图像获取装置及图像获取方法

文档序号:9706770阅读:284来源:国知局
图像获取装置及图像获取方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及一种图像获取装置及图像获取方法。
【背景技术】
[0002]以前,对形成于基材上的各种图案进行检查。例如,在对形成于基材上的透明电极图案进行检查时,利用经由透明配线而连接于透明电极的金属电极进行导通检查。然而,在图案中产生了缺陷的情形时,仅利用导通检查无法确认其位置或种类,从而难以改善因该缺陷引起的良率的降低。因此,专利文献1中提出有获取形成于基材上的透明电极图案的检查图像的装置。专利文献1的装置中,求出从光照射部到拍摄区域的光轴与基材的法线形成的照射角的设定角度,将照射角设定为设定角度,且将从拍摄区域到线传感器的光轴与法线形成的检测角也设定为该设定角度,由此获取对比度高的检查图像。此外,专利文献2中揭示有如下方法:对基板上的抗蚀剂层进行曝光后,使用波长522nm?645nm的光对抗蚀剂层的感光部分进行光学检查。
[0003][现有技术文献]
[0004][专利文献]
[0005][专利文献1]日本专利特开2012-251808号公报
[0006][专利文献2]日本专利特开2004-347913号公报

【发明内容】

[0007][发明所要解决的问题]
[0008]在将图案形成于基材时,对形成有抗蚀剂层的基材进行曝光工艺及显影工艺,从而形成抗蚀剂层的图案。此时,在进行显影工艺前,如专利文献2所述获取表示抗蚀剂层的感光部分的图像,由此能够提前判断曝光工艺中有无异常。然而,当专利文献2的方法中所用的光的波长522nm?645nm包含于抗蚀剂层的感光波长范围时,无法不对抗蚀剂层的非感光部分造成影响地获取图像。另外,存在如下有益的情况:除了表示抗蚀剂层的感光部分的图像以外,也获取如下图像,所述图像表示一部分因规定的处理而变质的层中的变质的部分。
[0009]本发明是鉴于所述问题而成,其目的在于恰当地获取如下图像,所述图像表示一部分因规定的处理而变质的层中的变质的部分。
[0010][解决问题的技术手段]
[0011]技术方案1所述的发明是图像获取装置,其包括:支撑部,对基材进行支撑,所述基材是以由其它材料形成于基材上的层、或包含基材自身的表面的层作为对象层,且所述对象层的一部分因规定的处理而变质;光照射部,出射对所述对象层具有透射性的波长的光;线传感器,接收来自照射有所述光的线状的拍摄区域的光;移动机构,使所述基材相对于所述拍摄区域沿与所述拍摄区域交叉的方向相对地移动;以及角度变更机构,一边将从所述光照射部到所述拍摄区域的光轴与所述对象层的法线形成的照射角、及从所述拍摄区域到所述线传感器的光轴与所述法线形成的检测角维持为相等,一边变更所述照射角及所述检测角。
[0012]技术方案2所述的发明是根据技术方案1所述的图像获取装置,其中所述对象层是利用感光性材料形成的层,且所述对象层的所述一部分因光的照射而变质,并且从所述光照射部出射的光的波长不包含于所述感光性材料的感光波长范围。
[0013]技术方案3所述的发明是根据技术方案2所述的图像获取装置,其中所述对象层是利用光致抗蚀剂而形成于所述基材上的层。
[0014]技术方案4所述的发明是根据技术方案1所述的图像获取装置,其中所述对象层是设于所述基材自身的光波导的层,且所述对象层的所述一部分因掺杂所致的其他材料的添加而变质。
[0015]技术方案5所述的发明是图像获取方法,其包括如下工序:将在基材上以其他材料形成的层或是包含基材自身的表面的层作为对象层,且准备使所述对象层的一部分因规定的处理而变质所的基材时,求出从光照射部到线状的拍摄区域的光轴与对象层的法线形成的照射角的设定角度,所述光照射部出射对所述对象层具有透射性的波长的光;将所述照射角设定为所述设定角度,且将从所述拍摄区域到线传感器的光轴与所述法线形成的检测角也设定为所述设定角度;以及使所述基材相对于所述拍摄区域沿与所述拍摄区域交叉的方向相对地移动而获取图像。
[0016]技术方案6所述的发明是根据技术方案5所述的图像获取方法,其中所述对象层是利用感光性材料形成的层,且所述对象层的所述一部分因光的照射而变质,并且从所述光照射部出射的光的波长不包含于所述感光性材料的感光波长范围。
[0017]技术方案7所述的发明是根据技术方案6所述的图像获取方法,其中所述对象层是利用光致抗蚀剂而形成于所述基材上的层。
[0018]技术方案8所述的发明是根据技术方案5所述的图像获取方法,其中所述对象层是设于所述基材自身的光波导的层,且所述对象层的所述一部分因掺杂所致的其他材料的添加而变质。
[0019][发明的效果]
[0020]根据本发明,能够恰当地获取表示对象层的变质的部分的图像。
【附图说明】
[0021]图1是表示图案形成系统的构成的图。
[0022]图2是表示图像获取部的正视图。
[0023]图3是表示工艺监视装置的功能构成的方块图。
[0024]图4是表不形成图案的处理的流程的图。
[0025]图5是表示形成图案的处理的流程的图。
[0026]图6是表示基材的剖面图。
[0027]图7是表不获取图像的处理的流程的图。
[0028]图8是表示各波长的感光图案的对比度与照射角的关系的图。
[0029]图9是表不感光图案图像的照片。
[0030]图10是表示图像获取装置的构成的图。
[0031]图11是表示基材的剖面图。
[0032][符号的说明]
[0033]1:图案形成系统
[0034]3、3a?3d:图像获取部
[0035]4:工艺监视装置
[0036]9、9a:基材
[0037]10:计算机
[0038]11:搬送机构
[0039]11a:移动机构
[0040]12:缓冲装置
[0041]21:曝光装置
[0042]22:显影装置
[0043]23:蚀刻装置
[0044]24:抗蚀剂剥离装置
[0045]30:图像获取装置
[0046]31:光照射部
[0047]32:线传感器
[0048]33:角度变更机构
[0049]34:底壁
[0050]35、36:电动机
[0051]41:缺陷检测部
[0052]42:显示部
[0053]90:拍摄区域
[0054]91:树脂膜
[0055]92:透明导电膜
[0056]93:抗蚀剂层
[0057]94:光波导的层
[0058]110:搬送辊
[0059]110a:平台
[0060]111:供给部
[0061]112:回收部
[0062]211:掩模部
[0063]341:第一开口
[0064]342:第二开口
[0065]921:透明电极图案
[0066]930:感光图案
[0067]931:抗蚀剂图案
[0068]941:核心
[0069]θ 1:照射角
[0070]θ 2:检测角
[0071 ]J1:(光照射部的)光轴
[0072]J2:(线传感器的)光轴
[0073]N:(基材的)法线
[0074]S11 ?S26、S121 ?S123:步骤
【具体实施方式】
[0075]图1是表示本发明的一实施形态的图案形成系统1的构成的图。图案形成系统1利用蚀刻将图案形成于膜状的基材9。基材9的本体是由对可见光透明的树脂形成的、带状的连续片材。基材9例如具有由氧化铟锡(Indium Tin Oxide, ΙΤ0)形成的透明导电膜,且基材9的一主表面是透明导电膜的表面。在基材9的主表面上、即透明导电膜上预先形成有作为感光性材料的光致抗蚀剂的层(以下称为“抗蚀剂层”)。
[0076]图案形成系统1包括搬送机构11、曝光装置21、缓冲装置12、显影装置22、蚀刻装置23、以及抗蚀剂剥离装置24。搬送机构11包括供给部111、回收部112、以及多个搬送辊110。供给部111以卷的形式保持图案形成前的基材9,并且从卷依次抽出基材9的各部位(即连续地存在于带状的基材9的多个部位)。回收部112以卷的形式依次回收图案形成后的基材9的部位。如此,在图案形成系统1中采用所谓的卷对卷(roll to roll)方式,即:由供给部111从卷抽出的基材9的各部位移动至回收部112,并被卷绕成卷状。多个搬送辊110沿着基材9的移动路径配置,并且从下方对移动中途的基材9进行支撑。S卩,多个搬送辊110是对基材9进行支撑的支撑部。图1中,将基材9的移动路径分为上下两段来加以图示。
[0077]从供给部111朝向回收部112依序配置有曝光装置21、缓冲装置
当前第1页1 2 3 4 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1