一种真空腔体控制自动检测漏率的方法

文档序号:6209330阅读:901来源:国知局
专利名称:一种真空腔体控制自动检测漏率的方法
技术领域
本发明涉及真空腔体技术领域,尤其涉及一种真空腔体控制自动检测漏率的方法。
背景技术
现有真空腔体自动检测漏率的方法如图1所示,其漏率检测和自清的步骤是分离的,在如图2所示的传统真空腔体自动检测漏率的设备中,清洗检测部件和漏率检测部件并未连接在一起,直接造成后续制程的气体浪费、产能和良率下降,以及污染的产生。中国专利(CN101839794A)公开了一种用于大型真空腔体批量真空检漏的方法及系统,其中提到了对大型真空腔体进行检漏时先粗抽真空再用高精度检漏仪检漏的方法,但并未提及关于检漏的技术方案,也没有提及关机自清的技术方案。美国专利(US2005081605A1)公开了一种真空泄漏检测装置,包括处理室、流体阀和干式泵,但未涉及对自清功能的描述,即未将检测漏率与清洗功能作为一个整体过程给予公开。美国专利(US5398543A)公开了一种真空检测漏率的方法及装置,包括一个辅助的空气泵,用于喷射氮气的氮喷枪,以及一个吸收式制冷机;通过在真空腔体的外表面喷射氮气的方法,并进行检测的检测漏率的方法。但该专利中所运用的检测漏率的方法中并没有提到自我清洁的过程。

发明内容
根据现有技术中存在的缺陷,现提供一种真空腔体控制自动检测漏率的方法,具体包括:—种真空腔体控制自动检测漏率的方法,应用于一个真空腔体检测系统上,其中,所述真空腔体检测系统包括真空腔体、泵体和计数器;所述真空腔体与所述计数器连接,所述计数器连接外部的工作系统;所述真空腔体还通过一个阀门与所述泵体连接;所述泵体通过所述阀门与所述计时器连接;所述计数器包括清洗校正计数部件和漏率校正计数部件,所述清洗校正计数部件和所述漏率校正计数部件相互独立且相互连接;所述清洗校正计数部件还分别连接所述真空腔体和外部的工作系统,并通过所述阀门连接所述泵体;所述清洗校正计数部件用于计算对所述真空腔体进行自清的次数,作为自清计数;所述漏率校正计数部件用于计算对所述真空腔体进行漏率检测的次数,作为漏率检测计数;所述真空腔体内包括一个处理部件,所述处理部件计算对所述真空腔体沉积衬底的次数,作为沉积衬底计数;所述真空腔体控制自动检测漏率的方法具体包括:在所述真空腔体上沉积衬底;
将所述衬底从所述真空腔体上移除;比较所述沉积衬底计数和所述自清计数是否一致;若所述沉积衬底计数与所述自清计数一致,则继续比较所述沉积衬底计数和所述漏率检测计数是否一致;若所述沉积衬底计数和所述漏率检测计数一致,则对所述真空腔体进行漏率检测;对所述真空腔体进行自清;将沉积的所述衬底与所述真空腔体脱离。优选的,该真空腔体控制自动检测漏率的方法,其中,在比较所述沉积衬底计数和所述自清计数时,若所述沉积衬底计数与所述自清计数不一致,则重新对所述真空腔体沉积衬底。优选的,该真空腔体控制自动检测漏率的方法,其中,在比较所述沉积衬底计数和所述漏率检测计数时,若所述沉积衬底计数和所述漏率检测计数不一致,则直接对所述真空腔体进行自清,并在自清后将沉积的所述衬底与所述真空腔体脱离。优选的,该真空腔体控制自动检测漏率的方法,其中,采用三氟化氮对所述真空腔体进行自清。优选的,该真空腔体控制自动检测漏率的方法,其中,所述真空腔体检测系统还包括一个气体显示屏,所述气体显示屏分别连接所述真空腔体和所述清洗校正计数部件;所述气体显示屏用于显示对所述真空腔体进行操作的具体情况。上述技术方案的有益效果是:简化了对真空腔体检测漏率的后续制程,弥补了现有技术中后续制程气体浪费、产能和良率下降的缺陷。


图1是现有技术中自动检测漏率的流程示意图;图2是现有技术中自动检测漏率的设备结构示意图;图3是本发明的实施例中自动检测漏率的设备结构示意图;图4是本发明的实施例中自动检测漏率的流程示意图。
具体实施例方式下面结合附图和具体实施例对本发明作进一步说明,但不作为本发明的限定。如图3所示,本发明的实施例中,新型的自动检测漏率的基础设备(即真空腔体检测系统)包括真空腔体和检测漏率的计数器,其中真空腔体连接一个气体显示屏,并通过一个阀门连接一个泵体;计数器包括两个相互连接的部分:清洗校正计数部件和漏率校正计数部件,其中清洗校正计数部件分别连接真空腔体、气体显示屏和外部的工作系统,并通过阀门连接泵体。清洗校正计数部件用于计算自清计数;漏率校正计数部件用于计算漏率检测计数;上述自清计数为自我清洗的总次数,上述漏率检测计数为漏率检测的总次数。真空腔体内还包括一个处理部件,该处理部件用于计算得到对真空腔体沉积衬底的次数,作为沉积衬底计数。
上述气体显示屏用于显示真空腔体中检测和清洗的情况,同时真空腔体中存储有为真空腔体沉积衬底的计数,该计数为衬底沉积的总次数;如图4所示为本发明的实施例中对真空腔体控制自动检测漏率的流程示意图,步骤具体包括:衬底沉积真空腔体;将衬底从真空腔体中移除;判断衬底计数与自清计数是否一致;若不一致,则返回第一步,重新衬底沉积该真空腔体;若衬底计数与自清计数一致,则继续判断衬底计数和漏率检测计数是否一致;若一致,则开始进行自动漏率检测;随后采用三氟化氮(NF3)对真空腔体进行自清;最后真空腔体与沉积的衬底脱离。若衬底计数与漏率检测计数不一致,则直接采用NF3对真空腔体进行自清,并将该真空腔体与沉积的衬底脱离。本发明简化了对真空腔体检测漏率的后续制程,弥补了现有技术中后续制程气体浪费、产能和良率下降的缺陷。以上所述仅为本发明较佳的实施例,并非因此限制本发明的实施方式及保护范围,对于本领域技术人员而言,应当能够意识到凡运用本发明说明书及图示内容所作出的等同替换和显而易见的变化所得到的方案,均应当包含在本发明的保护范围内。
权利要求
1.一种真空腔体控制自动检测漏率的方法,应用于一个真空腔体检测系统上,其特征在于,所述真空腔体检测系统包括真空腔体、泵体和计数器;所述真空腔体与所述计数器连接,所述计数器连接外部的工作系统;所述真空腔体还通过一个阀门与所述泵体连接;所述泵体通过所述阀门与所述计时器连接; 所述计数器包括清洗校正计数部件和漏率校正计数部件,所述清洗校正计数部件和所述漏率校正计数部件相互独立且相互连接;所述清洗校正计数部件还分别连接所述真空腔体和外部的工作系统,并通过所述阀门连接所述泵体; 所述清洗校正计数部件用于计算对所述真空腔体进行自清的次数,作为自清计数;所述漏率校正计数部件用于计算对所述真空腔体进行漏率检测的次数,作为漏率检测计数;所述真空腔体内包括一个处理部件,所述处理部件计算对所述真空腔体沉积衬底的次数,作为沉积衬底计数; 所述真空腔体控制自动检测漏率的方法具体包括: 在所述真空腔体上沉积衬底; 将所述衬底从所述真空腔体上移除; 比较所述沉积衬底计数和所述自清计数是否一致; 若所述沉积衬底计数与所述自清计数一致,则继续比较所述沉积衬底计数和所述漏率检测计数是否一致; 若所述沉积衬底计数和所述漏率检测计数一致,则对所述真空腔体进行漏率检测; 对所述真空腔体进行自清; 将沉积的所述衬底与所述真空腔体脱离。
2.如权利要求1所述的真空腔体控制自动检测漏率的方法,其特征在于,在比较所述沉积衬底计数和所述自清计数时,若所述沉积衬底计数与所述自清计数不一致,则重新对所述真空腔体沉积衬底。
3.如权利要求1所述的真空腔体控制自动检测漏率的方法,其特征在于,在比较所述沉积衬底计数和所述漏率检测计数时,若所述沉积衬底计数和所述漏率检测计数不一致,则直接对所述真空腔体进行自清,并在自清后将沉积的所述衬底与所述真空腔体脱离。
4.如权利要求1所述的真空腔体控制自动检测漏率的方法,其特征在于,采用三氟化氮对所述真空腔体进行自清。
5.如权利要求1所述的真空腔体控制自动检测漏率的方法,其特征在于,所述真空腔体检测系统还包括一个气体显示屏,所述气体显示屏分别连接所述真空腔体和所述清洗校正计数部件;所述气体显示屏用于显示对所述真空腔体进行操作的具体情况。
全文摘要
本发明公开了一种真空腔体控制自动检测漏率的方法,属于真空腔体技术领域,应用于真空腔体检测系统上,该真空腔体检测系统包括真空腔体、泵体和计数器;真空腔体与计数器连接,计数器连接外部的工作系统;真空腔体还通过一个阀门与泵体连接;泵体通过阀门与计时器连接;方法包括在真空腔体上沉积衬底;将衬底移除;比较沉积衬底计数和自清计数;若一致,则继续比较沉积衬底计数和漏率检测计数;若一致,则对真空腔体进行漏率检测;对真空腔体进行自清;将沉积的衬底与真空腔体脱离;上述技术方案的有益效果是简化了对真空腔体检测漏率的后续制程,弥补了现有技术中后续制程气体浪费、产能和良率下降的缺陷。
文档编号G01M3/02GK103162914SQ20131008196
公开日2013年6月19日 申请日期2013年3月14日 优先权日2013年3月14日
发明者黄德伦 申请人:上海和辉光电有限公司
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