技术总结
本发明涉及一种测量设备，包括：基座，设置于基座上的膜厚测量装置，用于在第一工作状态下工作以获得基板待测膜层的实际厚度值；设置于基座上的分光测量装置，用于在第二工作状态下工作以获得待测膜层的厚度当前测量值；用于控制所述膜厚测量装置和所述分光测量装置在所述第一工作状态和所述第二工作状态之间切换的控制装置。本发明还涉及一种测量方法。本发明的膜厚测量装置和分光测量装置集成为一体，以便更换待测膜层种类时测量的校正，可快速有效的对基板上的各种膜层进行测量。
技术研发人员：郭杨辰
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
文档号码：201610540059
技术研发日：2016.07.11
技术公布日：2016.12.21