1.一种集成片式氧传感器，包括氧化锆基体（1）、多孔保护层（2）、陶瓷绝缘层（3）和加热层（5），其特征在于，所述氧化锆基体（1）的上方设有多孔保护层（2），所述氧化锆基体（1）的下方设有陶瓷绝缘层（3），所述陶瓷绝缘层（3）的下方设有加热层（5），所述氧化锆基体（1）和陶瓷绝缘层（3）之间设置有参比气层（4），所述参比气层（4）内设置有通气体（41）和扩散孔（42），所述通气体（41）包括基体（411）和设置在基体（411）上的若干个参比气孔（413），所述多孔保护层（2）内设置有若干个透气孔（21），若干个参比气孔（413）设置在扩散孔（42）的周围，相邻两个参比气孔（413）之间设置有第一参比气通道（412），所述透气孔（21）的周围设置有若干个过滤孔（22），所述过滤孔（22）和透气孔（21）之间设置有气流道（23）。
2.根据权利要求1所述的集成片式氧传感器，其特征在于，所述加热层（5）内设置有若干个加热片（51）。
3.根据权利要求2所述的集成片式氧传感器，其特征在于，若干个第一参比气通道（412）和扩散孔（42）之间设置有第二参比气通道（414）。
4.根据权利要求1所述的集成片式氧传感器，其特征在于，所述参比气层（4）和加热层（5）的厚度相等，厚度范围是0.3～0.55mm。
5.根据权利要求4所述的集成片式氧传感器，其特征在于，所述参比气层（4）和加热层（5）的厚度为0.4mm。