一种带有过滤网的水表的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及水表，尤其涉及一种带有过滤网的水表。
【背景技术】
[0002]测量水流量的水表，大多是根据水的累计流量测量，水表通常包括包括表壳、盖子、水表机芯、进水口、出水口，进水口和出水口设于表壳的两侧，表壳内设有与水表机芯相匹配的腔体，盖子设于表壳的顶部水表显示屏上，现有的水表一般分为容积式水表和速度式水表两类，前者的准确度较后者为高，但对水质要求高，水中含杂质时易被堵塞，水表装在水管上，当用户放水时，表上指针或字轮转动指出通过的水量，如何防止水中的杂质堵塞水表是我们现在所面临的难题。为此，特设计一种带有过滤网的水表。
【发明内容】
[0003]为克服上述不足，本实用新型提供了一种带有过滤网的水表。
[0004]本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种带有过滤网的水表，包括壳体、进水口、出水口、过滤网，所述的进水口和出水口分别设于壳体的两侧，所述的壳体内部中空，所述的过滤网设置于进水口正对面，与壳体内壁相连接，其特征在于:所述的壳体底部设有集污槽，集污槽底部设置有阀门机构；所述的集污槽内设有挡污模块；所述的过滤网由进水口正对面延伸到壳体的底部。
[0005]所述的阀门机构用阀门盖与阀门口相连接。
[0006]所述的阀门口的直径小于等于集污槽直径。
[0007]所述的集污槽内的挡污模块为一个螺纹圈，所述的螺纹圈设于集污槽中间，螺纹圈的四周通过连接杆与集污槽内壁相连接。
[0008]所述的过滤网分为两部分，进水口正对面的部分为倾斜设置，由左上方向右下方倾斜；壳体底部的那部分过滤网为水平设置。
[0009]本实用新型通过在表壳内设置过滤网将杂质过滤，为了防止过多的杂质沉积而堵塞，在表壳的底部设置一个集污槽，用于沉积杂质，同时为了防止杂质回滚，在集污槽内设置挡污模块和阀门用于排污。
【附图说明】
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[0010]图1为本实用新型的示意图。
[0011]1.壳体；2.进水口 ；3.出水口 ；4.过滤网；5.集污槽；6.阀门机构；7.挡污模块；【具体实施方式】:
[0012]下面结合附图对本实用新型的结构原理作进一步说明。
[0013]如图1所示本实用新型一种带有过滤网4的水表，包括壳体1、进水口 2、出水口 3、过滤网4，进水口 2和出水口 3分别设于壳体I的两侧，壳体I内部中空，过滤网4设置于进水口 2正对面，与壳体I内壁相连接，壳体I底部设有集污槽5，集污槽5底部设置有阀门机构6，阀门机构6用阀门盖与阀门口相连接，阀门口的直径小于等于集污槽5直径；集污槽5内设有挡污模块7，其中挡污模块7为一个螺纹圈，螺纹圈设于集污槽5中间，螺纹圈的四周通过连接杆与集污槽5内壁相连接；过滤网4由进水口 2正对面延伸到壳体I的底部，过滤网4分为两部分，进水口 2正对面的部分为倾斜设置，由左上方向右下方倾斜；壳体I底部的那部分过滤网4为水平设置。
【主权项】
1.一种带有过滤网⑷的水表，包括壳体(I)、进水口(2)、出水口(3)、过滤网(4)，所述的进水口⑵和出水口(3)分别设于壳体⑴的两侧，所述的壳体(I)内部中空，所述的过滤网(4)设置于进水口(2)正对面，与壳体(I)内壁相连接，其特征在于:所述的壳体(I)底部设有集污槽(5)，集污槽(5)底部设置有阀门机构￠);所述的集污槽(5)内设有挡污模块(7);所述的过滤网⑷由进水口(2)正对面延伸到壳体⑴的底部。2.根据权利要求1所述的一种带有过滤网(4)的水表，其特征在于:所述的阀门机构(6)用阀门盖与阀门口相连接。3.根据权利要求2所述的一种带有过滤网(4)的水表，其特征在于:所述的阀门口的直径小于等于集污槽(5)直径。4.根据权利要求1所述的一种带有过滤网(4)的水表，其特征在于:所述的集污槽(5)内的挡污模块(7)为一个螺纹圈，所述的螺纹圈设于集污槽(5)中间，螺纹圈的四周通过连接杆与集污槽(5)内壁相连接。5.根据权利要求1所述的一种带有过滤网(4)的水表，其特征在于:所述的过滤网(4)分为两部分，进水口(2)正对面的部分为倾斜设置，由左上方向右下方倾斜；壳体(I)底部的那部分过滤网(4)为水平设置。
【专利摘要】本实用新型公开一种带有过滤网的水表，包括壳体、进水口、出水口、过滤网；进水口和出水口分别设于壳体的两侧，壳体内部中空，过滤网设置于进水口正对面，与壳体内壁相连接，壳体底部设有集污槽，集污槽底部设置有阀门机构；集污槽内设有挡污模块；过滤网由进水口正对面延伸到壳体的底部；本实用新型通过在表壳内设置过滤网将杂质过滤，为了防止过多的杂质沉积而堵塞，在表壳的底部设置一个集污槽，用于沉积杂质，同时为了防止杂质回滚，在集污槽内设置挡污模块和阀门用于排污。
【IPC分类】G01F15/12
【公开号】CN204902920
【申请号】CN201520260737
【发明人】郑春玉
【申请人】福州新欣源电子科技有限公司
【公开日】2015年12月23日
【申请日】2015年4月28日