一种落球试验装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种抗冲击力试验装置，属于机械测试领域，特别涉及一种落球试验装置。
【背景技术】
[0002]笔记本电脑、平板电脑、手机等移动通讯终端所使用的显示屏幕，一般均需要进行落球试验，以测试其抗冲击能力。其中，落球试验即是通过使一定高度的、自由下落的、规定重量的钢球落到待测试样品上，对待测试样品进行冲击，然后检查待测试样品的外观、受损程度及各方面的性能，用于判定其品质。
[0003]图1是现有的落球试验装置，如图1所示，现有的落球试验装置包括样品台110，支架120，所述支架120包括设置于样品台上的竖直导杆121、一端部与竖直导杆121相互交叉垂直设置的横梁122、位于横梁122的远离竖直导杆121 —侧端部的电磁铁140以及用于吸附固定落球300的凹槽，现有的落球试验装置由于只有横梁122在竖直方向上的高度调节功能，当需要对待测试样品某一具体点位进行测试时，此时只能手动移动待测试样品，依靠目测进行落球的中心点与待测试样品的具体的待测试点之间的粗略对位，然而，此种操作方式往往存在误差，落球中心点往往不能精准的与待测试样品的具体要测试的点位吻合，从而使得落球试验的实际测试点位不是需要的测试点，不能达到想要的测试结果。因此，需要提出一种能够精准确认落球点位的落球试验装置。
【实用新型内容】
[0004]针对上述问题，本实用新型提供一种落球试验装置，其能够精准的确认落球点位，达到落球点位与待测试样品的待测试点位的精准吻合。
[0005]本实用新型提供一种落球试验装置，其包括样品台，支架和电磁铁，所述样品台包括底板，在所述底板的上表面设有刻度和滑槽，所述支架包括竖直导杆和横梁，所述竖直导杆可在滑槽内滑动，所述横梁与所述竖直导杆相互垂直交叉设置，所述横梁可相对竖直导杆沿竖直方向和水平方向移动，所述电磁铁包括凹槽和镭射光源，所述凹槽用于收纳落球。
[0006]进一步地，所述刻度包括第一刻度和第二刻度，所述第一刻度和第二刻度设置在所述底板的相邻侧的靠近边缘的上表面，所述第一刻度和第二刻度相互垂直共有刻度原点。
[0007]进一步地，所述滑槽设置在所述底板的靠近所述第一刻度的一侧，所述滑槽的一端起始于所述刻度原点并沿着所述第一刻度延伸设置，所述滑槽的边缘靠近所述第一刻度并露出所述第一刻度的刻度线。
[0008]进一步地，所述滑槽向内凹入底板形成“凹”字型，滑槽的深度小于底板的厚度。
[0009]进一步地，所述竖直导杆竖直设置于所述滑槽内，所述横梁与所述竖直导杆相互垂直交叉设置，且所述横梁平行于X方向。
[0010]进一步地，所述电磁铁固定设置于所述横梁的远离所述竖直导杆的一端。
[0011]进一步地，所述电磁铁还上设有贯穿该电磁铁的圆孔，所述圆孔用于收纳所述镭射光源。
[0012]进一步地，所述圆孔与所述凹槽中心之间预设一定距离L。
[0013]优选地，所述圆孔的中心与所述凹槽的中心均位于所述电磁铁的平行于X方向的对称轴线1-1上。
[0014]进一步地，所述镭射光源射出平行光，该平行光照射在所述样品台的所述底板上形成一圆形光斑。
[0015]本实用新型的实施例中，通过在样品台底板的相邻侧边的靠近边缘的上表面设置第一刻度和第二刻度，将支架中的竖直导杆设置为可沿Y方向往返移动，横梁设置为可沿X方向以及Z方向往返移动，在电磁铁上增加一镭射光源，从而使得在落球试验前，打开镭射光源，移动竖直导杆和横梁，使得镭射光源在底板上形成的光斑与具体的待测试点位吻合，之后再根据镭射光源与凹槽的预设距离在第一刻度和第二刻度的精确测量下进行移动横梁，最后使得实际的落球点位与待测试样品的具体待测试点位的精准吻合，提高落球点位的精准性，从而提升工作效率以及测试试验结果的准确性。
【附图说明】
[0016]图1为现有落球试验装置结构示意图。
[0017]图2为本实用新型实施例提供的落球试验装置结构示意图。
[0018]图3为图2所示的落球试验装置中的电磁铁的平面结构图示意图。
【具体实施方式】
[0019]为更进一步阐述本实用新型为达成预定实用新型目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对本实用新型的【具体实施方式】、结构、特征及其功效，详细说明如后。
[0020]图2为本实用新型实施例提供的落球试验装置的结构示意图，如图2所示，本实用新型实施例中的落球试验装置200包括样品台20，支架30以及电磁铁40。
[0021]样品台20包括底板21、刻度23以及滑槽25。底板21为水平设置的矩形板状结构，底板21具有一定的厚度，待测样品可放置于底板21上，底板21的相邻侧的靠近边缘的上表面设置有刻度23，刻度23包括平行于底板21的短边方向即沿图中的Y方向设置的第一刻度231和垂直于底板21的短边方向即沿图中的X设置的第二刻度233，X方向和Y方向互相垂直，第一刻度231和第二刻度233相互垂直，第一刻度231和第二刻度233共有刻度原点230，刻度原点230设置于靠近底板21的四个角中的任何一个，在本实施例中，刻度原点230设置于如图2中的A点，但不以此为限，也可设置在底板21的任何位置处。在底板21的靠近第一刻度231的一侧设置有滑槽25，滑槽25的一端起始于刻度原点230，并沿着第一刻度延伸设置，滑槽25的边缘靠近第一刻度231并露出第一刻度231的刻度线，在本实施例中，该滑槽25向内凹入底板21形成“凹”字型，滑槽25的深度小于底板21的厚度，但不以此为限，该滑槽25也可凸出于底板21设置。
[0022]支架30包括竖直导杆31和横梁33。竖直导杆31竖直设置于滑槽25中，即竖直导杆31的一端部位于滑槽25中，该竖直导杆31可在滑槽25内沿Y方向往返滑动。可以理解地，由于第一刻度231的存在，竖直导杆31在滑槽25内往返移动的距离很容易通过第一刻度231得出。横梁33与竖直导杆31相互垂直交叉设置，横梁33与底板21的表面平行且可相对于竖直导杆31沿竖直方向即图中的Z方向往返移动，用于调节横梁33相对于底板21上表面的距离。
[0023]进一步地，横梁33沿平行于X方向设置，并可相对于竖直导杆31沿水平方向即图中的X方向水平往返移动。
[0024]电磁铁40包括凹槽41和镭射光源43。电磁铁40固定设置于横梁33的远离竖直导杆31的一端，电磁铁40为长方体的块状结构。图3为电磁铁40的平面结构图示意图，请结合图2和图3所示，在电磁铁40的面向底板21的表面设有凹槽41，该凹槽41用于容