清洗系统及细胞分析仪的制作方法

本实用新型属于医疗设备技术领域，更具体地说，是涉及一种清洗系统及包括该清洗系统的细胞分析仪。

背景技术：

细胞分析仪是医院临床检验应用非常广泛的仪器之一，用于检验细胞的种类及数量，从而辅助判断患者所患的疾病。细胞分析仪通常设置有为细胞液提供反应场所的反应杯、用于采集细胞液的采样组件、用于检测刺细胞的数量及形状的光学检测装置以及统计细胞数量的计数池。在检测样本之后，需要清洗反应杯、采样组件、光学检测装置、计数池等结构，提高后续样本检测的准确性。

现有细胞分析仪中，其反应杯、采样组件、光学检测装置、计数池等清洗系统相互独立，导致其整体结构复杂，清洗效率低。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种清洗系统及细胞分析仪，以解决现有技术中存在的反应杯、采样组件、光学检测装置、计数池等清洗系统相互独立导致其结构复杂、清洗效率低的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：提供一种清洗系统，包括第一流体源、与所述第一流体源连通的光学检测结构、计数池、采样组件、以及用于清洗反应杯的反应杯清洗结构，所述光学检测结构具有用于产生高压的细缝，所述计数池包括前池、后池及连通所述前池和所述后池的宝石孔，所述后池串联于所述第一流体源和所述采样组件之间，所述清洗系统还包括用于向所述计数池、所述光学检测结构、所述采样组件及所述反应杯清洗结构提供负压的负压源，所述负压源与所述采样组件连通，所述负压源还与所述反应杯清洗结构连通。

进一步地，还包括串联于所述后池和所述采样组件之间的第一流体阀。

进一步地，所述采样组件包括拭子和设于所述拭子上的采样针，所述拭子串联于所述第一流体阀和所述负压源之间。

进一步地，还包括串联于所述第一流体源和所述光学检测结构之间的第二流体阀。

进一步地，还包括串联于所述第一流体源和所述后池之间的第三流体阀。

进一步地，所述反应杯清洗结构包括旋转盘、多个周向均匀分布于所述旋转盘上的反应杯、驱动所述旋转盘旋转的旋转机构、用于清洗所述反应杯并排出清洁剂的清洁组件、用于冲洗所述反应杯并排出冲洗剂的冲洗组件、以及用于排出剩余所述清洁剂和所述冲洗剂的排液组件，所述清洁组件与第一个所述反应杯相正对，所述冲洗组件与第一个所述反应杯相邻的第二个所述反应杯相正对，所述排液组件与第二个所述反应杯相邻的第三个所述反应杯相正对，所述清洁组件、所述冲洗组件及所述排液组件均与所述负压源连通。

进一步地，所述清洁组件包括用于提供所述清洁剂的第二流体源、与所述第二流体源连接且用于伸入所述反应杯中的第一注液针、与所述第一注液针并排设置且用于伸入该反应杯的第一吸液针，所述第一吸液针与所述负压源连通。

进一步地，所述冲洗组件包括用于提供冲洗剂的第三流体源，与所述第三流体源连接且用于伸入所述反应杯中的第二注液针、与所述第二注液针并排设置且用于伸入该反应杯的第二吸液针，所述第二吸液针与所述负压源连通。

进一步地，所述反应杯清洗结构还包括驱动所述清洁组件、所述冲洗组件及所述排液组件伸入所述反应杯的升降机构。

本实用新型还提供一种细胞分析仪，包括上述的清洗系统。

本实用新型提供的清洗系统及细胞分析仪的有益效果在于：与现有技术相比，本实用新型清洗系统通过将第一流体源与光学检测结构及计数池的后池连通，使得在第一流体源清洗光学检测结构及计数池的后池时，细缝处产生高压反冲宝石孔，使稀释液进入前池中，清洗宝石孔和前池，使光学检测装置和计数池的清洗同步完成；同时，通过将负压源与采样组件及反应杯清洗结构连接，使得负压源同时为采样组件、光学检测结构、计数池及反应杯清洗结构提供负压。如此，提高了清洗效率，简化了清洗系统的结构。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例提供的清洗系统的结构图；

图2为本实用新型实施例所采用的反应杯清洗结构的结构图。

其中，图中各附图标记：

1-第一流体源；2-计数池；21-前池；22-宝石孔；23-后池；3-采样组件；31-拭子；32-采样针；4-负压源；5-反应杯清洗结构；51-清洁组件；511-第二流体源；512-第一注液针；513-第一吸液针；52-冲洗组件；521-第三流体源；522-第二注液针；523-第二吸液针；53-排液组件；54-反应杯；55-旋转盘；56-升降机构；6-第一流体阀；7-第二流体阀；8-第三流体阀；9-光学检测结构。

具体实施方式

为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。

需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

请参阅图1，现对本实用新型提供的清洗系统进行说明。该清洗系统，包括第一流体源1、光学检测结构9、计数池2、采样组件3及反应杯清洗结构5。第一流体源1与光学检测结构9连通，第一流体源1还与计数池2连通，第一流体源1可同时为光学检测结构9及计数池2提供稀释液等具有清洁功能的液体。计数池2包括前池21、后池23以及连通前池21和后池23的宝石孔22，后池23串联于第一流体源1和采样组件3之间，且光学检测结构9具有用于产生高压的细缝(图中未示出)，则第一流体源1为光学检测结构9及计数池2提供液体时，液体流经光学检测结构9的细缝处时产生高压，该高压传递至后池23中并反冲宝石孔22，使液体进入前池21中，实现同时清洗光学检测结构9和计数池2的功能。可选地，宝石孔22的大小范围为50μm至100μm之间。该清洗系统还包括负压源4，负压源4与采样组件3连通，使负压源4、采样组件3、计数池2和光学检测装置依次连通，该负压源4还与反应杯清洗结构5连通，使得负压源4可同时为光学检测结构9、计数池2、采样组件3及反应杯清洗结构5提供负压，便于各个结构清洗后废液的排出。

本实用新型提供的清洗系统，与现有技术相比，本实用新型清洗系统通过将第一流体源1与光学检测结构9及计数池2的后池23连通，使得在第一流体源1清洗光学检测结构9及计数池2的后池23时，细缝处产生高压反冲宝石孔22，使稀释液进入前池21中，清洗宝石孔22和前池21，使光学检测装置和计数池2的清洗同步完成；同时，通过将负压源4与采样组件3及反应杯清洗结构5连接，使得负压源4同时为采样组件3、光学检测结构9、计数池2及反应杯清洗结构5提供负压。如此，提高了清洗效率，简化了清洗系统的结构。

请参阅图1，作为本实用新型提供的清洗系统的一种具体实施方式，该清洗系统还包括串联于后池23和采样组件3之间的第一流体阀6，第一流体阀6用于控制后池23和采样组件3之间管路的开闭和流量。无需清洗采样组件3时，可将第一流体阀6关闭，第一流体源1输出的稀释液可清洗后池23及光学检测结构9，且可增大宝石孔22处的反冲压力；也可将第一流体阀6开启，第一流体源1输出的稀释液一部分经过后池23及采样组件3，最后经由负压源4排出，另一部分通过光学检测结构9反冲至前池21内，最后也经由负压源4排出，也可调节第一流体阀66从而调节后池23和采样组件3之间管路的流量。通过设置第一流体阀6，为清洗光学检测结构9、采样组件3和计数池2提供了更多选择，丰富了该清洗系统的清洗功能。

请参阅图1，作为本实用新型提供的清洗系统的一种具体实施方式，采样组件3包括拭子31和设于拭子31上的采样针32，拭子31串联于第一流体阀6和负压源4之间，采样针32用于采集细胞液，并将细胞液输送至拭子31中。稀释液流经采样组件3时，可对拭子31的内壁、采样针32的外壁进行清洗，以免影响下次采样结果。

请参阅图1，作为本实用新型提供的清洗系统的一种具体实施方式，该清洗系统还包括串联于第一流体源1和光学检测结构9之间的第二流体阀7，第二流体阀7用于控制第一流体源1和光学检测结构9之间管路的开闭和流量。无需清洗光学检测结构9时，可将第二流体阀7关闭，第一流体源1仅为计数池2及采样组件3提供清洗液体，也可调节第二流体阀7从而调节第一流体源1和光学检测结构9之间的管路流量。通过设置第二流体阀7，为清洗光学检测结构9、采样组件3和计数池2提供了更多选择，丰富了该清洗系统的清洗功能。

请参阅图1，作为本实用新型提供的清洗系统的一种具体实施方式，该清洗系统还包括串联于第一流体源1和后池23之间的第三流体阀8，第三流体阀8用于控制第一流体源1和后池23之间管路的开闭和流量。在无需清洗计数池2时，可将第三流体阀8关闭，防止第一流体源1中的稀释液倒吸进入后池23中；也可调节第三流体阀8从而调节第一流体源1的输出流量。第三流体阀8的设置，便于控制第一流体源1与后池23之间的流量。

请参阅图2，作为本实用新型提供的清洗系统的一种具体实施方式，反应杯清洗结构5包括旋转盘55、多个周向均匀分布于旋转盘55上的反应杯54、以及驱动旋转盘55旋转的旋转机构(图中未示出)，使得各个反应杯54可以旋转盘55的中心为轴心旋转。反应杯清洗结构5还包括清洁组件51、冲洗组件52以及排液组件53，且清洁组件51、冲洗组件52及排液组件53均与负压源4连通，使得负压源4为清洁组件51、冲洗组件52及排液组件53提供负压，便于清洁组件51排出的废液、冲洗组件52排出的废液、排液组件53排出的废液经由负压源4排出。清洁组件51使用清洁剂清洗反应杯54并将清洗后的清洁剂经由负压源4排出，清洁剂与稀释液的作用相同，用于清洁各个结构中残留的细胞液。冲洗组件52使用冲洗剂冲洗经过清洁剂清洗后的反应杯54，并将冲洗后的冲洗剂经由负压源4排出，冲洗剂可为去离子水等缓冲液，冲洗剂可降低反应杯54中清洁剂的浓度。反应杯54经过清洁剂和冲洗剂的冲刷后，反应杯54中还会残留有部分清洁剂和冲洗剂，排液组件53可将残留的清洁剂和冲洗剂经由负压源4排出。具体地，清洁组件51清洗第1个反应杯54后，旋转机构使旋转盘55旋转，从而使清洁组件51与第2个反应杯54相正对，冲洗组件52与第1个反应杯54相正对，排液组件53与第n个反应杯54相正对；然后清洁组件51清洗第2个反应杯54的同时，冲洗组件52冲洗第1个反应杯54，排列组件排出第n个反应杯54中残留的液体；上述步骤完成后，旋转盘55继续旋转，使从而使清洁组件51与第3个反应杯54相正对，冲洗组件52与第2个反应杯54相正对，排液组件53与第1个反应杯54相正对，重复上述冲洗步骤，使得每个反应杯54均可依次由清洁组件51清洗、冲洗组件52冲洗和排液组件53排液，从而完成对反应杯54的清洁。

请参阅图2，作为本实用新型提供的清洗系统的一种具体实施方式，清洁组件51包括用于提供清洁剂的第二流体源511、第一注液针512和第一吸液针513，第二流体源511可为流量泵。第一注液针512与第二流体源511连接，且第一注液针512可伸入反应杯54中并将清洁剂注射至该反应杯54中，清洁剂冲洗该反应杯54后，清洁剂经由第一吸液针513排出。第一吸液针513与负压源4连接，则清洁剂经由负压源4排出。如此，实现清洁剂对该反应杯54的清洗。

请参阅图2，作为本实用新型提供的清洗系统的一种具体实施方式，冲洗组件52包括用于提供冲洗剂的第三流体源521、第二注液针522和第二吸液针523，第三流体源521可为流量泵。第二注液针522与第三流体源521连接，且第二注液针522可伸入反应杯54中并将冲洗剂注射至该反应杯54中，冲洗剂冲洗该反应杯54后，冲洗剂经由第二吸液针523排出。第二吸液针523与负压源4连接，则冲洗剂经由负压源4排出。如此，实现冲洗剂对该反应杯54的清洗。可选地，冲洗组件52可包括多个第二注液针522和多个第二吸液针523，每个第二注液针522和每个第二吸液针523并排设置，形成多对第二注液针522和第二吸液针523，可增加对反应杯54的冲洗次数，使反应杯54更清洁。例如，冲洗组件52包括两个第二注液针522和两个第二吸液针523。清洁组件51与第3个反应杯54相正对时，第一对第二注液针522和第二吸液针523与第2个反应杯54相正对，第二对第二注液针522和第二吸液针523与第1个反应杯54相正对，排液组件53与第n个反应杯54相正对，从而可实现对每个反应杯54的两次冲洗剂冲洗。

请参阅图2，作为本实用新型提供的清洗系统的一种具体实施方式，反应杯清洗结构5还包括驱动清洁组件51、冲洗组件52和排液组件53伸入反应杯54的升降机构56。在进行反应杯54的清洗时，升降机构56带动清洁组件51、冲洗组件52和排液组件53下降，使得清洁组件51、冲洗组件52和排液组件53伸入各个反应杯54中，一次注液冲洗后，升降机构56带动清洁组件51、冲洗组件52和排液组件53上升，便于旋转机构带动各个反应杯54旋转，以完成后续对其他反应杯54的冲洗。

本实用新型还提供一种细胞分析仪，该细胞分析仪包括上述任一实施例中的清洗系统。

本实用新型提供的细胞分析仪，其清洗系统通过将第一流体源1与光学检测结构9及计数池2的后池23连通，使得在第一流体源1清洗光学检测结构9及计数池2的后池23时，细缝处产生高压反冲宝石孔22，使稀释液进入前池21中，清洗宝石孔22和前池21，使光学检测装置和计数池2的清洗同步完成；同时，通过将负压源4与采样组件3及反应杯清洗结构5连接，使得负压源4同时为采样组件3、光学检测结构9、计数池2及反应杯清洗结构5提供负压。如此，提高了清洗效率，简化了清洗系统的结构。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。