一种氡室温湿度控制系统的制作方法

本发明涉及一种氡室温湿度控制系统。

背景技术：

氡室是氡及氡子体刻度装置的重要组成部分，通过向氡室内补氡使氡室内产生浓度均匀稳定的氡及氡子体，以满足氡测量仪的校准检定需要。氡室中的温度要求是可调节的，并且氡室中的温度和湿度对氡浓度影响较大，因此需要对氡室采取措施以实现温度控制。

现有技术下，通常是采用空调机实现氡室的温度控制，但空调机控温的方式存在着不足之处，即空调机制冷/制热的惯性大，难以对温度进行精确的控制，且存在着温度场分布不均的问题。

技术实现要素：

本发明针对现有技术存在的不足，提供一种氡室温湿度控制系统。

本发明的技术方案如下：

一种氡室温湿度控制系统，包括有氡室内的温度传感器和湿度传感器，接收温、湿度传感器数据的控制器以及由控制器控制的温度控制系统和湿度控制系统，其特殊之处是：湿度控制系统包括有设于氡室一侧壁的加湿器和干燥机；温度控制系统包括有一级温控装置和二级温控装置，一级温控装置为空调机且与加湿器、干燥机设于氡室的同一侧壁，二级温控装置为沿另外三侧壁分布的分布式自控温加热器装置或液媒控温散热片装置。

自控温加热器装置包括有自控温加热器以及位于所述自控温加热器后部的风扇（自控温加热器包括有温度传感器、控制电路和加热元件，控制电路控制加热元件加热，当温度传感器测得温度高于设定值时，控制电路控制加热元件停止加热，当温度传感器测得温度低于设定值时，控制电路控制加热元件加热）。

液媒控温散热片装置包括有散热片以及连通散热片内管路的液媒进口和液媒出口，该散热片内通有与氡室设定温度相同的液媒。

本发明采用空调机进行一级控温，并采用沿氡室三侧壁分布的自控温加热器装置或液媒控温散热片装置实现二级精确控温和确保温度场的均匀。

附图说明

图1为实施例1或2的正面结构示意图。

图2为实施例1的俯面结构示意图。

图3为实施例2的俯面结构示意图。

图中：1、室内机，2、暖风机，3、侧壁温度传感器，4、顶部温度传感器，5、室外机，6、计算机，7、氡室。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本发明作进一步的说明。

实施例1

如图1、2所示，该实施例包括有氡室内的温度传感器和湿度传感器，接收温、湿度传感器数据的控制器以及由控制器控制的温度控制系统和湿度控制系统，湿度控制系统包括有设于氡室一侧壁的加湿器2和干燥机3；温度控制系统包括有一级温控装置和二级温控装置，一级温控装置为空调机1且与加湿器、干燥机设于氡室的同一侧壁，二级温控装置为沿另外三侧壁分布的分布式自控温加热器装置。该自控温加热器装置包括有自控温加热器4以及位于所述自控温加热器后部的风扇5（自控温加热器为现有技术，一般包括有温度传感器、控制电路和加热元件，控制电路控制加热元件加热，当温度传感器测得温度高于设定值时，控制电路控制加热元件停止加热，当温度传感器测得温度低于设定值时，控制电路控制加热元件加热）。

该实施例中，当湿度传感器感应氡室内湿度值大于/小于设定值时，控制器控制干燥机/加湿器工作以控制湿度值在要求范围；当温度传感器感应氡室内温度值大于/小于设定值时，控制器控制空调机进行一级控温，同时开启自控温加热器装置，该自控温加热器装置的自控温加热器的温度设定值与氡室温度设定值相同，自控温加热器后部风扇吹出小风来均匀温度场，并使氡室内温度更精确的达到设定温度。

实施例2

如图1、3所示，该实施例包括有氡室内的温度传感器和湿度传感器，接收温、湿度传感器数据的控制器以及由控制器控制的温度控制系统和湿度控制系统，湿度控制系统包括有设于氡室一侧壁的加湿器2和干燥机3；温度控制系统包括有一级温控装置和二级温控装置，一级温控装置为空调机1且与加湿器、干燥机设于氡室的同一侧壁，二级温控装置为沿另外三侧壁分布的分布式液媒控温散热片装置。该液媒控温散热片装置包括有散热/冷片6以及连通散热/冷片内管路的液媒进口7和液媒出口8，散热片内通有与氡室设定温度相同的液媒，各散热片的液媒进口连通进液管，液媒出口连接出液管，进液管、出液管可选择与循环泵及液媒加热/冷却装置连通形成液媒循环。

与实施例1相比，该实施例是通过向氡室三侧壁的散热/冷片通温度与设定温度相同的液媒来实现均匀温度场及使氡室内温度更精确的达到设定温度的。

技术特征：

技术总结
本发明涉及一种氡室温湿度控制系统，包括有氡室内的温度传感器和湿度传感器，接收温、湿度传感器数据的控制器以及由控制器控制的温度控制系统和湿度控制系统，湿度控制系统包括有设于氡室一侧壁的加湿器和干燥机；温度控制系统包括有一级温控装置和二级温控装置，一级温控装置为空调机且与加湿器、干燥机设于氡室的同一侧壁，二级温控装置为沿另外三侧壁分布的分布式自控温加热器装置或液媒控温散热片装置。本发明采用空调机进行一级控温，并采用沿氡室三侧壁分布的自控温加热器装置或液媒控温散热片装置实现二级精确控温和确保温度场的均匀。

技术研发人员：侯铁栋;刘洋;陶豹;樊超;李达;于海容
受保护的技术使用者：山东省计量科学研究院;山东省立医院;山东省千佛山医院
技术研发日：2017.06.02
技术公布日：2017.09.15