接导通，所述真空室（216)通过手 动隔断阀V3(206)与所述真空校准接入端(221)连接导通，位于所述真空校准接入端与所述 手动隔断阀V3(206)之间的导气管通过导气管经过手动隔断阀V4(225)与位于所述手动隔断 阀％(205)和所述分子栗（202)之间的导气管连接导通;所述真空校准接入端（221)设有盲 板;所述漏率校准分系统（204)包括被校漏孔Li(217)、参考漏孔L 2(218)、参考漏孔L3(219) 和四极质谱计M(220)，所述被校漏孔LK217)通过导气管接入位于所述手动隔断阀V 9(207) 与所述手动隔断阀V1q(208)之间的检测管路，所述参考漏孔L2(218)经手动隔断阀Vn(209) 与位于所述手动隔断阀V 1Q(208)和所述手动隔断阀V2(222)之间的检测管路连接导通，所述 参考漏孔L 3(219)经过手动隔断阀V12(223)与位于所述手动隔断阀V1Q(208)和所述手动隔断 阀V 2(222)之间的检测管路连接导通，所述四极质谱计M(220)与位于所述手动隔断阀V10 (208)和所述手动隔断阀V2(222)之间的检测管路连接导通;所述控制系统包括控制系统箱 (100)和控制系统电路装置，所述控制系统电路装置设在所述控制系统箱（100)内；所述控 制系统箱（100)的箱壁上设有电源开关，所述电源开关包括机械栗电源开关（103)、电磁隔 断阀V 15电源开关（104)、分子栗电源开关（105)、四极质谱计Μ电源开关（106)、挡油阱加热装 置电源开关（107)、分子栗加热装置电源开关（108)和总电源开关（101);所述控制系统电路 装置分别与四极质谱计Μ、电磁隔断阀V 14、电磁隔断阀V15、电磁隔断阀V17、监测电离真空规 Gi、标准真空规G2、lOOOTorr标准薄膜规G3和ITorr标准薄膜规G4通信连接。4. 根据权利要求1所述的真空及漏率多功能校准装置，其特征在于，所述侧箱盖(304) 上设有把手(305);所述侧箱盖(304)上设有阀门操作孔(313);所述侧箱盖(304)内壁上设 有旋转锁定机构，所述旋转锁定机构与所述把手(305)固定连接;所述侧箱盖安装槽(306) 为矩形槽;所述侧箱盖安装孔(307)为矩形孔;所述侧箱盖安装槽(306)的长度大于或等于 所述侧箱盖安装孔(307)的长度，使所述侧箱盖安装槽(306)的宽度大于或等于所述侧箱盖 安装孔(307)的宽度;所述侧箱盖(304)内壁上设有限位槽(317);所述侧箱盖安装孔(307) 孔壁内侧设有限位凸起;所述限位挡板(312)与所述限位凸起之间设有定位槽，所述定位槽 的宽度大于或等于所述限位槽(317)的第二槽壁(316)的厚度。5. 根据权利要求1所述的真空及漏率多功能校准装置，其特征在于，所述管路安装孔包 括真空校准端连接管路安装孔和漏率校准端连接管路安装孔(310)。6. 根据权利要求1所述的真空及漏率多功能校准装置检定台，其特征在于，所述安装架 (301)上设有面板增强肋板(315)，所述面板增强肋板(315)与所述安装架(301)固定连接。7. 根据权利要求1所述的真空及漏率多功能校准装置，其特征在于，所述第二侧面箱盖 (406)下端、所述第三侧面箱盖下端和第四侧面箱盖(407)下端均设有第二散热孔(412)，所 述第二侧面箱盖(406)、所述第三侧面箱盖和所述第四侧面箱盖(407)上均设有按压式锁定 机构(413);所述第二侧面箱盖(406)、所述第三侧面箱盖和所述第四侧面箱盖(407)均通过 所述按压式锁定机构(413)与所述箱体(401)固定连接。8. 根据权利要求1所述的真空及漏率多功能校准装置，其特征在于所述箱体(401)箱底 上设有第三散热孔(414);所述箱体(401)箱底上表面上设有风扇，所述风扇进气口临近所 述第三散热孔(414 )，所述风扇出气口远离所述箱体(401)箱底上表面;所述箱体(401)内还 设有散热板(415 )，所述散热板(415)与所述控制系统安装架(402)固定连接，所述散热板 (415)上设有通风孔(416);所述第一侧面箱盖(405)下端与所述箱体(401)箱底通过限位连 接件(417)连接，所述限位连接件(417)包括第一连接部(418)和第二连接部(419);所述第 一侧面箱盖(405)下端与所述第一连接部(418)的一端铰接，所述第一连接部(418)的另一 端与所述第二连接部(419)的一端铰接，所述第二连接部(419)的另一端与所述箱体(401) 箱底铰接。9.根据权利要求1所述的真空及漏率多功能校准装置，其特征在于，所述真空校准分系 统(203)包括高真空校准分系统(2031)和低真空校准分系统(2032); 所述高真空校准分系统(2031)包括真空室(216)、监测电离真空规&(214)、标准电离真 空规G2(215)和真空校准接入端(221)，所述监测电离真空规GK214)与所述真空室(216)连 接导通，所述标准电离真空规G 2(215)与所述真空室(216)连接导通，所述真空室(216)与位 于所述手动隔断阀V2(222)和所述手动隔断阀VK205)之间的所述检测管路连接导通，所述 真空室（216)通过手动隔断阀V 3(206)与所述真空校准接入端(221)连接导通;所述真空校 准接入端(221)设有盲板； 所述低真空校准分系统（2032)包括低真空室（227)、1000Torr标准薄膜规G3(228)、 ITorr标准薄膜规G4(229)和低真空校准接入端(230)，所述lOOOTorr标准薄膜规G3(228)与 所述低真空室(227)导通连接，所述ITorr标准薄膜规G 4(229)经过手动隔断_V13(231)与所 述低真空室（227)导通连接，所述低真空校准接入端(230)通过手动隔断阀V 5(232)与所述 低真空室（227)导通连接，所述低真空室（227)通过所述手动隔断阀V4(225)与所述真空校 准接入端(221)与所述手动隔断阀V 3(206)之间的导气管导通连接，所述低真空校准接入端 (230)设有盲板，所述低真空室(227)通过微调阀V 6(211)与所述手动隔断阀V2(222)和所述 手动隔断阀VK205)与所述真空室(216)之间的导气管导通连接，所述微调阀V 6(211)并联有 手动隔断阀V7(233)和膨胀阀V8(234)，自所述微调阀V 6(211)与所述低真空室（227)之间的 导气管上延伸出的旁路导气管依次将所述膨胀阀V8(234)和所述手动隔断阀V 7(233)连接导 通后与所述手动隔断_νΚ205)与所述真空室（216)之间的导气管导通连接;所述微调阀V 6 (211)与所述低真空室（227)之间的导气管通过一个旁路导气管依次导通连接微调阀V16 (236)和氮气存储装置(226)，通过另一个旁路导气管依次导通连接电磁隔断阀V14(235)和 所述挡油阱(213)与所述电阻规G 5(224)之间的导气管； 所述漏率校准分系统(204)包括被校漏孔LK217)、参考漏孔L2(218)、参考漏孔L3(219) 和四极质谱计M(220)，所述被校漏孔LK217)通过导气管接入位于所述手动隔断阀V9(207) 与所述手动隔断阀V 1q(208)之间的检测管路，所述参考漏孔L2(218)经手动隔断阀Vn(209) 与位于所述手动隔断阀V 1Q(208)和所述手动隔断阀V2(222)之间的检测管路连接导通，所述 参考漏孔L 3(219)经过手动隔断阀V12(223)与位于所述手动隔断阀V1Q(208)和所述手动隔断 阀V 2(222)之间的检测管路连接导通，所述四极质谱计M(220)与位于所述手动隔断阀V10 (208)和所述手动隔断阀V2(222)之间的检测管路连接导通;所述控制系统包括控制系统箱 (100)和控制系统电路装置，所述控制系统电路装置设在所述控制系统箱（100)内；所述控 制系统箱（100)的箱壁上设有电源开关，所述电源开关包括机械栗电源开关（103)、电磁隔 断阀V 15电源开关（104)、分子栗电源开关（105)、四极质谱计Μ电源开关（106)、挡油阱加热装 置电源开关（107)、分子栗加热装置电源开关（108)和总电源开关（101);所述控制系统电路 装置分别与四极质谱计Μ、电磁隔断阀V 14、电磁隔断阀V15、电磁隔断阀V17、监测电离真空规 Gi、标准真空规G2、lOOOTorr标准薄膜规G3和ITorr标准薄膜规G4通信连接； 所述真空室(216)和所述低真空室(227)上连接的导气管与室壁之间设置有密封结构， 所述密封结构包括第一密封件（503)、密封油脂以及室壁（501)上设置的密封件安装槽 (502)，所述密封件安装槽(502)的开口方向朝向所述真空室(216)和所述低真空室(227)外 部，所述密封件安装槽(502)的开口面积小于所述密封件安装槽(502)的槽底面积并且所述 密封件安装槽(502)开口的投影位于所述密封件安装槽(502)槽底中心位置，所述第一密封 件(503)为圆筒状橡胶密封件，所述圆筒状橡胶密封件的侧壁及底壁均为中空结构(506)， 所述中空结构(506)内充有压强与大气压相等的惰性气体，所述圆筒状橡胶密封件的侧壁 上设有环形导气管安装槽(504)，所述环形导气管安装槽(504)的开口方向朝向所述真空室 (216)和所述低真空室(227)外部，所述环形导气管安装槽(504)的内壁设置有纵截面为梯 形的内侧凸台（505)，所述内侧凸台（505)的长边或短边与导气管壁相接触，所述圆筒状橡 胶密封件的外侧壁上设置有纵截面为梯形的外侧凸台（507)，所述外侧凸台（507)的长边或 短边与所述密封件安装槽(502)内壁相接触;所述密封油脂涂在所述密封件安装槽(502)内 壁和导气管内外壁上。10.根据权利要求9所述的真空及漏率多功能校准装置，其特征在于，还包括第二密封 件(508)，所述第二密封件(508)为圆筒状结构，其侧壁为中空结构(506)，中空结构(506)内 内充有压强与大气压相等的惰性气体，所述第二密封件(508)外侧壁上设置有与所述环形 导气管安装槽(504)的内壁凹凸配合的结构，所述第二密封件(508)外侧壁与所述环形导气 管安装槽(504)内壁直接的接触面上涂有所述密封油脂。
【专利摘要】本发明公开真空及漏率多功能校准装置，包括真空及漏率多功能校准装置检定台、真空及漏率多功能校准装置控制箱、控制系统和真空及漏率多功能校准系统。本发明符合国家标准、操作方便、校准数据准确可靠且精度高、检定效率高并具有较宽的校准范围，不仅可以对真空规校准，还可以实现对漏孔的校准。
【IPC分类】G01M3/00, G01L27/00
【公开号】CN105675208
【申请号】CN201610077589
【发明人】林瑞初, 刘金生, 凌波, 陈俊华, 张兵, 陈星 , 吴传亮, 付香萍, 丁军平, 肖永超, 马涛, 胡勇才, 王立全, 牛岩, 李晓庆, 付增志
【申请人】中国航天员科研训练中心
【公开日】2016年6月15日
【申请日】2016年2月3日