光学膜的不良检测装置及方法
【专利摘要】本发明提供光学膜的不良检测装置及方法。根据本发明的光学膜的不良检测装置包含：接收部，其由至少一个检查装置接收光学膜卷(roll)的不良信息；不良位置决定部，其基于所述不良信息，决定与所述光学膜卷对应的2维平面上的不良的位置；探索部，其基于所述不良的位置，探索在所述平面上已经被设定的数以上的不良存在的区域；和不良检测部，其基于所述被探索的区域中所含的不良的密集度来检测密集性不良。
【专利说明】
光学膜的不良检测装置及方法
技术领域
[0001]本发明涉及用于检测在光学膜的工序过程中产生的不良的技术。
【背景技术】
[0002]—般而言，在光学膜卷(roll)的工序过程中在一定区域产生了许多不良的情况下，将该区域指定为特别管理区域，由产品检查员进一步进行检查。
[0003]此时，产品检查员观看不良检测图(2维坐标图)判断是否为密集性不良。但是，产品检查员间的熟练度不同，而且不易感知不良检测图的X/Y轴的刻度(scale)的变化导致的不良间的密集基准的差异，因此对于众多的卷的正确且具有一贯性的密集性不良的确认及管理困难。进而，由产品检查员进行检查的情况下，存在检查操作需要大量的费用及时间的问题。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:韩国特开2009-0009314号公报
【发明内容】
[0007]发明所要解决的课题
[0008]本发明的目的在于提供用于检测在光学膜的工序过程中产生的密集性不良的不良检测装置及方法。
[0009]用于解决课题的手段
[0010]1、光学膜的不良检测装置，其包含:
[0011]接收部，其由至少一个检查装置接收光学膜卷(roll)的不良信息；
[0012]不良位置决定部，其基于所述不良信息，决定与所述光学膜卷对应的2维平面上的不良的位置；
[0013]探索部，其基于所述不良的位置，探索所述2维平面上已经被设定的数以上的不良存在的区域；
[0014]不良检测部，其基于所述被探索的区域中所含的不良的密集度检测密集性不良。
[0015]2、根据上述项目I所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述探索部相对于各个不良的位置设定包含所述各个不良的位置的一定大小的探索区域，以所述各个不良的位置为中心依次变更所述探索区域的位置，探索各探索区域中所述已经被设定的数以上的不良存在的区域。
[0016]3、根据上述项目I所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述探索部设定以各个不良的位置为中心坐标的一定大小的多个探索区域，探索各探索区域中所述已经被设定的数以上的不良存在的区域。
[0017]4、根据上述项目I所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述探索部将所述2维平面分割成一定大小的多个探索区域，探索被分割的各探索区域中所述已经被设定的数以上的不良存在的区域。
[0018]5、根据上述项目I所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述探索部在所述2维平面中设定一定大小的探索区域，仅依次变更所述探索区域的位置一定距离，探索各探索区域中所述已经被设定的数以上的不良存在的区域。
[0019]6、根据上述项目I所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述不良检测部包含:
[0020]存储部，其存储所述被探索的区域的位置；
[0021]候补区域决定部，基于所述被探索的区域的位置，将所述被探索的区域作为不良候补区域决定，所述被探索的区域中重叠或连续的区域存在的情况下，统一所述重叠的区域或连续的区域，将被统一的区域作为所述不良候补区域决定；
[0022]不良判断部，其算出所述不良候补区域中所含的不良的密集度，基于所述被算出的密集度判断所述不良候补区域内的所述密集性不良的存在有无，所述密集度为已经被设定的值以上的情况下，判断为所述密集性不良；
[0023]不良检测信息生成部，其在检测有所述密集性不良的情况下，生成包含与光学膜的工序线中的所述密集性不良的产生位置有关的信息的不良检测信息。
[0024]7、根据上述项目6所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述候补区域决定部对于所述被探索的区域或所述被统一的区域的各自决定全部含有各区域中所含的不良的最小区域作为所述不良候补区域。
[0025]8、根据上述项目6所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述密集度包含所述不良候补区域的每单位面积的不良的数、及在所述不良候补区域内各个不良所占的面积的合计中的至少一个。
[0026]9、根据上述项目7所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述密集度包含所述最小区域的面积。
[0027]10、光学膜的不良检测方法，其包括:
[0028]由至少一个检查装置接收光学膜卷(roll)的不良信息的阶段；
[0029]基于所述不良信息，决定与所述光学膜卷对应的2维平面上的不良的位置的阶段；
[0030]基于所述不良的位置，探索在所述平面上已经被设定的数以上的不良存在的区域的阶段；
[0031]基于所述被探索的区域中所含的不良的密集度检测密集性不良的阶段。
[0032]11、根据上述项目10所述的光学膜的不良检测方法，其中，所述探索的阶段相对于所述2维平面中的各个不良的位置，设定含有所述各个不良的位置的一定大小的探索区域，以所述各个不良的位置为中心依次变更所述探索区域的位置，探索各探索区域中所述已经被设定的数以上的不良存在的区域。
[0033]12、根据上述项目10所述的光学膜的不良检测方法，其中，所述探索的阶段设定以各个不良的位置为中心坐标的一定大小的多个探索区域，探索各探索区域中所述已经被设定的数以上的不良存在的区域。
[0034]13、根据上述项目10所述的光学膜的不良检测方法，其中，所述探索的阶段将所述2维平面分割成一定大小的多个探索区域，探索被分割的各探索区域中所述已经被设定的数以上的不良存在的区域。
[0035]14、根据上述项目10所述的光学膜的不良检测方法，其中，所述探索的阶段在所述平面中设定一定大小的探索区域，依次变更所述探索区域的位置，探索各探索区域中所述已经被设定的数以上的不良存在的区域。
[0036]15、根据上述项目10所述的光学膜的不良检测方法，其中，所述检测的阶段包括:
[0037]存储所述被探索的区域的位置的阶段；
[0038]基于所述被探索的区域的位置，将所述被探索的区域作为不良候补区域决定，所述被探索的区域中重叠或连续的区域存在的情况下，将所述重叠的区域或连续的区域统一，将被统一的区域作为所述不良候补区域决定的阶段；
[0039]算出所述不良候补区域中所含的不良的密集度的阶段；
[0040]基于所述被算出的密集度判断所述不良候补区域内的所述密集性不良的存在有无，所述密集度为已经被设定的值以上的情况下，判断为所述密集性不良的阶段；
[0041]检测有所述密集性不良的情况下，生成包含与光学膜的工序线中的所述密集性不良的产生位置有关的信息的不良检测信息的阶段。
[0042]16、根据上述项目15所述的光学膜的不良检测方法，其中，决定所述不良候补区域的阶段对于所述被探索的区域或所述被统一的区域的各自决定全部包含各区域中所含的不良的最小区域作为所述不良候补区域。
[0043]17、根据上述项目15所述的光学膜的不良检测方法，其中，所述密集度包含所述不良候补区域的每单位面积的不良的数、及在所述不良候补区域内各个不良所占的面积的合计中的至少一个。
[0044]18、根据上述项目16所述的光学膜的不良检测方法，其中，所述密集度包含所述最小区域的面积。
[0045]发明的效果
[0046]根据本发明，通过自动地判断光学膜中所含的密集性不良的产生有无，可以与光学膜的生产量无关而根据一系列的基准管理光学膜的品质，同时通过缩短密集性不良的检测时间，可以提高生产率。
[0047]另外，根据本发明，通过可以迅速地把握光学膜中的密集性不良的产生有无而通知，可以进行对于密集性不良的产生的迅速的措置，可以减少光学膜的生产损失(Loss)。
【附图说明】
[0048]图1是本发明的一实施方式涉及的光学膜的不良检测装置的构成图。
[0049]图2是本发明的一实施方式涉及的不良检测部的详细构成图。
[0050]图3是用于说明探索存在不良的区域的过程的例示图。
[0051]图4是用于说明探索存在不良的区域的过程的例示图。
[0052]图5是用于说明探索存在不良的区域的过程的例示图。
[0053]图6是用于说明探索存在不良的区域的过程的例示图。
[0054]图7是用于说明不良候补区域的设定的例示图。
[0055]图8是用于说明不良候补区域的设定的例不图。
[0056]图9是用于说明不良候补区域的设定的例不图。
[0057]图10是用于说明不良候补区域的设定的例示图。
[0058]图11是用于说明不良候补区域的设定的例示图。
[0059]图12是本发明的一实施方式涉及的光学膜的不良检测方法的流程图。
[0060]图13是表示本发明的一实施方式涉及的密集性不良的检测过程的流程图。
【具体实施方式】
[0061]以下参照附图，对本发明的具体的实施方式进行说明。以下的详细的说明是为了帮助与本说明书中记述的方法、装置、和/或系统有关的包括的理解而提供。但是，这些只不过是例示，本发明并不限于这些。
[0062]在说明本发明的实施方式时，在对于关联的公知技术的具体的说明被判断为有可能使本发明的要点不明确的情况下，省略其详细的说明。另外，后述的用语为考虑本发明中的功能而定义的用语，可以因使用者、运用者的意图或惯例等而不同。因此，其定义应该基于贯穿本说明书全部的内容而进行。详细的说明中所使用的用语仅用于记述本发明的实施方式，决不是限制性的。只要不明确地以不同的意思使用，单数形式的表达包含复数形式的意思。本说明中，“包含”或“具备”这样的表达用于是指任何的特性、数字、阶段、动作、要素、这些的一部分或组合，除记述的内容以外，不应排除一个或其以上的其它的特性、数字、阶段、动作、要素、这些的一部分或组合的存在或可能性而解释。
[0063]图1是本发明的一实施方式涉及的光学膜的不良检测装置的构成图。
[0064]参照图1时，本发明的一实施方式涉及的光学膜的不良检测装置100包含接收部110、不良位置决定部120、探索部130及不良检测部140。
[0065]接收部110由至少I个检查装置接收光学膜卷(roll)的不良信息。此时，各检查装置是指配置于光学膜的工序线上的不同的位置、用于检测光学膜的工序过程中产生的不良、生成与所检测的不良有关的不良信息的装置。
[0066]例如，检查装置可以包含在光学膜的工序线中配置于光学膜的上面的照相机组件，也可以以使用该照相机组件拍摄光学膜、由拍摄的图像检测不良的方式构成。另外，因此，可以以光学膜为基准，在照相机组件位于的面的相反面具备光源，照相机组件可以以拍摄从光源放出而透过了光学膜的光的方式构成。该情况下，在光学膜中存在不良的情况下，由于该部分的光的透过度变低，因此可以容易地检测不良。
[0067]予以说明，由检查装置所生成的不良信息可以包含所检测的不良的位置、大小、明亮度、拍摄有所检测的不良的图像、检查开始时刻及结束时刻等。
[0068]不良位置决定部120基于由检查装置接收的不良信息，决定与光学膜卷对应的2维平面上的不良的位置。
[0069]例如，不良位置决定部120可以构成与光学膜卷的长度及宽度对应的2维平面，使由各检查装置接收的不良信息统一而决定该2维平面中的不良的位置。此时，2维平面中的不良的位置可以基于由各检查装置接收的不良信息中所含的不良位置而决定。另外，光学膜卷的长度及宽度可以使用预先被设定的值。
[0070]探索部130基于由不良位置决定部120所决定的不良的位置，探索在2维平面上已经被设定的数以上的不良存在的区域。
[0071]例如，探索部130通过设定一定大小的探索区域，一边在2维平面上巡视被设定的探索区域，一边计数探索区域内所含的不良的数，从而可以探索已经被设定的数以上的不良存在的区域。对此，参照图3?6而具体地进行说明。
[0072]图3?6中，用虚线表示的区域表示探索区域，用圆表示的部分表示不良的位置。予以说明，图3?6中表示探索区域为四边形的形状，但并不限定于此。例如，探索区域可以为圆形，可以根据用户的选择以适当的形状进行变形。另外，探索区域的尺寸例如可以考虑计算负荷、计算的正确性等而由用户设定。
[0073]根据本发明的一实施方式，探索部130可以对于2维平面中所含的各个不良的位置设定含有各个不良的位置的一定大小的探索区域。而且，探索部130可以以各个不良的位置为中心而变更探索区域的位置，探索各探索区域中已经被设定的数以上的不良存在的区域。
[0074]具体地，参照图3，探索部130可以设定含有2维平面300上所含的多个不良中特定的不良310的探索区域321。而且，探索部130可以计数被设定的探索区域321内的不良的数，判断不良的数是否为已经被设定的数以上。
[0075]接着，探索部130可以以不良310的位置为中心使探索区域321在X轴方向上仅移动一定距离，在移动后的位置计数探索区域322内的不良数，判断不良的数是否为已经被设定的数以上。
[0076]接着，探索部130可以以不良310的位置为中心使探索区域322在X轴方向上进一步仅移动一定距离，在移动后的位置计数探索区域323内的不良数，判断不良的数是否为已经被设定的数以上。
[0077]接着，探索部130可以以不良310的位置为中心使探索区域323在Y轴方向上仅移动一定距离，在移动后的位置计数探索区域324内的不良数，判断不良的数是否为已经被设定的数以上。
[0078]这样，探索部130可以以特定的不良310为中心，使探索区域在X轴及Y轴方向上依次仅移动一定距离，在各自的位置计数探索区域内的不良数，探索包含已经被设定的数以上的不良的区域。
[0079]予以说明，在图示的例子中，探索区域的移动距离可以由用户预先设定。
[0080]另外，探索部130可以对于2维平面300中所含的各个不良以同样的方式设定探索区域，一边使被设定的探索区域移动，一边判断在各自的位置探索区域内所含的不良的数是否为已经被设定的数以上。
[0081]另一方面，根据本发明的其它实施方式，探索部130可以在2维平面中设定以各个不良的位置为中心坐标的一定大小的探索区域，探索各探索区域中已经被设定的数以上的不良存在的区域。
[0082]作为具体的例子，参照图4，探索部130可以对于2维平面400上所含的各个不良设定以各不良为中心坐标的一定大小的探索区域410、420、430、440、450。而且，探索部130可以对于各个探索区域410、420、430、440、450计数不良的数，探索包含已经被设定的数以上的不良的区域。
[0083]另一方面，根据本发明的进一步其它的实施方式，探索部130可以将2维平面分割成一定大小的多个探索区域，探索被分割的各探索区域中已经被设定的数以上的不良存在的区域。
[0084]作为具体的例子，参照图5，探索部130可以将2维平面500分割成一定大小的探索区域510、520、530、540。而且，探索部130可以计数各个探索区域510、520、530、540中所含的不良的数，判断是否包含已经被设定的数以上的不良。
[0085]另一方面，根据本发明的进一步其它的实施方式，探索部130可以在2维平面中设定一定大小的探索区域，在2维平面内依次变更探索区域的位置，探索各探索区域中已经被设定的数以上的不良存在的区域。
[0086]作为具体的例子，参照图6，探索部130可以在2维平面600上的特定的位置设定一定大小的探索区域610。而且，探索部130可以在被设定的探索区域610内计数不良的数，判断不良的数是否为已经被设定的数以上。
[0087]接着，探索部130可以使探索区域610在Y轴方向上依次仅移动一定距离，在各个位置计数探索区域620、630、640、650内的不良数，判断不良的数是否为已经被设定的数以上。
[0088]予以说明，不能在Y轴方向上使探索区域移动其以上的情况下，探索部130可以使探索区域在X轴方向上仅移动一定距离之后，计数探索区域660内的不良的数，判断不良的数是否为已经被设定的数以上。
[0089]接着，探索部130可以使探索区域660再次在X轴方向上依次仅移动一定距离，在各自的位置计数探索区域内的不良的数，判断不良的数是否为已经被设定的数以上。
[0090]通过这样的方式，探索部130可以一边使用探索区域巡视2维平面600的全区域，一边在各个位置计数探索区域内的不良的数，探索已经被设定的数以上的不良存在的区域。
[0091]予以说明，在图6所图示的例子中，探索区域的移动方向及移动距离可以由用户预先设定。
[0092]不良检测部140可以基于由探索部130被探索的区域中所含的不良的密集度检测密集性不良。在此，密集性不良是指在一定区域内多个不良密集。
[0093]具体地，不良检测部140可以基于由探索部130被探索的区域设定I个以上的不良候补区域。另外，不良检测部140可以算出被设定的各不良候补区域中所含的不良的密集度而检测密集性不良。
[0094]图2是本发明的一实施方式涉及的不良检测部140的详细构成图。
[0095]参照图2，本发明的一实施方式涉及的不良检测部140包含:存储部141、候补区域决定部142、不良判断部143及不良检测信息生成部144。
[0096]存储部141可以存储由探索部130被探索的已经被设定的数以上的不良存在的区域的位置。具体地，存储部141可以存储由探索部130被探索的区域的2维平面上的位置。根据本发明的一实施方式，存储部141可以以由与2维平面对应的2维排列构成的图像缓冲的形态实现，可以使用2维排列存储由探索部120被探索的区域的位置。
[0097]候补区域决定部142可以基于存储于存储部141的被探索的区域的位置决定I个以上的不良候补区域。
[0098]例如，候补区域决定部142可以将存储于存储部141的各个的被探索的区域作为不良候补区域决定。
[0099]此时，根据本发明的一实施方式，在被存储于存储部141的被探索的区域中重叠或连续的区域存在的情况下，候补区域决定部142可以将重叠或连续的区域进行统一，将被统一的区域作为不良候补区域决定。此时，为了重叠或连续的区域的统一，可以使用BlobLab e I i ng算法这样的标记(Lab e I i ng)算法。
[0100]作为具体的例子，参照图7，在与光学膜卷对应的2维平面710上由探索部120被探索的区域711、712、713可以分别存储于以2维排列构成的存储部141的存储区域720的对应的位置 721、722、723。
[0101]此时，候补区域决定部142可以将作为由探索部130被探索的区域的721、722及723的区域分别作为不良候补区域决定。
[0102]作为其它例，图7中，由于721的区域和722的区域为连续的区域，因此，候补区域决定部142可以将721的区域和722的区域如图8所示的例子那样在I个区域724中统一，将被统一的区域的724和723的区域分别作为不良候补区域决定。
[0103]作为其它例，参照图9，在与光学膜卷对应的2维平面910上由探索部120被探索的区域911、912、913可以分别存储于以2维排列构成的存储部141的存储区域920的对应的位置921、922、923。
[0104]此时，候补区域决定部142可以将作为由探索部130被探索的区域的921、922及923的区域分别作为不良候补区域决定。
[0105]作为其它例，由于被存储于存储部141的、被探索的区域中921的区域和922的区域为重叠的区域，因此，候补区域决定部142可以将921的区域和922的区域如图10所示的例子那样在I个区域924中统一，将被统一的区域的924和923的区域分别作为不良候补区域决定。
[0106]另一方面，根据本发明的一实施方式，候补区域决定部142可以分别对于由探索部130被探索的区域或被统一的区域，将全部含有各区域中所含的不良的最小区域作为不良候补区域决定。
[0107]作为具体的例子，参照图10及图11，候补区域决定部142可以分别对于被统一的区域924和未被统一的区域923设定全部含有各区域中所含的不良的最小区域925、926，将被设定的最小区域925、926分别作为不良候补区域决定。
[0108]予以说明，在图11所示的例子中，显示最小区域为四边形的形状，但并不限定于此，最小区域的形状例如可以为圆形等各种形状。
[0109]不良判断部143可以基于各个不良候补区域中所含的不良的密集度检测密集性不良。
[0110]例如，不良判断部143可以算出不良候补区域中所含的不良的密集度，在算出的密集度为已经被设定的值以上的情况下，判断为密集性不良。此时，密集度例如可以作为在不良候补区域内各个不良所占的面积的合计进行计算。
[0111]作为其它例，不良候补区域作为图11所示的最小区域925、926被决定的情况下，密集度可以作为该最小区域的面积进行计算。
[0112]进而，作为其它例，密集度可以作为不良候补区域的每单位面积的不良的数进行计算。此时，每单位面积的不良的数可以作为用不良候补区域中所含的不良的数除以不良候补区域的面积所得的值进行计算。
[0113]检测有密集性不良的情况下，不良检测信息生成部144可以生成与所检测的密集性不良有关的不良检测信息。此时，不良检测信息例如可以含有与光学膜的工序线中的密集性不良的产生位置有关的信息，光学膜的工序线中的密集性不良的产生位置可以基于在光学膜上所检测的密集性不良的产生位置而算出。例如，不良检测信息生成部144可以以光学膜的工序线中的光学膜的输送方向为基准，基于从光学膜的开始位置至光学膜中所检测的密集性不良的产生位置的距离判断光学膜的工序线中的密集性不良的产生位置。
[0114]另一方面，根据本发明的一实施方式，不良检测信息生成部144可以通过将所生成的不良检测信息传送到例如工序管理系统的管理者的终端、工序线的操作者的终端、或工序线上的警报装置而进行对于密集性不良的产生的迅速的措置。
[0115]图12是本发明的一实施方式涉及的光学膜的不良检测方法的流程图。
[0116]参照图12，光学膜的不良检测装置100由至少I个检查装置接收光学膜卷(roll)的不良信息(1210)。
[0117]其后，光学膜的不良检测装置100基于所接收的不良信息决定与光学膜卷对应的2维平面上的不良的位置(1220)。
[0118]其后，光学膜的不良检测装置100基于所决定的不良的位置探索在2维平面上已经被设定的数以上的不良存在的区域(1230)。
[0119]例如，光学膜的不良检测装置100可以对于2维平面中的各个不良的位置设定含有各个不良的位置的一定大小的探索区域，以各个不良的位置为中心依次变更探索区域的位置，探索各探索区域中已经被设定的数以上的不良存在的区域。
[0120]作为其它例，光学膜的不良检测装置100可以设定以2维平面中所含的各不良的位置为中心坐标的一定大小的多个探索区域，探索各探索区域中已经被设定的数以上的不良存在的区域。
[0121]进而，作为其它例，光学膜的不良检测装置100可以将2维平面分割成一定大小的多个探索区域，探索被分割的各探索区域中所述已经被设定的数以上的不良存在的区域。
[0122]进而，作为其它例，光学膜的不良检测装置100可以在2维平面中设定一定大小的探索区域，依次变更所述探索区域的位置，探索各探索区域中已经被设定的数以上的不良存在的区域。
[0123]其后，光学膜的不良检测装置100基于被探索的区域中所含的不良的密集度检测密集性不良(1240)。
[0124]其后，光学膜的不良检测装置100生成与所检测的密集性不良有关的不良检测信息(1250)。此时，不良检测信息例如可以含有光学膜的工序线中的密集性不良的产生位置的信息。
[0125]其后，光学膜的不良检测装置100将所生成的不良检测信息传送至例如工序管理系统的管理者的终端、工序线的操作者的终端、或工序线上的警报装置(1260)。
[0126]图13是表示本发明的一实施方式涉及的密集性不良的检测过程的流程图。
[0127]参照图13，光学膜的不良检测装置100存储在图12的探索阶段(1230)中被探索的区域的位置(1310)。此时，光学膜的不良检测装置100可以使用2维排列存储被探索的区域的位置信息。
[0128]其后，光学膜的不良检测装置100基于被探索的区域的位置决定不良候补区域(1320)。
[0129]例如，光学膜的不良检测装置100可以将被探索的区域的各个作为不良候补区域决定。
[0130]作为其它例，光学膜的不良检测装置100在被探索的区域中存在重叠或连续的区域的情况下，可以将重叠的区域或连续的区域统一，将被统一的区域作为不良候补区域决定。
[0131]进而，作为其它例，光学膜的不良检测装置100可以对于被探索的区域或被统一的区域的各自将全部含有各区域中所含的不良的最小区域作为不良候补区域决定。
[0132]其后，光学膜的不良检测装置100算出不良候补区域中所含的不良的密集度(1330)。
[0133]在此，密集度例如可以作为在不良候补区域内各个不良所占的面积的合计、或不良候补区域的每单位面积的不良的数进行计算。
[0134]作为其它例，不良候补区域作为图11所示的最小区域925、926被决定的情况下，密集度可以作为该最小区域的面积进行计算。
[0135]其后，光学膜的不良检测装置100基于所算出的密集度判断不良候补区域内的密集性不良的存在有无(1340)。
[0136]例如，光学膜的不良检测装置100在所算出的密集度为已经被设定的值以上的情况下，可以判断为密集性不良。
[0137]图12及图13的流程图中，将所述方法分成多个阶段而示出，但至少一部分的阶段可以改变顺序而执行，或与其它阶段组合而执行，或省略，或分成细的阶段而执行，或附加未图示的一个以上的阶段而执行。
[0138]另一方面，本发明的实施方式可以包含含有用于用计算机执行本说明书中记述的方法的程序的计算机可读取的记录介质。所述计算机可读取的记录介质可以单独地或组合含有程序命令、区域数据文件、区域数据构造等。所述介质可以为为了本发明特别地设计而构成的介质、或在计算机软件的领域中通常可使用的介质。在计算机可读取的记录介质的例子中，包含硬盘、软盘及磁带等磁介质、CD-R0M、DVD等光记录介质、软盘等磁-光介质、和R0M、RAM、闪存等的以存储程序命令而执行的方式特别地构成的硬件装置。作为程序命令的例子，可以不仅包含利用编译器所制作的机械语编码，而且包含可以使用翻译机等、利用计算机执行的高级语言编码。
[0139]以上，对本发明的几个实施方式进行了说明，但这些实施方式作为例子出示，并不打算限定发明的范围。这些新的实施方式可以以其它各种方式实施，可以在不脱离发明的要点的范围内进行各种省略、置换、变更。这些实施方式、其变形包含在发明的范围、要点中，同时包含在专利权利要求中所记载的发明和其均等范围中。
[0140]附图标记的说明
[0141]100:光学膜的不良检测装置
[0142]110:接收部
[0143]120:不良位置决定部
[0144]130:探索部
[0145]140:不良检测部
[0146]141:存储部
[0147]142:候补区域决定部
[0148]143:不良判断部
[0149]144:不良检测信息生成部
【主权项】
1.光学膜的不良检测装置，其包含: 接收部，其由至少一个检查装置接收光学膜卷(roll)的不良信息； 不良位置决定部，其基于所述不良信息，决定与所述光学膜卷对应的2维平面上的不良的位置； 探索部，其基于所述不良的位置，探索所述2维平面上已经被设定的数以上的不良存在的区域;和 不良检测部，其基于所述被探索的区域中所含的不良的密集度来检测密集性不良。2.根据权利要求1所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述探索部相对于各个不良的位置设定包含所述各个不良的位置的一定大小的探索区域，以所述各个不良的位置为中心依次变更所述探索区域的位置，探索各探索区域中所述已经被设定的数以上的不良存在的区域。3.根据权利要求1所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述探索部设定以各个不良的位置为中心坐标的一定大小的多个探索区域，探索各探索区域中所述已经被设定的数以上的不良存在的区域。4.根据权利要求1所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述探索部将所述2维平面分割成一定大小的多个探索区域，探索被分割的各探索区域中所述已经被设定的数以上的不良存在的区域。5.根据权利要求1所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述探索部在所述2维平面中设定一定大小的探索区域，仅依次变更所述探索区域的位置一定距离，探索各探索区域中所述已经被设定的数以上的不良存在的区域。6.根据权利要求1所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述不良检测部包含: 存储部，其存储所述被探索的区域的位置； 候补区域决定部，其基于所述被探索的区域的位置，将所述被探索的区域作为不良候补区域决定，所述被探索的区域中重叠或连续的区域存在的情况下，统一所述重叠的区域或连续的区域，将被统一的区域作为所述不良候补区域决定； 不良判断部，其算出所述不良候补区域中所含的不良的密集度，基于所述被算出的密集度来判断所述不良候补区域内的所述密集性不良的存在有无，所述密集度为已经被设定的值以上的情况下，判断为所述密集性不良；和 不良检测信息生成部，其在检测有所述密集性不良的情况下，生成包含与光学膜的工序线中的所述密集性不良的产生位置有关的信息的不良检测信息。7.根据权利要求6所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述候补区域决定部相对于所述被探索的区域或所述被统一的区域的各自决定全部包含各区域中所含的不良的最小区域作为所述不良候补区域。8.根据权利要求6所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述密集度包含所述不良候补区域的每单位面积的不良的数、及在所述不良候补区域内各个不良所占的面积的合计中的至少一个。9.根据权利要求7所述的光学膜的不良检测装置，其中，所述密集度包含所述最小区域的面积。10.光学膜的不良检测方法，其包括: 由至少一个检查装置接收光学膜卷(roll)的不良信息的阶段； 基于所述不良信息，决定与所述光学膜卷对应的2维平面上的不良的位置的阶段； 基于所述不良的位置，探索在所述平面上已经被设定的数以上的不良存在的区域的阶段;和 基于所述被探索的区域中所含的不良的密集度来检测密集性不良的阶段。11.根据权利要求10所述的光学膜的不良检测方法，其中，所述探索的阶段相对于所述2维平面中的各个不良的位置设定包含所述各个不良的位置的一定大小的探索区域，以所述各个不良的位置为中心依次变更所述探索区域的位置，探索各探索区域中所述已经被设定的数以上的不良存在的区域。12.根据权利要求10所述的光学膜的不良检测方法，其中，所述探索的阶段设定以各不良的位置为中心坐标的一定大小的多个探索区域，探索各探索区域中所述已经被设定的数以上的不良存在的区域。13.根据权利要求10所述的光学膜的不良检测方法，其中，所述探索的阶段将所述2维平面分割成一定大小的多个探索区域，探索被分割的各探索区域中所述已经被设定的数以上的不良存在的区域。14.根据权利要求10所述的光学膜的不良检测方法，其中，所述探索的阶段在所述平面中设定一定大小的探索区域，依次变更所述探索区域的位置，探索各探索区域中所述已经被设定的数以上的不良存在的区域。15.根据权利要求10所述的光学膜的不良检测方法，其中，所述检测的阶段包括: 存储所述被探索的区域的位置的阶段； 基于所述被探索的区域的位置，将所述被探索的区域作为不良候补区域决定，所述被探索的区域中重叠或连续的区域存在的情况下，将所述重叠的区域或连续的区域统一，将被统一的区域作为所述不良候补区域决定的阶段； 算出所述不良候补区域中所含的不良的密集度的阶段； 基于所述被算出的密集度判断所述不良候补区域内的所述密集性不良的存在有无，所述密集度为已经被设定的值以上的情况下，判断为所述密集性不良的阶段;和 检测有所述密集性不良的情况下，生成包含与光学膜的工序线中的所述密集性不良的产生位置有关的信息的不良检测信息的阶段。16.根据权利要求15所述的光学膜的不良检测方法，其中，决定所述不良候补区域的阶段相对于所述被探索的区域或所述被统一的区域的各自决定全部包含各区域中所含的不良的最小区域作为所述不良候补区域。17.根据权利要求15所述的光学膜的不良检测方法，其中，所述密集度包含所述不良候补区域的每单位面积的不良的数、及在所述不良候补区域内各个不良所占的面积的合计中的至少一个。18.根据权利要求16所述的光学膜的不良检测方法，其中，所述密集度包含所述最小区域的面积。
【文档编号】G01N21/88GK105911062SQ201610098872
【公开日】2016年8月31日
【申请日】2016年2月23日
【发明人】金种佑, 朴真用
【申请人】东友精细化工有限公司