分布的周期一致，结果实现了磁场分布的均匀化。结果，提高了传感器I所进行的感应电流il的检测的精度。
[0054]顺便提及，在根据本变形例的标尺2B中，在轨道T和第一边缘部251之间或者在轨道T和第二边缘部252之间设置限制图案22就足够了。换句话说，尽管没有示出，但可以使用在轨道T和第二边缘部252之间设置限制图案22、而在轨道T和第一边缘部251之间没有设置限制图案22的结构。即使在这种情况下在第二边缘部252的端面上存在诸如凹形状或凸形状等的不均匀部分，由于感应电流il的路线被限制图案22遮断，因此感应电流il的路线受到第二边缘部252侧的形状的影响也变小。
[0055]图3A?3D是例示限制图案的形状和位置的示意平面图。在图3A?3D的任何图中，例示出一个控制图案21和一个限制图案22之间的关系。然而，这同样适用于其它的控制图案21和其它的限制图案22之间的关系。
[0056]在图3A?3C所示的示例中，控制图案21的平行于Y轴的中心轴yl与限制图案22的平行于Y轴的中心轴y2 —致。其中，图3A示出限制图案22在平行于X轴的方向上的长度与控制图案21在平行于X轴的方向上的长度大致相等的示例。顺便提及，在本实施例中，“大致”意味着容许制造上的误差。图3B示出限制图案22在平行于X轴的方向上的长度比控制图案21在平行于X轴的方向上的长度短的示例。图3C示出限制图案22在平行于X轴的方向上的长度比控制图案21在平行于X轴的方向上的长度长的示例。
[0057]图3D示出控制图案21的中心轴yl与限制图案22的中心轴y2不一致的示例。换句话说，在该示例中，限制图案22的中心轴y2以相对于控制图案21的中心轴yl存在偏移的方式进行配置。
[0058]在任何示例中，根据控制图案21的周围的磁场分布来适当地选择限制图案22的大小和位置。顺便提及，在控制图案21的第一边缘部251侧和第二边缘部252侧这两者上设置限制图案22的情况下，两侧上的限制图案22的与Y轴平行的中心轴可以彼此一致、或者可以彼此不一致。
[0059]第一实施例的其它变形例
[0060]图4A和4B是例示应用于本实施例的其它变形例的标尺的示意平面图。
[0061]在图4A所示的标尺2C中，在轨道T和第一边缘部251之间设置限制图案22。在图4B所示的标尺2D中，在轨道T和第一边缘部251之间以及在轨道T和第二边缘部252之间都设置限制图案22。在标尺2C和标尺2D这两者中，在从与Y平行的方向观看的情况下，控制图案21和限制图案22没有重叠。
[0062]在标尺2C中，以这种方式在轨道T和第一边缘部251之间设置限制图案22。即使在第一边缘部251侧的端面上存在诸如凹形状或凸形状等的不均匀部分，由于感应电流il的路线被限制图案22遮断，因此感应电流il的路线受到第一边缘部251侧的形状的影响也变小。
[0063]此外，即使在控制图案21的第一边缘部251侧的形状不同于控制图案21的第二边缘部252侧的形状的情况下，在标尺D中也抑制了控制图案21周围流动的感应电流il之间的路线的差异。结果，使控制图案21所产生的磁场分布在第一边缘部251侧和第二边缘部252侧之间变得均匀，结果提高了传感器I所进行的感应电流il的检测的精度。
[0064]图5A和5B是例示限制图案22的形状和位置的示意平面图。图5A示出在两个邻近控制图案21在与X轴平行的方向上的中央位置设置限制图案22的示例。换句话说，在利用yll和yl2来表示两个邻近控制图案21的与Y轴平行的中心轴、并且利用y21来表示限制图案22的与Y轴平行的中心轴的情况下，在与X轴平行的方向上，中心轴yll和中心轴y21之间的距离xl大致等于中心轴yl2和中心轴y21之间的距离x2。
[0065]图5B示出限制图案22被设置成偏向两个邻近控制图案21中的任一控制图案的示例。在图5B所示的示例中，在与X轴平行的方向上，中心轴yll和中心轴y21之间的距离xl比中心轴yl2和中心轴y21之间的距离x2短。在这两个示例中，根据控制图案21周围的磁场分布来适当地进行选择。
[0066]第二实施例
[0067]现在将说明第二实施例。
[0068]第二实施例是用于测量传感器I相对于测量基准线ML的绝对位置的绝对式感应型位置测量设备。
[0069]图6是例示应用于第二实施例的标尺的示意平面图。
[0070]在图6所示的标尺2E中，并列设置有多个轨道Tl?T3。通过使用标尺2E，可以将使用多个轨道Tl?T3所进行的感应电流的检测的结果进行合成，并且测量传感器I相对于测量基准线ML的绝对位置。顺便提及，轨道Tl是与其它的轨道T2和T3相比、对位置检测的分辨率施加的影响更大的轨道。
[0071]在标尺2E中，在轨道Tl上沿与X轴平行的方向按周期λ I设置多个控制图案211。在轨道Τ2上沿与X轴平行的方向按周期λ 2设置多个控制图案212。在轨道Τ3上沿与X轴平行的方向按周期λ 3设置多个控制图案213。周期λ?、λ2和λ 3彼此不同。
[0072]在标尺2Ε中，在第一边缘部251和离第一边缘部251最近的轨道Tl之间设置限制图案221。期望限制图案221分别设置在多个控制图案211和第一边缘部251之间。另夕卜，期望多个限制图案221是沿与X轴平行的方向按与多个控制图案211的周期λ I相同的周期λ所设置的。
[0073]此外，在标尺2Ε中，设置有限制图案(中间限制图案)222。限制图案222设置在轨道Tl和轨道Τ2之间。换句话说，限制图案222设置在轨道Tl的控制图案211的在平行于Y轴的方向上与限制图案221相对的位置。
[0074]期望限制图案222分别设置在多个控制图案211和轨道Τ2之间。另外，期望多个限制图案222是以与限制图案221相同的方式沿平行于X轴的方向按与多个控制图案211的周期λ相同的周期所设置的。
[0075]此外，期望在与Y轴平行的方向上，控制图案211和限制图案221之间的间隔与控制图案211和限制图案222之间的间隔大致相等。
[0076]在标尺2Ε中，在与Y轴平行的方向上，在控制图案21的两侧设置限制图案221和222。结果，感应电流il受到第一边缘部251侧的形状和邻近轨道T2的影响变小，并且实现了感应电流i I的均匀化。
[0077]具体地，即使在第一边缘部251的端面上存在诸如凹形状或凸形状等的不均匀部分，由于感应电流il的路线被限制图案221遮断，因此感应电流il的路线受到第一边缘部251侧的形状的影响也变小。
[0078]另外，由于轨道Tl和轨道T2之间所设置的限制图案222，可以抑制轨道Tl上的控制图案211周围流动的感应电流il泄漏至邻近轨道T2。结果，使多个控制图案211各自所产生的磁场分布变均匀，并且提高了传感器I所进行的感应电流il的检测的精度。
[0079]关于限制图案221在与X轴平行的方向上的长度L相对于两个邻近限制图案221之间的间隔S的比率，随着长度L变长，遮断