70 %至lj 130 %，且甚至更优选地是电解电流11的强度的大约80 %到120 %。
[0139]因此，如果铝厂1包括在电解池50下方形成单个匝的次级补偿电路6，则流动通过此补偿电路6的补偿电流的强度可以是电解电流Ιι的强度的大约50%到150%。如果此次级补偿子电路6在电解池50下方形成Ν匝，则穿过这些匝中的每个的Ν个电流强度的总和是电解电流Ιι的强度的大约50%到150%。因此，根据图5中的实施例，与穿过两匝中的每个的电流120的强度和电流121的强度的总和对应的电流12的强度可以是电解电流Ii的强度的大约50%到150%。
[0140]本发明还涉及一种用于搅拌铝厂1的电解池50中的氧化铝的过程。此过程包括调制流动通过补偿电路6的补偿电流的强度或如果适用的话调制流动通过形成该补偿电路的子电路的补偿电流的强度的步骤。此调制更具体地可以随氧化铝的特性、电解电流强度的变化或铝厂的结构改变而变化。
[0141]此搅拌氧化铝的过程包括以下步骤:
[0142]-分析氧化铝的至少一个特性(例如，氧化铝溶解在浴中的能力、氧化铝的流动性、氧化铝的溶解度、氧化铝的氟含量、氧化铝的水分含量等)，
[0143]-基于所述至少一个分析的特性确定必须流过补偿电路的补偿电流的强度的值(此确定步骤是通过使用提供在电流强度的值和分析的特性之间的关系的实验获得的计算图表执行的)，以在尽可能少地影响性能的同时产生适合于有效地搅拌氧化铝的MHD流的速度阈值，
[0144]-根据在先前步骤中确定的电流强度值改变补偿电流12的强度。
[0145]当然本发明不限于上文描述的实施方案，此实施方案仅是以实施例的方式提供的。从而，尤其从多个部件的构造或等同技术的代替的角度来看，在不超出本发明的保护范围的前提下，多种改型是可能的。本发明例如与使用在电解反应过程中形成氧气的“惰性”类型的阳极兼容。
【主权项】
1.一种铝厂(1)，包括:相对于行的长度横向布置的至少一行电解池(50)，所述电解池(50)中的每个均包括:一个槽壳(60)，阳极组件以及一个阴极(56)，所述阳极组件包括一个支撑件(53)和至少一个阳极(52)，且阴极导体(58)穿过所述阴极(56)，所述阴极导体(58)用来收集所述阴极处的电解电流(1:)以将其传导到所述槽壳的外部的阴极引出部，其特征在于，所述电解池(50)包括:连接到所述阳极组件的上升和连接电导体(54)，所述上升和连接电导体沿着所述电解池(50)的两个相对的纵向边缘向上延伸以将所述电解电流(10传导到所述阳极组件；以及连接到所述阴极引出部的链接导体(57)，所述链接导体被设计为将来自所述阴极引出部的电解电流传导到下一个电解池(50)的上升和连接电导体(54)，并且所述铝厂(1)包括至少一个补偿电路(6)，所述至少一个补偿电路在所述电解池(50)下方延伸，在所述电解池(50)下方流动的通过补偿电路(6)的补偿电流(I2)的流动方向与流动通过位于上方的电解池(50)的电解电流(I i)的总体流动方向相反。2.根据权利要求1所述的铝厂(1)，其中所述补偿电路(6)是与电解电流(10流动通过的电路分立的次级补偿电路。3.根据权利要求1或2所述的铝厂(1)，其特征在于，所述铝厂(1)包括彼此平行布置的两行池，所述池通过单个站供电且串联电连接，以使得在所述两行池中的第一行中流动的电解电流随后以与其在所述两行池中的第一行中流动的方向总体相反的方向在所述两行池中的第二行中流动;并且所述补偿电路(6)在这两行平行的池下方形成一个环路。4.根据权利要求1到3中的任一项所述的铝厂(1)，其特征在于，所述电解池(50)包括多个上升和连接电导体(54)，所述多个上升和连接电导体(54)沿着电解池的两个纵向侧中的每一个以预定间隔分布在对应的纵向边缘的大体整个长度上。5.根据权利要求1到4中的任一项所述的铝厂(1)，其特征在于，所述上升和连接电导体(54)相对于所述电解池(50)的纵向中央平面以大体上对称的方式布置。6.根据权利要求1到5中的任一项所述的铝厂(1)，其特征在于，所述链接导体(57)在电解池(50)下方在相对于电解池(50)的横向方向上大体直地延伸。7.根据权利要求1到6中的任一项所述的铝厂(1)，其特征在于，所述补偿电路(6)包括形成彼此独立的多个次级补偿子电路的电导体。8.根据权利要求1到7中的任一项所述的铝厂(1)，其特征在于，所述补偿电路(6)包括在所述电解池(50)下方平行延伸的电导体。9.根据权利要求1到8中的任一项所述的铝厂(1)，其特征在于，形成所述补偿电路的电导体或者如果适用的话形成次级补偿子电路的电导体在所述电解池(50)下方延伸，共同形成一层的二到十二个平行的电导体，且优选地共同形成一层的三到十个平行的电导体。10.根据权利要求7到9中的任一项所述的铝厂(1)，其中所述电导体大体上相等地间隔开，并且相对于电解池(50)的横向中央轴线大体上对称地布置。11.根据权利要求1到10中的任一项所述的铝厂(1)，其特征在于，沿着电解池(50)的两个纵向边缘之一延伸的上升和连接电导体(54)相对于布置在分立的在前的或在后的电解池(50)的相邻的纵向边缘上的上升和连接电导体(54)错列布置。12.根据权利要求1到11中的任一项所述的铝厂(1)，其特征在于，每个阴极引出部(58)仅在垂直于电解池(50)的纵向方向的竖向平面中离开槽壳(60) ο13.根据权利要求1到12中的任一项所述的铝厂(1)，其特征在于，所述阳极组件的支撑件(5 3)包括一个相对于电解池(50)横向延伸的横向构件，所述横向构件被支撑且被电连接在电解池(50)的任一侧上的两个纵向边缘中的每个处。14.根据权利要求1到13中的任一项所述的铝厂(1)，其特征在于，上升和连接导体(54)在槽壳(60)的任一侧上延伸，而不在一个或多个阳极(52)上方延伸。15.根据权利要求1到14中的任一项所述的铝厂(1)，其特征在于，上升和连接电导体(54)延伸到一个大体上水平的平面上方的高度(h)介于0到1.5米之间，该大体上水平的平面包括存在于电解池(50)内的液体(63)的表面。16.用于使用根据权利要求1到15中的任一项所述的铝厂(1)的方法，其特征在于，在电解池(50)下方流动的通过补偿电路(6)的补偿电流(12)的方向与流动通过位于上方的电解池(50)的电解电流(I i)的总体流动方向相反。17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，所述补偿电流(12)的强度是电解电流(Ιι)的强度的大约50%到150%。18.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述补偿电流(12)的强度是电解电流(Ιι)的强度的大约70%到130%，且优选地是电解电流(I!)的强度的大约80%到120%。19.根据权利要求16到18中的任一项所述的方法，其特征在于，设置在电解池(50)的上游的上升和连接电导体(54)与设置在电解池(50)的下游的上升和连接电导体(54)之间的电流分布分别是大约30 % -70 %上游以及30 % -70 %下游。20.根据权利要求19所述的方法，其特征在于，设置在电解池(50)的上游的上升和连接电导体(54)与设置在电解池(50)的下游的上升和连接电导体(54)之间的电流分布分别是大约40%-60%上游以及40%-60%下游。21.根据权利要求20所述的方法，其特征在于，设置在电解池(50)的上游的上升和连接电导体(54)与设置在电解池(50)的下游的上升和连接电导体(54)之间的电流分布分别是大约45%-55%上游以及45%-55%下游。22.用于搅拌存在于根据权利要求1到15中的任一项所述的铝厂(1)的电解池(50)内的氧化铝的过程，所述过程包括: -分析所述氧化铝的至少一个特性， -根据分析的所述至少一个特性确定必须在补偿电路(6)中流动的补偿电流的强度的值， -如果补偿电流(12)的强度与在先前步骤中确定的强度的值不同，则将该补偿电流(12)改变成在先前步骤中确定的强度的值。
【专利摘要】此铝厂包括相对于行的长度横向布置的一行池(50)，所述池(50)中的一个包括：一个阳极(52)；上升和连接电导体(54)，所述上升和连接电导体沿着所述池(50)的两个相对的纵向边缘向上延伸以将电解电流传导朝向所述阳极(52)；以及一个阴极(56)，连接到与链接导体连接的阴极引出部的阴极导体(55)穿过所述阴极以将电解电流传导到下一个池(50)的上升和连接电导体。此外，所述铝厂包括一个与电解电流流动通过的电路不同的补偿电路，所述补偿电路在所述池(50)下方延伸，补偿电流可以在所述池(50)下方在与电解电流的总体流动方向相反的方向上流动通过所述补偿电路。
【IPC分类】C25C3/06, C25C3/08
【公开号】CN105452536
【申请号】CN201480044967
【发明人】S·瑞纳乌迪尔, B·巴德特, O·马丁, C·杜瓦
【申请人】力拓艾尔坎国际有限公司
【公开日】2016年3月30日
【申请日】2014年7月30日
【公告号】CA2919050A1, EP3030695A1, US20160201208, WO2015017924A1