触摸屏及显示装置制造方法
【专利摘要】本发明提供一种触摸屏，其包括一基板、一透明导电层及一抗反射层；所述基板采用蓝宝石制成，其包括一上表面及一与所述上表面相对的下表面；所述透明导电层设置在所述上表面；所述抗反射层设置在所述下表面，其用于提高投射至所述基板的光线的透射率。本发明提供的触摸屏通过采用蓝宝石作为基板，由于蓝宝石具有较大的硬度和屈服强度，从而有效提高了触摸屏的硬度和屈服强度；进一步通过在基板上设置抗反射层，有效提高了触摸屏对光线的透射率。本发明还提供一种使用该触摸屏的显示装置。
【专利说明】触摸屏及显示装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种触控面板，特别涉及一种使用蓝宝石的触控面板。
【背景技术】
[0002]传统的触摸屏都包括一基板及一设置在所述基板上的透明导电层。为了提高所述触摸屏的硬度和屈服强度，都会对传统的基板进行物理或化学强化处理。然而，由于对所述基板的强化过程复杂，不利于批量生产。
【发明内容】
[0003]有鉴于此，有必要提供一种具有较大硬度和屈服强度的触摸屏以及使用该触摸屏的显示装置。
[0004]一种触摸屏，其包括一基板、一透明导电层及一抗反射层。所述基板采用蓝宝石制成，其包括一上表面及一与所述上表面相对的下表面。所述透明导电层设置在所述上表面。所述抗反射层设置在所述下表面，其用于提高投射至所述基板的光线的透射率。
[0005]一种显示装置，其包括一显示器及一设置在所述显示器的表面的触摸屏。所述触摸屏包括一基板、一透明导电层及一抗反射层。所述基板米用蓝宝石制成，其包括一上表面及一与所述上表面相对的下表面。所述透明导电层设置在所述上表面。所述抗反射层设置在所述下表面，其用于提高投射至所述基板的光线的透射率。
[0006]本发明提供的触摸屏通过采用蓝宝石作为基板，由于蓝宝石具有较大的硬度和屈服强度，从而有效提高了触摸屏的硬度和屈服强度，另外，通过在基板上设置抗反射层，有效提高了触摸屏对光线的透射 率。
【专利附图】
【附图说明】
[0007]图1是本发明实施方式提供的触摸屏的结构示意图。
[0008]图2是使用图1中的触摸屏的显示装置的结构示意图。
[0009]主要元件符号说明
【权利要求】
1.一种触摸屏，其包括一基板、一透明导电层及一抗反射层；所述基板采用蓝宝石制成，其包括一上表面及一与所述上表面相对的下表面；所述透明导电层设置在所述上表面；所述抗反射层设置在所述下表面，其用于提高投射至所述基板的光线的透射率。
2.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于:所述透明导电层为碳纳米管薄膜。
3.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于:所述蓝宝石的折射率为1.760-1.757 ;该蓝宝石的结晶方向为a轴(11 2 0)，c轴(0001)，m轴(10 1 O)。
4.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于:所述抗反射层的膜系结构为UHyL)\4≤n 8,l<x<2,l<y<2；n为正整数；其中H为1/4中心波长厚度的高折射率层，L为1/4中心波长厚度的低折射率层，xH为x/4中心波长厚度的高折射率层，yL为y/4中心波长厚度的低折射率层，Π为高折射率层和低折射率层堆叠的周期数。
5.如权利要求4所述的触摸屏，其特征在于:所述高折射率层选择二氧化钛层，其折射率为2.705 ;所述低折射率层为二氧化硅层，其折射率为1.499。
6.一种显示装置，其包括一显示器及一设置在所述显示器的表面的触摸屏；所述触摸屏包括一基板、一透明导电层及一抗反射层；所述基板采用蓝宝石制成，其包括一上表面及一与所述上表面相对的下表面；所述透明导电层设置在所述上表面；所述抗反射层设置在所述下表面，其用于提高投射至所述基板的光线的透射率。
7.如权利要求6所述的显示装置，其特征在于:所述透明导电层为碳纳米管薄膜。
8.如权利要求6所述的显示装置，其特征在于:所述蓝宝石的折射率为1.760-1.757；该蓝宝石的结晶方向为a轴(11 2 0)，c轴(0001)，m轴(10 1 O)。
9.如权利要求6所述的显示装置，其特征在于:所述抗反射层的膜系结构为UHyL)\4≤n ≤8,l<x<2,l<y<2；n为正 整数；其中H为1/4中心波长厚度的高折射率层，L为1/4中心波长厚度的低折射率层，xH为x/4中心波长厚度的高折射率层，yL为y/4中心波长厚度的低折射率层，η为高折射率层和低折射率层堆叠的周期数。
10.如权利要求9所述的显示装置，其特征在于:所述高折射率层选择二氧化钛层，其折射率为2.705 ;所述低折射率层为二氧化硅层，其折射率为1.499。
【文档编号】G06F3/041GK103472936SQ201210184122
【公开日】2013年12月25日 申请日期:2012年6月6日 优先权日:2012年6月6日
【发明者】陈杰良 申请人:鸿富锦精密工业（深圳）有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司