一种面膜机专用磁力驱动齿轮泵的制作方法

本实用新型涉及磁力驱动齿轮泵技术领域，尤其涉及一种面膜机专用磁力驱动齿轮泵。

背景技术：

面膜机上所用的泵，一般都是在高转速下运行，而齿轮轴和泵前、后盖上的滑动轴承所形成的相对运动是转动运动，转动运动属于低副(即两构件以面接触的运动副)。齿轮轴在滑动轴承内高速转动，并且是以面接触旋转。这样会使齿轮轴和滑动轴承之间形成很大的摩擦力。泵在高转速运行下，大摩擦力会导致齿轮轴和滑动轴承急剧磨损，长时间使用的话，会使泵的整体性能下降，甚至使泵损坏。现有技术中能够面膜机专用的磁力驱动齿轮泵工作时会产生噪音，并且泵的使用寿命低。

技术实现要素：

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在噪音大、寿命低的缺点，而提出的一种面膜机专用磁力驱动齿轮泵。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种面膜机专用磁力驱动齿轮泵，包括后盖和前盖，所述后盖的一侧开设有凹槽，凹槽的内部分别安装有主动齿轮和被动齿轮，凹槽的一侧通过螺丝安装有轴承部件，轴承部件的内部套设有转子，转子的外部通过螺丝固定有转子罩，转子一端的两侧均安装有磁驱部件，后盖的顶部通过螺钉固定有支架，且后盖的一侧安装有泵体。

优选的，所述主动齿轮和被动齿轮啮合连接。

优选的，所述泵体上开设有通孔，泵体、主动齿轮与被动齿轮的中心在同一轴线上。

优选的，所述后盖与前盖的大小形状相同。

优选的，所述支架的一侧通过螺丝安装有电机。

优选的，所述凹槽的内壁分别焊接有第一支撑杆和第二支撑杆，第一支撑杆和第二支撑杆的另一端均套设有轴承，轴承的外部分别套设有主动齿轮和被动齿轮。

本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型中通过润滑孔、主动齿轮、从动齿轮等结构的设置，在泵的后盖上增加润滑孔，使齿轮轴和滑动轴承之间会有液体流动，增加齿轮轴和滑动轴承之间的润滑性，从而减小齿轮轴和滑动轴承之间摩擦力，这样减小了泵在输送液体时所产生的噪音，同时增加泵的使用寿命。

2、本实用新型中泵的后盖上的润滑孔是斜孔，它是由泵的后盖上接触液体的表面到两个滑动轴承安装孔，并且在滑动轴承安装孔内的深度要大于滑动轴承安装深度，以此保证润滑孔不会被滑动轴承所遮挡住。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种面膜机专用磁力驱动齿轮泵的正面剖视图；

图2为本实用新型提出的一种面膜机专用磁力驱动齿轮泵的侧视图。

图中：1后盖、2磁驱部件、3主动齿轮、4被动齿轮、5轴承部件、6泵体、7转子、8支架、9前盖、10润滑孔。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

参照图1-2，一种面膜机专用磁力驱动齿轮泵，包括后盖1和前盖9，所述后盖1的一侧开设有凹槽，凹槽的内部分别安装有主动齿轮3和被动齿轮4，凹槽的一侧通过螺丝安装有轴承部件5，轴承部件5的内部套设有转子7，转子7的外部通过螺丝固定有转子罩，转子7一端的两侧均安装有磁驱部件2，后盖1的顶部通过螺钉固定有支架8，且后盖1的一侧安装有泵体6，主动齿轮3和被动齿轮4啮合连接，泵体6上开设有通孔，泵的后盖1上的润滑孔10是斜孔，它是由泵的后盖上接触液体的表面到两个滑动轴承安装孔，并且在滑动轴承安装孔内的深度要大于滑动轴承安装深度，以此保证润滑孔不会被滑动轴承所遮挡住，泵体6、主动齿轮3与被动齿轮4的中心在同一轴线上，后盖1与前盖9的大小形状相同，支架8的一侧通过螺丝安装有电机，凹槽的内壁分别焊接有第一支撑杆和第二支撑杆，第一支撑杆和第二支撑杆的另一端均套设有轴承，轴承的外部分别套设有主动齿轮3和被动齿轮4，通过润滑孔10、主动齿轮3、从动齿轮4等结构的设置，在泵的后盖1上增加润滑孔10，使齿轮轴和滑动轴承之间会有液体流动，增加齿轮轴和滑动轴承之间的润滑性，从而减小齿轮轴和滑动轴承之间摩擦力，这样减小了泵在输送液体时所产生的噪音，同时增加泵的使用寿命。

本实施例中，工作时，当主动齿轮3和从动齿轮4相互啮合时，齿轮脱开侧的空间由小变大，形成一侧真空，从而将液体吸入泵内；齿轮啮合侧的空间由大变小，将液体挤出并形成一定压力。齿轮泵的出口压力值，取决于齿轮泵出口处的阻力大小，润滑孔10都是在泵的吸油腔内，因为吸油腔在做吸油动作时，吸油和排油腔会有一定的压力差，吸油腔的压力会比排油腔的压力低，这样会把一小部分的液体挤入润滑孔内。液体会沿着润滑孔流入到滑动轴承安装孔内。滑动轴承和齿轮轴之间会有一定的间隙，液体会因为虹吸现象和压力差的影响，沿着两者之间的间流入齿轮的端面和后盖1之间的间隙内，再由后两者的间隙流入到吸油腔内。以此循环来降低齿轮轴和滑动轴承之间摩擦力，提高泵的使用寿命。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。