专利名称：一种应用于扫描电子显微镜硅片样品镀铂金的载体的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及扫描电子显微镜硅片样品的制备，尤其涉及一种应用于扫描电子显微镜硅片样品镀铂金的载体。
背景技术：
扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope，以下简称SEM)是一种电子束成像仪器，传统的扫描电子显微镜具有以下功能(1)断口的形貌观察；(2)显微组织观察。目前扫描电子显微镜广泛应用于半导体电子产业及IC工业上，其主要应用于半导体芯片的断面和表面的形貌观察以及待测样品的成分确认等。
成像原理SEM是通过高能电子入射固体样品表面，与样品的原子核和核外电子发生弹性或非弹性散射，激发样品产生各种物理信号(如背散射电子、二次电子、吸收电子、俄歇电子等)，利用电子检测器，接收信号形成图像。
如果样品表面是非导电材质，一部分电子将会在样品表面聚集，形成电荷积累，导致SEM的观察图像模糊不清，本行业中通常使用在样品表面镀上一层金属膜(常用Pt)的方法来防止或者减少这种现象的发生。
镀铂金原理利用高能离子(Ar)撞击到靶材(Pt)上，靶材原子从表面逸出并淀积在硅片样品表面形成薄膜。
通常的样品镀铂金过程是将一个个样品平放(表面朝上)在镀铂金机器中，而样品多了就不方便携带，容易混淆，同时这样的过程也会造成样品表面和断面镀铂金不均匀的效果。
实用新型内容本实用新型所要解决的技术问题是提供一种应用于扫描电子显微镜硅片样品镀铂金的载体，它不但可以同时加工多个硅片样品，同时也便于区分，另外可以使硅片样品的表面与断面能够均匀镀上铂金。
为了解决以上技术问题，本实用新型提供了一种应用于扫描电子显微镜硅片样品镀铂金的载体，所述载体是一个平台，在平台表面上开有一个以上的槽，所述的样品可以倾斜地静置在所述槽内。
所述的槽的一侧面与平台表面的角度为90-135度，另一相对侧面与平台表面的角度为135度。
所述的平台分为底座和载物平台，所述的槽开在载物平台上。
因为本实用新型采用了开有多个槽的平台，这样可以实现多个样品同时加工，并且便于携带，另外每个槽与平台成一定的倾斜角，这样也便于加工，而每个槽的一侧面与表面成135度角，那么样品置于槽内与平面成45度角，这样可以使样品的表面和断面能够均匀地镀上铂金，另外所述的平台分为底座和载物平台，这样携带时可以携带底座，可以防止碰到载物平台上的样品。
以下结合附图和具体实施方式
对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型载体结构示意图；图2是本实用新型带有样品的载体槽放大图。
具体实施方式
附图1，2所示，是本实用新型的一具体实例(适用于长度小于10mm，宽度小于5mm，厚度为0.73mm的硅片样品)，一种圆形的金属载体，主要分成底座1和载物平台2两个部分，底座1直径为45mm、厚度10mm，载物平台2直径为60mm、厚度5mm(直径根据镀铂金时靶材的有效范围所定制)，在载物平台2上开若干条槽3，槽3的底宽度为0.8mm、深度为2mm，槽3的一侧与载物平台2的角度a为90度，另一侧与载物平台2的角度b成135度角，两槽之间的间距为7mm。
底座1是为了便于手持底座方便水平移动，而不会触及到载物平台上的样品；槽的一侧与表面的角度b为135度，样品置于槽内与平面成45度角，使样品的表面和断面能够均匀地镀上铂金；硅片样品长度小于10mm，这样使用这个载体可进行多样品同时镀铂金。
另外，假设角度a在90-135度之间，那么角度b应该在130-140度之间，最好为135度，这样才能达到样品表面和断面镀金均匀的效果，并且样品可以平稳放置在平台上。
权利要求1.一种应用于扫描电子显微镜硅片样品镀铂金的载体，其特征在于，所述载体是一个平台，在平台表面上开有一个以上的槽，所述的样品倾斜地静置在所述槽内。
2.如权利要求1所述的应用于扫描电子显微镜硅片样品镀铂金的载体，其特征在于，所述的平台为金属平台。
3.如权利要求1或2所述的应用于扫描电子显微镜硅片样品镀铂金的载体，其特征在于，所述的平台分为底座和载物平台，所述的槽开在载物平台上。
4.如权利要求1或2所述的应用于扫描电子显微镜硅片样品镀铂金的载体，其特征在于，所述的槽的一侧面与平台表面的角度为90-135度角，另一相对侧与平台表面的角度为135度。
5.如权利要求3所述的应用于扫描电子显微镜硅片样品镀铂金的载体，其特征在于，所述的槽的一侧面与平台表面的角度为90-135度，另一相对侧面与平台表面的角度为135度。
6.如权利要求1或2所述的应用于扫描电子显微镜硅片样品镀铂金的载体，其特征在于，所述的槽的一侧面与平台表面的角度为90-135度，另一相对侧面与平台表面的角度为130-140度。
7.如权利要求3所述的应用于扫描电子显微镜硅片样品镀铂金的载体，其特征在于，所述的槽的一侧面与平台表面的角度为90-135度，另一相对侧面与平台表面的角度为130-140度。
专利摘要本实用新型公开了一种应用于扫描电子显微镜硅片样品镀铂金的载体，它不但可以同时加工多个硅片样品，同时也便于区分，另外可以使硅片样品的表面与断面能够均匀镀上铂金。它是一个平台，在平台表面上开有一个以上的槽，所述的样品可以倾斜地静置在所述槽内。所述的槽的一侧与平台表面的角度为90－135度，另一侧与平台表面的角度为135度。所述的平台分为底座和载物平台，所述的槽开在载物平台上。
文档编号G01N23/00GK2886559SQ20052004731
公开日2007年4月4日 申请日期2005年12月8日 优先权日2005年12月8日
发明者唐涌耀, 裘莺 申请人:上海华虹Nec电子有限公司