清洗系统及细胞分析仪的制作方法

技术特征：

1.清洗系统，其特征在于：包括第一流体源、与所述第一流体源连通的光学检测结构、计数池、采样组件、以及用于清洗反应杯的反应杯清洗结构，所述光学检测结构具有用于产生高压的细缝，所述计数池包括前池、后池及连通所述前池和所述后池的宝石孔，所述后池串联于所述第一流体源和所述采样组件之间，所述清洗系统还包括用于向所述计数池、所述光学检测结构、所述采样组件及所述反应杯清洗结构提供负压的负压源，所述负压源与所述采样组件连通，所述负压源还与所述反应杯清洗结构连通。

2.如权利要求1所述的清洗系统，其特征在于：还包括串联于所述后池和所述采样组件之间的第一流体阀。

3.如权利要求2所述的清洗系统，其特征在于：所述采样组件包括拭子和设于所述拭子上的采样针，所述拭子串联于所述第一流体阀和所述负压源之间。

4.如权利要求1所述的清洗系统，其特征在于：还包括串联于所述第一流体源和所述光学检测结构之间的第二流体阀。

5.如权利要求1所述的清洗系统，其特征在于：还包括串联于所述第一流体源和所述后池之间的第三流体阀。

6.如权利要求1-5任一项所述的清洗系统，其特征在于：所述反应杯清洗结构包括旋转盘、多个周向均匀分布于所述旋转盘上的反应杯、驱动所述旋转盘旋转的旋转机构、用于清洗所述反应杯并排出清洁剂的清洁组件、用于冲洗所述反应杯并排出冲洗剂的冲洗组件、以及用于排出剩余所述清洁剂和所述冲洗剂的排液组件，所述清洁组件与第一个所述反应杯相正对，所述冲洗组件与第一个所述反应杯相邻的第二个所述反应杯相正对，所述排液组件与第二个所述反应杯相邻的第三个所述反应杯相正对，所述清洁组件、所述冲洗组件及所述排液组件均与所述负压源连通。

7.如权利要求6所述的清洗系统，其特征在于：所述清洁组件包括用于提供所述清洁剂的第二流体源、与所述第二流体源连接且用于伸入所述反应杯中的第一注液针、与所述第一注液针并排设置且用于伸入该反应杯的第一吸液针，所述第一吸液针与所述负压源连通。

8.如权利要求6所述的清洗系统，其特征在于：所述冲洗组件包括用于提供冲洗剂的第三流体源，与所述第三流体源连接且用于伸入所述反应杯中的第二注液针、与所述第二注液针并排设置且用于伸入该反应杯的第二吸液针，所述第二吸液针与所述负压源连通。

9.如权利要求6所述的清洗系统，其特征在于：所述反应杯清洗结构还包括驱动所述清洁组件、所述冲洗组件及所述排液组件伸入所述反应杯的升降机构。

10.细胞分析仪，其特征在于：包括权利要求1-9任一项所述的清洗系统。