远心、宽场荧光扫描成像系统和方法_4

文档序号:9451032阅读:来源:国知局
503a之间产生远心空间。类似地,透镜元件503b包括出口孔径光阑,其中在透镜元件503b 和检测器305之间产生远心空间。两个孔径光阑可能相同或类似。拒波滤光片307位于物 体空间远心区域中,并且发射滤光片306位于图像空间远心区域中。以这种方式,通过彼此 平行的主光线完成所有滤光,并且在调节焦距时,主光线之间的距离不变。类似于图5a,光 源301,诸如激光线光源产生激发光,并且发出聚焦的线状光束,并且将其投射到样本300 上。
[0057] 应理解,第一折射透镜元件和第二折射透镜元件每个都可包括超过一个透镜元 件。也应理解,第一孔径光阑和第二孔径光阑每个都可处于空气中,或者分别位于第一和第 二折射透镜元件内的所有透镜之前,或者分别处于第一和第二折射透镜元件中部的某处, 或者分别位于第一和第二折射透镜元件内的所有透镜之后。例如,折射透镜元件内的透镜 元件可包括孔径光阑。
[0058] 图9a和9b分别示出根据实施例的荧光成像系统510的前视图和侧视图。图9中 示出的构造与图8中所示的类似,其中添加了定位为将激发光束302朝着样本300反射的 二向色滤光片元件504。样本300处发射的荧光穿过二向色滤光片元件504,以到达双远心 成像系统503。二向色滤光片元件504也处于远心空间中,并且因此其光谱滤光以相同方式 影响连续区域或线内的所有点。应明白,图8和9中所示的构造适用于区域成像和线成像 应用。
[0059] 通过引用将本文提及的所有专利、专利申请和其它参考文献整体并入本文。
[0060] 虽然已经为了清楚和理解相当详细地描述了上述发明,但是本领域技术人员通过 阅读本公开应明白,不偏离本发明的真实范围,可做出形式和细节的各种改变。例如,可能 以各种组合使用上述所有技术和设备。在好象每个个别公开、发明、发明申请和/或其它文 献都单独示为出于所有目的而引用并入的某种程度上,出于所有目的通过引用以其整体将 本申请中列举的所有公开、、发明、发明申请和/或其它文献并入。
【主权项】
1. 一种焚光成像系统,包括: 源子系统,所述源子系统具有: 样本平台,所述样本平台保持荧光材料; 光源,所述光源以处于所述荧光材料的吸收带中的激发光照 亮所述荧光材料;和 第一滤光片,所述第一滤光片使除了所述激发光之外的光的波长通过,所述第一滤光 片位于所述样本平台和双远心光学成像系统的入口孔径光阑之间的第一光路径中; 检测器子系统,所述检测器子系统用于检测来自所述荧光材料的光,包括: 光检测器,所述光检测器具有感测位置的阵列;和 第二滤光片,所述第二滤光片使所述荧光材料的发射带中的光的波长通过,所述第二 滤光片位于所述光检测器和所述双远心光学成像系统的出口孔径光阑之间的第二光路径 中;和 双远心光学成像系统,所述双远心光学成像系统包括成像光学器件,所述成像光学器 件被布置和定位为使得第一远心空间存在于所述样本平台和所述入口孔径光阑之间的所 述第一光路径中,其中,来自所述样本平台上的多个场点的主光线在穿过所述第一滤光片 时彼此平行;并且使得第二远心空间存在于所述光检测器和所述出口孔径光阑之间的所述 第二光路径中,其中,来自所述多个场点的主光线在穿过所述第二滤光片时彼此平行。2. 根据权利要求1所述的成像系统,其中,所述双远心光学成像系统包括奥夫纳中继 镜系统布置,所述奥夫纳中继镜系统布置包括具有球面镜表面的第一镜元件以及具有球面 镜表面的第二镜元件,其中,所述入口孔径光阑和所述出口孔径光阑每个都包括所述第一 镜元件的一部分。3. 根据权利要求2所述的成像系统,其中,所述第一镜元件存在凸状镜表面,并且其 中,所述第二镜元件存在凹状镜表面。4. 根据权利要求1所述的成像系统,其中,所述双远心光学成像系统包括双远心透镜 布置,其中,所述入口孔径光阑包括第一折射透镜元件,并且其中,所述出口孔径光阑包括 第二折射透镜元件。5. 根据权利要求1所述的成像系统,其中,所述光源发出当照射在所述荧光材料上时 具有线状轮廓的均匀照明光束。6. 根据权利要求1所述的成像系统,其中,所述光源包括二极管激光器。7. 根据权利要求1所述的成像系统,其中,所述光检测器包括CCD阵列检测器。8. 根据权利要求7所述的成像系统,其中,所述样本平台上的连续场点同时成像到所 述CXD阵列检测器上的连续感测位置上。9. 根据权利要求1所述的成像系统,其中,所述样本平台上的连续场点同时成像到所 述光检测器上的连续感测位置上。10. -种对荧光材料成像的方法,所述荧光材料吸收处于波长的吸收带内的光,并且发 射处于波长的发射带内的荧光,所述方法包括: a) 以具有所述吸收带内的激发光的照明光束照亮样本平台上的荧光材料的第一部分; 和 b) 使用检测器系统检测来自所述荧光材料的第一部分的发射,所述检测器系统包括: 具有感测位置的阵列的光检测器;双远心光学成像系统;使除了所述激发光之外的光的波 长通过的第一滤光片,所述第一滤光片位于所述样本平台和所述双远心光学成像系统的入 口孔径光阑之间的第一光路径中;和使处于所述发射带内的光的波长通过的第二滤光片, 所述第二滤光片位于所述光检测器和所述双远心光学成像系统的出口孔径光阑之间的第 二光路径中, 其中,所述双远心光学成像系统包括成像光学器件,所述成像光学器件被布置和定位 为:使得第一远心空间存在于所述样本平台和所述入口孔径光阑之间的第一光路径中,其 中,来自所述样本平台上的多个场点的主光线在穿过所述第一滤光片时彼此平行;并且使 得第二远心空间存在于所述光检测器和所述出口孔径光阑之间的第二光路径中,其中,来 自所述多个场点的主光线在穿过所述第二滤光片时彼此平行,并且 其中,所述样本平台上的连续场点同时成像到所述检测器上的连续感测位置上,以形 成第一检测器图像。11. 根据权利要求10所述的方法,进一步包括在基本平行于所述样本平台限定的表面 的方向中移动所述样本平台和所述照明光束中的一个或两者,以便照亮所述荧光材料的第 二部分,并且重复所述检测步骤,以形成第二检测器图像。12. 根据权利要求11所述的方法,进一步包括组合所述第一和第二检测器图像。13. 根据权利要求10所述的方法,进一步包括在基本平行于所述样本平台限定的表面 的方向中重复地移动所述样本平台和所述照明光束中的一个或两者,以便照亮所述荧光材 料的多个部分,并且重复所述检测步骤,以形成多个第二检测器图像,以及组合所述第一检 测器图像和所述多个第二检测器图像。14. 根据权利要求10所述的方法,其中,所述照亮包括对激光束的输出整形,使得所述 激光束当照射在所述样本平台上时具有线状轮廓。15. 根据权利要求10所述的方法,其中,所述双远心光学成像系统包括奥夫纳中继镜 系统布置,所述奥夫纳中继镜系统布置包括具有球面镜表面的第一镜元件以及具有球面镜 表面的第二镜元件,其中,所述入口孔径光阑和所述出口孔径光阑每个都包括所述第一镜 元件的一部分。16. 根据权利要求10所述的方法,其中,所述双远心光学成像系统包括双远心透镜布 置,其中,所述入口孔径光阑包括第一折射透镜元件,并且其中,所述出口孔径光阑包括第 二折射透镜元件。17. 根据权利要求10所述的方法,其中,所述光检测器包括CCD阵列检测器。
【专利摘要】本发明涉及一种远心宽场荧光扫描系统和方法。双远心光学成像系统包括成像光学器件,其被布置和定位为使得第一远心空间产生或存在于样本平台和入口孔径光阑之间,其中来自所述样本平台上的多个场点的主要或主光线在穿过第一滤光片时彼此平行;并且使得第二远心空间产生或存在于光检测器和出口孔径光阑之间,其中来自多个场点的主要或主光线在穿过第二滤光片时彼此平行。以这种方式,从所述视场中的不同点收集的光以相同角度穿过所述第一滤光片,并且也以相同角度穿过所述第二滤光片,由此降低或消除角谱位移效应。
【IPC分类】G01N21/64
【公开号】CN105203507
【申请号】CN201510351600
【发明人】艾哈迈德·布齐德
【申请人】立科有限公司
【公开日】2015年12月30日
【申请日】2015年6月23日
【公告号】CA2895620A1, EP2960644A1, US20150370058
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