一种多孔硅颗粒在伤口pH可视化监测中的应用的制作方法

文档序号:12458447阅读:427来源:国知局
一种多孔硅颗粒在伤口pH可视化监测中的应用的制作方法与工艺

本发明涉及一种多孔硅颗粒在伤口pH可视化监测中的应用。



背景技术:

伤口愈合是一个复杂的细胞再生过程,涉及细胞的坏死、脱落,再生长等一系列复杂的生理化学反应。伤口修复一共包含四个过程:止血、炎症反应、细胞增殖和组织重构。每一个阶段,细胞都进行不同的生化反应,所产生的代谢物也不相同。因此,在伤口修复过程中,这类生物标志物的存在指标代表了伤口愈合情况,预测伤口走向,指导后续的治疗方案。

现代医学在治疗伤口过程中,往往采用经验医学。医生通过就诊经验对患者伤口进行用药及制定后续的治疗计划。这在一定程度上会错过最佳治疗时间、增加医疗费用、恶化伤口、浪费资源。因此对伤口环境进行生物标志物的监控,实现精准治疗具有很重要的意义。伤口修复中大量的酶促反应、微生物在伤口的繁殖,均依赖于伤口环境的pH值。因此,pH值的变化能够精确地指示出伤口的愈合情况及未来走势,从而有利于精准用药与后续治疗计划的制定。

目前伤口pH的传感系统主要为电化学体系,包括伏安法、电位法、阻抗法等。与传统电化学相比,伤口电化学传感体系主要工作在于制备微型电极、寻找敏感的电活性物质,结合射频装置整合于微型电路中,起到远程监控的作用。由于检测环境为伤口环境,体系电极容易受到污染。同时存在着电活性物质的生物相容性、制作工艺繁琐、需要接收终端等问题。本发明旨在利用生物无毒性的硅材料的荧光特性,肉眼可见地监控伤口pH的变化。该方法具有制作工艺简单、生物相容性好、可视化的特点。



技术实现要素:

本发明的目的在于针对现有技术的不足,基于生物无毒的多孔硅颗粒在不同pH环境下表现出不同的荧光发光动力学特征,提供一种多孔硅颗粒在伤口pH可视化监测中的应用。

本发明的目的是通过以下技术方案实现的:一种多孔硅颗粒在伤口pH可视化监测中的应用。

进一步地,所述多孔硅颗粒通过以下步骤得到:

(1)以有机溶剂与质量浓度为30~40%的氢氟酸按体积比为1:3~6混合的混合液作为电解液,以p型硅片为阳极,铂电极为阴极,以电流密度为30~90mA·cm-1进行恒电流电解或交流刻蚀,得到多孔硅。其中交流刻蚀时每个周期为5~20秒,并重复50~80个周期,恒电流电解的时间为5-15min;

(2)以2~5%质量浓度的氢氟酸溶液为电解液,以步骤1处理后得到的多孔硅片为阳极,铂电极为阴极,以电流密度为10~50mA·cm-1进行恒电流刻蚀3~5min,多孔硅薄膜脱离硅基底。

(3)将步骤(2)得到的多孔硅薄膜置于乙醇中超声处理3~10min,获得微米级多孔硅颗粒。

进一步地,所述步骤2获得的多孔硅薄膜还经羧基化修饰或烷基化修饰,然后按照步骤3进行超声处理。

进一步地,所述步骤3获得的多孔硅颗粒还经活化处理,所述活化处理为:在磷酸盐溶液中浸泡处理10~20h。

进一步地,活化处理后的颗粒还进行氨基化修饰。

进一步地,所述羧基化修饰采用的试剂为十一碳烯酸,丙烯酸,十二碳烯等末端带有双键的功能化有机试剂。

进一步地,所述胺基化修饰采用的试剂为(3-胺基丙基)三乙氧基硅烷、双[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]胺等。

同现有技术相比,本发明具有的有益效果如下:

1)本发明所制备的多孔硅颗粒,降解产物为硅酸盐。因此,相比于其他量子点和荧光染料,本材料具有无毒、生物相容性好等特点;

2)本荧光材料受pH环境的影响,表现出不同的荧光发光动力学特征,可用于监控伤口pH的变化;

3)本荧光材料对监控pH所产生的荧光变化,肉眼可见。实现了可视化监控,无需复杂的信号传输设备,实用,方便;

4)本荧光材料具有纳米级孔道结构,具有药物负载功能。在材料的降解过程中,可以释放药物以治疗伤口。因此,本材料可同时实现药物负载与伤口监控。

附图说明

图1不同pH环境下,多孔硅的荧光特性。

图2不同表面化学多孔硅颗粒的荧光特性。

具体实施方案

实施例1:

多孔硅颗粒的制备方法:

(1)将P型掺硼硅片固定在电解池中,按体积比为1:3的比例加入有机溶剂乙醇和质量浓度为30%的氢氟酸作为电解液,以硅片为阳极,铂电极为阴极,以电流密度为30mA·cm-1进行恒电流电解10min,得多孔硅;

(2)继续刻蚀,改变刻蚀液氢氟酸的质量浓度为3.3%,刻蚀电流密度为50mA·cm-1,进行恒电流刻蚀,3min后多孔硅薄膜脱离硅基底。

(3)将步骤(2)得到的多孔硅薄膜置于乙醇中超声处理10min,获得微米级多孔硅颗粒。

将获得的荧光多孔硅颗粒对pH进行可视化辨别:分别配制不同pH的Tris-HCl缓冲溶液(缓冲液浓度为0.05M),pH值分别为7.4(碱性)、7.0(中性)、6.5(酸性)。将多孔硅颗粒分别浸泡于上述不同pH的Tris-HCl缓冲溶液中,使用紫外光作为激发光源,多孔硅颗粒荧光强度的灰度值随着时间变化如图1所示。该荧光强度的变化肉眼可见,实现了通过多孔硅荧光对pH的可视化辨别。

实施例2:

羧基化修饰的多孔硅颗粒制备:

(1)以甲苯为溶剂,配制十一碳烯酸与甲苯体积比为1:8~15的混合溶液;

(2)电化学制备、未超声的将多孔硅颗粒在分散于上述混合溶液中,100~150℃下油浴,氮气气氛下加热回流,反应1.5~3h,得到羧基化后的多孔硅颗粒,超声仪超声3~10min后,得羧基化修饰的微米级多孔硅颗粒。

实施例3:

胺基化修饰的多孔硅颗粒制备:

(1)以DMOS(二甲亚砜)为溶剂,配制体积分数为1~3%的(3-胺基丙基)三乙氧基硅烷DMSO溶液;

(2)将超声后的颗粒在磷酸盐溶液中荧光激活后,在上述反应溶液中,无水环境下,在摇床中反应10~30min;

(3)分别使用DMSO、乙醇、水冲洗颗粒,75~100℃下空气中加热10-20min,得胺基化修饰的多孔硅颗粒。

将上述实施例1-3制备的三种不同的多孔硅颗粒浸泡于pH为6.5的Na2HPO4-NaH2PO4缓冲液中(浓度为0.05M)。使用紫外灯作为激发光源,多孔硅荧光强度灰度值随时间变化如图2所示。从图中可以看出在不同的表面化学修饰下,多孔硅荧光呈现不同的发光动力学。因此,通过对表面化学的调控,能够更加有效的利用多孔硅荧光进行可视化辨别。

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