一种定点提取晶圆表面污染物的装置制造方法
【专利摘要】本实用新型提供一种定点提取晶圆表面污染物的装置，所述定点提取晶圆表面污染物的装置至少包括：底座，所述底座上设有放置晶圆的收容腔；盖体，所述盖体上设有若干取样口；以及连接所述盖体和底座的连接件。将待分析晶圆放置于所述定点提取晶圆表面污染物的装置中，将HF/HNO3溶液滴入需要分析区域上方的取样口，经过一段时间将取样口的溶液取出分别进行分析，可以选择性地、详细准确地定点分析出每个区域之间的污染物水平和污染物种类的差异，从而找出问题的原因。
【专利说明】一种定点提取晶圆表面污染物的装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及半导体工艺设备领域，特别是涉及一种定点提取晶圆表面污染物的装置。
【背景技术】
[0002]在半导体工艺过程中，晶圆表面金属污染有可能对后续工艺及机台造成污染，对产品的良率有着重大的影响，因此，发现晶圆表面有金属污染，及时对金属污染进行分析尤为重要。目前对晶圆表面金属污染的分析方法由以下两种:VPD (Vapor PhaseDecomposition,气相分解)进行分析和手动收集样品进行分析。
[0003]现有工艺中采用手工收集样品进行分析的方法包括以下步骤:
[0004]I)将HF/HN03溶液11铺满整片晶圆10进行金属溶解(如图1a所示)；
[0005]2)经过一段时间后，将整片晶圆10的HF/HN03液体11样品聚集在一起(如图1b所示)；
[0006]3)使用真空吸笔将样品收集到样品瓶；
[0007]4)将装有样品的样品瓶送至测试机台进行测试分析。
[0008]而无论是手动收集样品方法还是vro方法，都是只能收取整片晶圆的样品分析，只能分析整片晶圆总体的污染水平和污染物种类，并不能定点的分析同片晶圆不同区域的污染物水平和污染物种类的不同。因此，如果同一片晶圆多个不同区域都存在有污染物，采用现有技术并不能详细准确地分析出每个区域污染物的水平和污染物的种类。
[0009]鉴于此，有必要设计一种新的装置以解决上述技术问题非常必要。
实用新型内容
[0010]鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种定点提取晶圆表面污染物的装置，用于解决现有技术中由于智能收取整片晶圆的样品进行分析，只能分析整片晶圆总体的污染水平和污染物种类，并不能定点的、详细转确地分析出同片晶圆不同区域的污染物水平和污染物种类的不同的问题。
[0011]为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种定点提取晶圆表面污染物的装置，所述定点提取晶圆表面污染物的装置至少包括:
[0012]底座，所述底座上设有放置晶圆的收容腔；
[0013]盖体，所述盖体上设有若干取样口 ；
[0014]以及连接所述盖体和底座的连接件。
[0015]作为本实用新型的定点提取晶圆表面污染物的装置的一种优选方案，所述盖体为圆形，所述盖体的面积大于或等于所述晶圆的面积。
[0016]作为本实用新型的定点提取晶圆表面污染物的装置的一种优选方案，所述取样口均匀设置于所述盖体上。
[0017]作为本实用新型的定点提取晶圆表面污染物的装置的一种优选方案，所述取样口底部与盖体底部平齐，顶部高于盖体顶部或与盖体顶部平齐。
[0018]作为本实用新型的定点提取晶圆表面污染物的装置的一种优选方案，所述取样口的横截面为圆形、三角形或多边形。
[0019]作为本实用新型的定点提取晶圆表面污染物的装置的一种优选方案，所述底座为圆形、正方形或矩形。
[0020]作为本实用新型的定点提取晶圆表面污染物的装置的一种优选方案，所述收容腔为圆形，所述收容腔的面积大于或等于所述晶圆的面积；所述收容腔的深度d小于或等于所述晶圆的厚度。
[0021]作为本实用新型的定点提取晶圆表面污染物的装置的一种优选方案，所述连接件由底座凸起部和位于盖体一侧的凸出部构成，所述底座凸起部靠近盖体的一侧内设有卡槽，所述盖体通过设定在其一侧的凸出部固定在底座凸起部的卡槽内上下滑动。
[0022]作为本实用新型的定点提取晶圆表面污染物的装置的一种优选方案，所述底座凸起部的高度h大于或等于盖体的厚度Cl1和所述晶圆的厚度之和。
[0023]作为本实用新型的定点提取晶圆表面污染物的装置的一种优选方案，所述盖体一侧凸出部的高度匕小于或等于盖体的厚度Cl1 ;所述底座凸起部内卡槽的高度113小于或等于底座凸起部的高度4。
[0024]作为本实用新型的定点提取晶圆表面污染物的装置的一种优选方案，所述盖体一侧凸出部的第一宽度d2小于或等于底座凸起部卡槽开口的宽度d3;所述盖体一侧凸出部的第二宽度d4小于或等于底部凸起部卡槽的宽度d5，大于或等于底座凸起部卡槽开口的宽度d3。
[0025]作为本实用新型的定点提取晶圆表面污染物的装置的一种优选方案，所述盖体一侧凸出部的第一长度L1大于或等于底座凸起部卡槽开口的深度d6;所述盖体一侧凸出部的第二长度L2小于或等于底座凸起部卡槽的深度d7;且所述盖体一侧凸出部的第一长度L1与第二长度L2之和小于或等于底座凸起部卡槽开口的深度d6与底座凸起部卡槽的深度d7之和。
[0026]如上所述，本实用新型的定点提取晶圆表面污染物的装置，具有以下有益效果:将待分析晶圆放置于所述定点提取晶圆表面污染物的装置中，将hf/hno3溶液滴入需要分析区域上方的取样口，经过一段时间将取样口的溶液取出分别进行分析，可以选择性地、详细准确地定点分析出每个区域之间的污染物水平和污染物种类的差异，从而找出问题的原因。
【专利附图】
【附图说明】
[0027]图1a-1b显示为现有技术中的采用手工收集样品进行分析的方法示意图。
[0028]图2a显示为本实用新型的定点提取晶圆表面污染物装置的俯视图。
[0029]图2b显示为图2a沿AA’方向的截面图。
[0030]图2c显示为本实用新型的定点提取晶圆表面污染物装置的打开示意图。
[0031]图2d显不为显不为本实用新型的定点提取晶圆表面污染物装置底座的截面图。
[0032]图2e显示为本实用新型的另一实施例中的定点提取晶圆表面污染物装置的俯视图。[0033]图2f显示为图2e沿BB’方向的截面图。
[0034]图2g显示为本实用新型的另一实施例中的定点提取晶圆表面污染物装置的盖体一侧凸出部的俯视图。
[0035]图2h显不为本实用新型的另一实施例中的定点提取晶圆表面污染物装置的底座凸起部的俯视图。
[0036]元件标号说明
[0037]10、20 晶圆
[0038]11HF/HN03 溶液
[0039]21取样口
[0040]22盖体
[0041]23收容腔
[0042]24 底座 [0043]25连接件
[0044]251 底座凸起部
[0045]251a 卡槽
[0046]252 盖体一侧凸出部
[0047]d收容腔的深度
[0048]Ii1 底座凸起部的高度
[0049]h2盖体凸起部的高度
[0050]h3卡槽的高度
[0051]Cl1盖体的厚度
[0052]d2 盖体一侧凸出部的第一宽度
[0053]d3卡槽开口的宽度
[0054]d4盖体一侧凸出部的第二宽度
[0055]d5 卡槽的宽度
[0056]d6卡槽开口的深度
[0057]d7卡槽的深度
[0058]L1 盖体一侧凸出部的第一长度
[0059]L2 盖体一侧凸出部的第二长度
【具体实施方式】
[0060]以下由特定的具体实施例说明本实用新型的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效。
[0061]请参阅图2a至图2h。须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本实用新型可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中部”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本实用新型可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本实用新型可实施的范畴。
[0062]实施例一
[0063]请参阅图2a至图2d，本实用新型提供一种定点提取晶圆表面污染物的装置，所述定点提取晶圆表面污染物的装置至少包括:底座24，所述底座24上设有放置晶圆20的收容腔23 ;盖体22，所述盖体22上设有若干取样口 21 ;以及连接所述盖体22和底座24的连接件25。
[0064]如图2a所示，为了很好的与晶圆匹配，本实施例中，所述盖体22为圆形，所述盖体22的面积大于或等于所述晶圆的面积，为了能全面提取到晶圆每一个区域的样品，优选地，本实施例中，盖体22的面积大于所述晶圆的面积。
[0065]与所述盖体22配合使用的底座24，其形状可以为圆形、正方形或矩形。优选地，本实施例中，所述底座24的形状为圆形,更为优选地,所述底座24的面积大于所述晶圆的面积。
[0066]如图2b所示，本实施例中，所述取样口 21均匀设置于所述盖体22上，所述取样口21贯穿整个盖体22，上下均设有开口，其底部开口与盖体22的底部平齐，顶部可以高于盖体22的顶部，也可以与盖体22的顶部相平齐。优选地,本实施例中,取样口 21的顶部高于盖体22的顶部。
[0067]所述取样口 21的横截面可以为圆形、三角形或多边形。优选地，本实施例中，取样口 21的横截面为圆形。
[0068]如图2c和2d所示，所述底座24中心设有收容腔23，所述收容腔23为圆形，且所述收容腔23的面积大于或等于所述晶圆的面积，优选地，所述收容腔23的面积等于所述晶圆的面积；所述收容腔23的深度d应小于或等于所述晶圆的厚度，优选地，收容腔23的深度d等于所述晶圆的厚度。
[0069]本实施例中，，所述连接件25将盖体22和底座24连接，实现开启及闭合功能。使用时，打开盖体22，将晶圆20放置于底座24的收容腔23内，盖好盖体22，将HF/HN03滴入每个取样口中进行金属的溶解，一段时间之后，使用真空吸笔分别将取样口 21内的溶液收集起来并作分析即可。
[0070]实施例二
[0071 ] 请参阅图2e至2h，如图2e所示，本实施例中所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其结构与实施例一中的结构大致相同，均至少包括:底座24，所述底座24上设有放置晶圆20的收容腔23 ;盖体22，所述盖体22上设有若干取样口 21 ;以及连接所述盖体22和底座24的连接件25。二者的不同在于:所述连接件25的结构不同。
[0072]本实施例中，所述连接件25由底座凸起部251和位于盖体一侧的凸出部252构成，所述底座凸起部251靠近盖体22的一侧内设有卡槽251a，所述盖体22通过设定在其一侧的凸出部252固定在底座凸起部251的卡槽251a内，并可以上下滑动。
[0073]图2f为图2e沿BB’方向的截面图，如图2f所示，为了能将盖体22固定在底座凸起部251上，本实施例中，所述底座凸起部251的高度应Ii1大于或等于盖体22的厚度(I1和所述晶圆的厚度之和，优选地，所述底座凸起部251的高度应匕大于盖体22的厚度Cl1和所述晶圆的厚度之和。[0074]所述盖体一侧凸出部252的高度h2小于或等于盖体22的厚度(I1，优选地，所述盖体一侧凸出部252的高度匕等于盖体22的厚度Cl1 ;所述底座凸起部251内卡槽251a的高度匕小于或等于底座凸起部251的高度Ii1，优选地，所述底座凸起部251内卡槽251a的高度h3小于或等于底座凸起部251的高度4。
[0075]需要说明的是，图2f中盖体一侧凸出部252和卡槽251a并不能直接看到，只是为了说明其具体位置和具体高度而在此处示出。
[0076]图2g和图2h分别为盖体一侧凸出部252的俯视图和底座凸起部251的俯视图，如图2g至2h所示，为了实现将盖体22固定在底座凸起部251的卡槽251a内，所述盖体一侧凸出部252的第一宽度d2应小于或等于底座凸起部251内卡槽251a开口的宽度d3，优选地，所述盖体一侧凸出部252的第一宽度d2小于底座凸起部251内卡槽251a开口的宽度d3 ;所述盖体一侧凸出部252的第二宽度d4应小于或等于底部凸起部252内卡槽251a的宽度d5，且大于或等于底座凸起部252内卡槽251a开口的宽度d3，优选地，所述盖体一侧凸出部252的第二宽度d4小于底部凸起部252内卡槽251a的宽度d5，且大于底座凸起部252内卡槽251a开口的宽度d3。
[0077]所述盖体一侧凸出部252的第一长度L1大于或等于底座凸起部251内卡槽251a开口的深度d6，优选地，所述盖体一侧凸出部252的第一长度L1大于底座凸起部251内卡槽251a开口的深度d6 ;所述盖体一侧凸出部252的第二长度L2小于或等于底座凸起部251内卡槽251a的深度d7，优选地，所述盖体一侧凸出部252的第二长度L2小于底座凸起部251内卡槽251a的深度d7 ;且所述盖体一侧凸出部252的第一长度L1与第二长度L2之和小于或等于底座凸起部251内卡槽251a开口的深度d6与底座凸起部251内卡槽251a的深度d7之和，优选地，所述盖体一侧凸出部252的第一长度L1与第二长度L2之和小于底座凸起部251内卡槽251a开口的深度d6与底座凸起部251内卡槽251a的深度d7之和。
[0078]使用时，先将盖体22推至底座凸起部251上端，将晶圆20放置于底座24的收容腔23内，放下盖体22至晶圆20表面，将HF/HN03滴入每个取样口中进行金属的溶解，一段时间之后，使用真空吸笔分别将取样口 21内的溶液收集起来并作分析即可。
[0079]综上所述，本实用新型提供一种定点提取晶圆表面污染物的装置，将待分析晶圆放置于所述定点提取晶圆表面污染物的装置中，将册/順03溶液滴入需要分析区域上方的取样口，经过一段时间将取样口的溶液取出分别进行分析，可以选择性地、详细准确地定点分析出每个区域之间的污染物水平和污染物种类的差异，从而找出问题的原因。所以，本实用新型有效克服了现有技术中的种种缺点而具高度产业利用价值。
[0080]上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属【技术领域】中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。
【权利要求】
1.一种定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于，所述定点提取晶圆表面污染物的装置至少包括: 底座，所述底座上设有放置晶圆的收容腔； 盖体，所述盖体上设有若干取样口 ； 以及连接所述盖体和底座的连接件。
2.根据权利要求1所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于:所述盖体为圆形，所述盖体的面积大于或等于所述晶圆的面积。
3.根据权利要求1所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于:所述取样口均匀设置于所述盖体上。
4.根据权利要求1所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于:所述取样口底部与盖体底部平齐，顶部高于盖体顶部或与盖体顶部平齐。
5.根据权利要求1所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于:所述取样口的横截面为圆形、三角形或多边形。
6.根据权利要求1所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于:所述底座为圆形、正方形或矩形。
7.根据权利要求1所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于:所述收容腔为圆形，所述收容腔的面积大于或等于所述晶圆的面积；所述收容腔的深度d小于或等于所述晶圆的厚度。
8.根据权利要求1所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于:所述连接件由底座凸起部和位于盖体一侧的凸出部构成，所述底座凸起部靠近盖体的一侧内设有卡槽，所述盖体通过设定在其一侧的凸出部固定在底座凸起部的卡槽内上下滑动。
9.根据权利要求8所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于:所述底座凸起部的高度h大于或等于盖体的厚度Cl1和所述晶圆的厚度之和。
10.根据权利要求8所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于:所述盖体一侧凸出部的高度匕小于或等于盖体的厚度Cl1 ;所述底座凸起部内卡槽的高度113小于或等于底座凸起部的高度4。
11.根据权利要求8所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于:所述盖体一侧凸出部的第一宽度d2小于或等于底座凸起部卡槽开口的宽度d3;所述盖体一侧凸出部的第二宽度d4小于或等于底部凸起部卡槽的宽度d5，大于或等于底座凸起部卡槽开口的宽度d3。
12.根据权利要求8所述的定点提取晶圆表面污染物的装置，其特征在于:所述盖体一侧凸出部的第一长度L1大于或等于底座凸起部卡槽开口的深度d6;所述盖体一侧凸出部的第二长度L2小于或等于底座凸起部卡槽的深度d7;且所述盖体一侧凸出部的第一长度L1与第二长度L2之和小于或等于底座凸起部卡槽开口的深度d6与底座凸起部卡槽的深度d7之和。
【文档编号】G01N1/02GK203705182SQ201420074282
【公开日】2014年7月9日 申请日期:2014年2月20日 优先权日:2014年2月20日
【发明者】谭玉荣, 刘庆修, 李剑 申请人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司