一种电镀层孔隙率测量装置及测量方法与流程

文档序号:18086100发布日期:2019-07-06 10:31阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明涉及一种电镀层孔隙率测量装置及测量方法,所述装置包括观察相机和箱体,所述箱体内装有光源,箱体一面开有窗口,所述窗口位于相机下方。利用该装置测量时,先对电镀后的样品板进行蚀刻,然后将蚀刻后的样品板置于箱体中,镀层一面贴近窗口,打开光源进行背光测试,同时用相机将板面漏光情况拍成图像;统计所得图像上的亮点数量,计算出孔隙率。本发明通过上述装置和方法实现了对电镀层孔隙率的定量测量。通过对统计得到的孔隙率进行进一步的分析和对比,能够对镀层孔隙率作出比较科学的定量描述,为优化工艺条件提供参考。此外,本发明提供的测量装置结构简单,测量过程容易实现,适用于大规模推广,应用前景良好。

技术研发人员:冯建松;徐楠;章晓冬;董进华;陈利民
受保护的技术使用者:广东天承科技有限公司
技术研发日:2019.04.26
技术公布日:2019.07.05
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