐，更快，防止出现玻壳上下重叠的情况。

进一步的，所述第一检粒板和第二检粒板临近缓冲板的一端的底面上均固定一个弧形板，弧形板向缓冲板方向凸起。当需要将检粒板上的玻壳倒入下料箱时，转动转轴，检粒板临近缓冲板的一端翘起，为了防止玻壳从缓冲板上掉落，增加弧形板挡住缓冲板的下料端。

进一步的，所述振动装置有两个，分别固定于第一检粒板或第二检粒板的底面上，固定位置位于第一转轴和第二转轴与缓冲板之间的。设置单独工作的振动装置能够便于第一和第二检粒板分开工作，进一步提高检粒效率。

附图说明

图1本实用新型主视图。

图2是本实用新型俯视图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型做详细描述。

如图1和2所示，一种高效率检粒机，包括检粒板、下料斗12，所述检粒板上有规则排列的锯齿状沟槽，检粒板下方有振动装置30，下料箱14位于检粒板下方，其特征在于，所述检粒板分成两个平行排部的第一检粒板21和第二检粒板22，第一检粒板21和第二检粒板22之间设置凸起的格挡架23，格挡架 23上设置滑轨，滑轨上设置可沿检粒板长度方向滑动的灯24。

一种较优的实施方式，所述第一检粒板21的底面中心设置定位于机架10上的第一转轴25，第一转轴25指向机架10外的一端固定一个第一转轮26；第二检粒板22底面中心设置定位于机架10上的第二转轴27，第二转轴27指向机架10外的一端固定一个第二转轮28。

一种较优的实施方式，所述下料斗12底端连接缓冲板11，缓冲板11上设置导向板13，导向板13 固定于缓冲板11中间，成水平设置的V字型，其开口两端分别抵触第一或第二检粒板21、22。

一种较优的实施方式，所述第一检粒板21和第二检粒板22临近缓冲板11的一端的底面上均固定一个弧形板29，弧形板29向缓冲板11方向凸起。

使用时，玻壳从下料斗12进入第一和第二检粒板21、22，格挡架23的作用下，能够便于工人区分。使用灯24对检粒板进行朝明也能标记已经检测过得区域和没有检测的区域，检测完一个小检粒板后，将玻壳倒入下料箱14，再检测另一个小检粒板，同时空余检粒板进料。交替连续工作，效率更高。

以上所述仅为本实用新型的优选实施方式，并不用于限制本实用新型，对于本领域技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型精神和原则内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。