专利名称：感测试片结构的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种感测试片结构，主要应用于血糖测试，且在作为电极的金属图案总成中包含至少一层纳米级的金属图案层。
背景技术：
化学感测片于数十年来已被成熟应用于各种流体的检测上。常见的化学感测片通常包含参考电极与工作电极，电极的制法或选用的材料上，皆会影响检测上所获得的数值的精确度，在材料导电部分，导电电阻低，导电稳定性越高越好。在目前常用的情形，是将测试用参考电极与工作电极的图案，以黏贴方式制作为绝缘基板上，然而，粘着剂的使用容易造成电阻增大、导电率降低，而容易造成测试数据的误判，另外，虽然也有改变结构，以电镀的方式来进行，然而，由于镀层还需要后续的蚀刻处 理，容易造成电极剥离的现象，因此，需要一种解决习用技术问题的结构与方法。
实用新型内容本实用新型的主要目的在于提供一种感测试片结构，包含一绝缘基板；以及一线路金属图案总成，该线路金属图案总成形成在绝缘基板上，作为测试电极，且包含由下而上依序堆叠的一第一金属图案层、一第二金属图案层、一第三金属图案层、一第四金属图案层，以及一第五金属图案层，其中该第一金属图案层、该第二金属图案层、该第三金属图案层、该第四金属图案层以及该第五图案层的图形及位置完全重叠，且该第一金属图案层的厚度范围在20 50纳米，是以铬(Cr)、镍(Ni)、钛(Ti)、铝(Al)、锡(Sn)JB (In)、钯(Pd)、钨(W)、铁(Fe)、金(Au)、银(Ag)、钼(Pt)、钢的至少其中之一所制成，而该第二金属图案层的厚度范围在40 90纳米，是以铜(Cu)、镍(Ni)、钛(Ti)、铝(Al)、锡(Sn)、铟(In)、钯(Pd)、钨(W)、铁(Fe)、金(Au)、银(Ag)、钼(Pt)、钢的至少其中之一所制成。本实用新型的特点在于，线路金属图案总成中的第一金属图案层及第二金属图案层为纳米等级的金属层，在均匀度上较佳，同时具有低电阻，进而使后续测试电流稳定，而能避免不稳定的电流造成测试数据误判，同时提供较快的测试速度。
图I为本实用新型感测试片结构的剖面示意图。主要组件符号说明I 感测试片结构10绝缘基板30线路金属图案总成31第一金属图案层33第二金属图案层35第三金属图案层[0014]37第四金属图案层39第五金属图案层
具体实施方式
以下配合图式及组件符号对本实用新型的实施方式做更详细的说明，以使本领域技术人员在研读本说明书后能据以实施。参考图1，图I为本实用新型感测试片结构的剖面示意图。如图I所示，本实用新型的感测试片结构I包含一绝缘基板10以及线路金属图案总成30，线路金属图案层总成30形成在绝缘基板10上，该线路金属图案总成30包含由下而上依序堆叠的一第一金属图案层31、一第二金属图案层33、一第三金属图案层35、一第四金属图案层37以及一第五金
属图案层39。该第一金属图案层31、该第二金属图案层33、该第三金属图案层35、该第四金属图案层37以及该第五图案层39的图形及位置完全重叠。绝缘基板10 是以聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate,PETE)、高密度聚乙烯(High-Density Polyethylene, HDPE)、聚丙烯(Polypropylene, PP)、聚酰亚胺(Polymind, PI)所制成，其厚度范围为25 250微米。第一金属图案层31的厚度范围在20 50纳米，是以铬(Cr)、镍(Ni)、钛(Ti)、铝(Al)、锡(Sn)、铟(In)、钯(Pd)、钨(W)、铁(Fe)、金(Au)、银(Ag)、钼(Pt)、钢的至少其中之一所制成，较佳为铬(Cr);第二金属图案层33的厚度范围在40 90纳米，是以铜(Cu)、镍(Ni)、钛(Ti)、铝(Al)、锡(Sn)、铟(In)、钯(Pd)、钨(W)、铁(Fe)、金(Au)、银(Ag)、钼(Pt)、钢的至少其中之一所制成，较佳为铜(Cu);第三金属图案层35的厚度范围在20 30微米，是以钯(Pd)所制成；第四金属图案层37的厚度范围在20 30微米，是以镍(Ni)所制成；以及第五金属图案层39的厚度范围在2 5微米，是以金(Au)、银(Ag)、铜(Cu)、镍(Ni)、钛(Ti)、钯(Pd)的至少其中之一所制成，较佳为金(Cu)。本实用新型的特点在于，线路金属图案总成中的第一金属图案层及第二金属图案层为纳米等级的金属层，在均匀度上较佳，同时具有低电阻，进而使后续测试电流稳定，而能避免不稳定的电流造成测试数据误判，同时提供较快的测试速度。以上所述者仅为用以解释本实用新型的较佳实施例，并非企图据以对本实用新型做任何形式上的限制，是以，凡有在相同的创作精神下所作有关本实用新型的任何修饰或变更，皆仍应包括在本实用新型意图保护的范畴。
权利要求1.一种感测试片结构，其特征在于，包含 一绝缘基板；以及 一线路金属图案总成，形成在绝缘基板上，包含由下而上依序堆叠的一第一金属图案层、一第二金属图案层、一第三金属图案层、一第四金属图案层，以及一第五金属图案层， 其中该第一金属图案层、该第二金属图案层、该第三金属图案层、该第四金属图案层以及该第五图案层的图形及位置完全重叠，且该第一金属图案层的厚度范围在20 50纳米，是以铬、镍、钛、铝、锡、铟、钯、钨、铁、金、银、钼、钢的至少其中之一所制成，而该第二金属图 案层的厚度范围在40 90纳米，是以铜、镍、钛、铝、锡、铟、钯、钨、铁、金、银、钼、钢的至少其中之一所制成。
2.如权利要求I所述的感测试片结构，其特征在于，该绝缘基板是以聚对苯二甲酸乙二酯、高密度聚乙烯、聚丙烯、聚酰亚胺所制成，其厚度范围为25 250微米。
3.如权利要求I所述的感测试片结构，其特征在于，该第三金属图案层的厚度范围在20 30微米，是以钯所制成，该第四金属图案层的厚度范围在20 30微米，是以镍所制成；而第五金属图案层的厚度范围在2 5微米，是以金、银、铜、镍、钛、钯的至少其中之一所制成。
专利摘要本实用新型提供一种感测试片结构，包含绝缘基板以及线路金属图案总成，该线路金属图案总成作为测试电极，包含由下而上堆叠的第一金属图案层、第二金属图案层、第三金属图案层、第四金属图案层，以及第五金属图案层，其中第一金属图案层、第二金属图案层、第三金属图案层、第四金属图案层及第五图案层的图形及位置完全重叠，且第一金属图案层及第二金属图案层为纳米级金属膜，均匀度极佳，且具有低电阻，使后续测试电流量稳定，而能避免数据误判并提供较快的测试速度。
文档编号G01N27/30GK202512087SQ20122010783
公开日2012年10月31日 申请日期2012年3月21日 优先权日2012年3月21日
发明者林玉麟 申请人:李素富, 江慧萍, 许秀英