一种电容触摸屏和触摸屏显示器的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种电容触摸屏和触摸屏显示器，触摸屏包括彩膜基板上设置成触摸点的透明导电图形；还包括：通过绝缘层上的过孔与每个触摸点的透明导电图形相连的感应电极连接线，以及感应电极连接线上设置的遮光层；其中，所述遮光层完全覆盖于所述感应电极连接线上。本实用新型还同时公开了一种触摸屏显示器，本实用新型不仅可减小触摸屏的厚度，且可实现多点触控。
【专利说明】一种电容触摸屏和触摸屏显示器
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及液晶显示【技术领域】中的触摸屏技术，尤其涉及一种电容触摸屏和触摸屏显示器。
【背景技术】
[0002]目前，由于触摸屏显示器的迅速发展，其已经逐渐发展成为主流平板显示器。从出现至今，触摸屏显示器按照结构划分主要分为如下三种类型:外挂式触摸屏(Add On ModeTouch Panel)、盒外触摸屏设计(On Cell Touch Panel)以及内嵌式触摸屏(In Cell TouchPanel)。当前主流触摸屏大部分都采用外挂式触摸屏结构设计。随着触摸屏显示器所要求的光学特性和电学特性不断提高，以及消费者对薄化显示器的不断需求，在有限的空间里，且在显示效果不变的情况下，设计出具有高性能、成本降低、超薄的薄膜晶体管逐渐成为各大厂商的主要目标。
[0003]现有电容式触摸屏的设计中，通常是在彩膜基板的背面采用上下两层透明的铟锡氧化物(ITO)金属极板与中间一层绝缘层共同形成电容，并且在彩膜基板上要形成一层遮光层，如:黑矩阵(BM)，这就需要制作多层电极，增加了触摸屏的厚度。此外，由于需要在彩膜基板上先制作一层BM，导致在制作R，G，B色胶时，表面凹凸不平，要通过过量涂层(OverCoating)进行平坦化，同样增加了触摸屏的厚度。
[0004]另外，普通电容式触摸屏均为三层结构设计，即在液晶显示器(IXD)上贴敷一个感应玻璃；或者在LCD的外边制作感应电极，并且需要封装。因此，很难实现超薄模组的要求，工艺也较复杂。
[0005]现有普通电容式触摸屏的寻址方法为:根据电极电容在横纵两个方向上的变化来定位触摸点的横纵坐标。图1为现有常见的触摸点透明导电图形的结构示意图，包括图1(a)所示的菱形结构和图1(b)所示的条形结构。菱形结构的透明导电图形目前使用比较多，该结构的两层透明导电通常均设置在玻璃基板的同一侧；条形结构对应的双层透明导电分别设置在玻璃基板的两侧。上述已有的电容式触摸屏均只支持一点触控或者两点触控，但已不能满足用户的更高需求。
实用新型内容
[0006]有鉴于此，本实用新型的主要目的在于提供一种电容触摸屏和触摸屏显示器，不仅可减小触摸屏的厚度，且可实现多点触控。
[0007]为达到上述目的，本实用新型的技术方案是这样实现的:
[0008]本实用新型提供了一种电容触摸屏，包括彩膜基板上设置成触摸点的透明导电图形；还包括:通过绝缘层上的过孔与每个触摸点的透明导电图形相连的感应电极连接线，以及感应电极连接线上设置的遮光层；
[0009]其中，所述遮光层完全覆盖于所述感应电极连接线上。
[0010]其中，所述每个触摸点的透明导电图形为方形或菱形。[0011]其中，所述方形的边长或菱形的对角线的长度为3-8mm。
[0012]其中，所述每个触摸点的透明导电图形上的绝缘层均对应设置有过孔。
[0013]上述方案中，所述感应电极连接线采用不透光的金属材料。
[0014]其中，所述感应电极连接线采用的不透光金属材料为Mo、Cu、或Al ;或者，
[0015]所述感应电极连接线采用两种以上不同种类的不透光金属材料。
[0016]其中，所述每个触摸点的透明导电图形分别对应设置有一条感应电极连接线。
[0017]其中，所述遮光层的图形与TFT阵列基板设置的像素走线位置相匹配。
[0018]进一步地，所述电容触摸屏还包括:设置于遮光层上的红R、绿G、蓝B三种色胶以及所述色胶上整面设置的透明导电层。
[0019]本实用新型还提供了一种触摸屏显示器，所述触摸屏显示器包括上述的电容触摸屏。
[0020]本实用新型提供的电容触摸屏和触摸屏显示器，在形成有触摸点透明导电图形的彩膜基板上，设置与每个触摸点透明导电图形相连的感应电极连接线；再形成由TFT阵列基板(Array端)设置的遮光层，所述感应电极连接线完全被遮光层所覆盖，因此不影响整个面板的透光率；由于每个触摸点透明导电图形都连接有感应电极连接线，因此，可实现每个触摸点都能触控。由于本实用新型中仅使用彩膜基板一层玻璃，相对现有的三层结构设计，可减小触摸屏的厚度。
[0021]此外，本实用新型中所述感应电极连接线选用不透光的金属材料，因此，可减小现有透明导电作为连接线产生的电阻，使电容触摸屏更加灵敏。
【专利附图】
【附图说明】
[0022]图1(a)、(b)为现有常见的触摸点透明导电图形的结构示意图；
[0023]图2为本实用新型实施例电容触摸屏的制备方法流程示意图；
[0024]图3为本实用新型实施例在彩膜基板上形成的触摸点的透明导电图形；
[0025]图4为本实用新型实施例在彩膜基板上形成绝缘层和过孔后的平面图；
[0026]图5为本实用新型实施例在彩膜基板上形成感应电极连接线后的平面图；
[0027]图6为本实用新型实施例在彩膜基板上形成遮光层后的平面图；
[0028]图7为本实用新型实施例在彩膜基板上形成RGB三色胶后的平面图。
[0029]附图标记说明:
[0030]I触摸点的透明导电图形；2过孔；3感应电极连接线；4遮光层；5色胶。
【具体实施方式】
[0031]本实用新型的基本思想是:在形成有触摸点透明导电图形的彩膜基板上，设置与每个触摸点透明导电图形相连的感应电极连接线；再形成由TFT阵列基板设置的遮光层，所述感应电极连接线完全被遮光层所覆盖，因此不影响整个面板的透光率；由于每个触摸点透明导电图形都连接有感应电极连接线，因此，可实现每个触摸点都能触控。
[0032]其中，所述感应电极连接线与感应集成电路相连；所述感应电极连接线选用不透光的金属材料，因此，可减小现有ITO作为连接线产生的电阻，使电容触摸屏更加灵敏。
[0033]下面结合附图及具体实施例对本实用新型作进一步详细说明。[0034]图2为本实用新型实施例电容触摸屏的制备方法流程示意图，如图2所示，包括如下步骤:
[0035]步骤201:在彩膜基板上形成触摸点的透明导电图形；
[0036]具体为:在彩膜基板(图中未示出)上沉积透明导电层，如:ΙΤ0层，并通过构图工艺形成触摸点的透明导电图形1，如图3所示。其中，所述每个触摸点的透明导电图形I可为方形或菱形。
[0037]对于触摸屏分辨率的设置是与进行触控的手指相匹配的，如果分辨率设置的过高，而每个触摸点很小的话，手指一次会碰到很多触摸点，因此没有必要。所以通常将触摸点设置成宽度为3-8_左右的方形或者菱形，如图1(a)所示。
[0038]步骤202:在设置有触摸点透明导电图形的彩膜基板上形成绝缘层和过孔；
[0039]具体为:在设置有触摸点透明导电图形I的彩膜基板上沉积一层绝缘材料，如:SiNx或者Si02，并通过构图工艺形成绝缘层(图中未示出)上的过孔2，如图4所示。其中，所述每个触摸点的透明导电图形I上的绝缘层均设置有过孔2。
[0040]步骤203:在形成有过孔的彩膜基板上设置感应电极连接线；
[0041]具体为:在形成有过孔2的彩膜基板上沉积一层不透光的金属材料，并通过构图工艺形成感应电极连接线3，如图5所示。其中，所述不透光的金属材料可采用:金属Mo、Cu、或Al等，或者所述几种不同金属材料的叠层等。所述感应电极连接线3通过每个触摸点的透明导电图形I对应的过孔2与每个触摸点的透明导电图形I相连，即:对应每个触摸点的透明导电图形I分别设置一条对应的感应电极连接线3。
[0042]需要说明的是，对于一个7英寸的触摸屏来说，通常采用的触摸点分辨率为27*16左右。而对于IXD来说，分辨率是非常高的，一般一个像素的间隔为50um左右，也就是说在一列的触摸点下面就会有80个左右像素。所以本实用新型就是利用这个比例关系，对应每个触摸点的透明导电图形都单独设置感应电极连接线，这样可实现每个触摸点都能触控。
[0043]步骤204:在形成有感应电极连接线的彩膜基板上形成遮光层；
[0044]具体为:在形成有感应电极连接线3的彩膜基板上沉积一层遮光材料，并利用构图工艺形成遮光层4，如图6所示。这里，所述遮光层4的图形与TFT阵列基板(ARRAY端)设置的像素走线位置相匹配，由于LCD的分辨率非常高，因此感应电极连接线3完全被遮光层4遮挡。
[0045]这里，由于感应电极连接线3设置在遮光层4下面，所以此区域不透光，因此可以使用不透光的金属材料来制作感应电极连接线3，这样可以大大减小感应电路的电阻，实现高灵敏度的触摸屏。
[0046]进一步地，本实用新型还包括步骤205:在形成有遮光层的彩膜基板上形成红(R)、绿(G)、蓝⑶三种色胶；
[0047]这里，可采用现有方法在形成有遮光层4的彩膜基板上顺序形成R、G、B三种色胶5，如图7所示。
[0048]进一步地，本实用新型还包括步骤206:在所述形成有R、G、B三种色胶的彩膜基板上形成透明导电层；
[0049]这里，所述透明导电层，如ITO层整面设置，所述透明导电层用于IXD显示的公共参考电极(VCOM)，同时也是电容触摸屏的屏蔽电极。[0050]上述彩膜基板制作完毕后，可进行后续的对盒操作，此处不再详述。
[0051]下面再对本实用新型实施例电容触摸屏的结构进行简单描述，如图3-7所示，所述电容触摸屏包括:彩膜基板上设置的触摸点的透明导电图形1、通过绝缘层上的过孔2与每个触摸点的透明导电图形I相连的感应电极连接线3，以及感应电极连接线3上设置的遮光层4，所述遮光层4完全覆盖所述感应电极连接线3。
[0052]其中，所述每个触摸点的透明导电图形I可为方形或菱形；所述方形的边长或菱形对角线的长度为3-8_。所述每个触摸点的透明导电图形I上的绝缘层均对应设置有过孔2。
[0053]优选的，所述感应电极连接线采用不透光的金属材料，每个触摸点的透明导电图形I分别设置一条对应的感应电极连接线3。
[0054]进一步地，所述遮光层4的图形与ARRAY端设置的像素走线位置相匹配。
[0055]进一步地，所述电容触摸屏还包括:设置于遮光层4上的R、G、B三种色胶5以及色胶5上整面设置的透明导电层。
[0056]进一步地，本实用新型还提供一种触摸屏显示器，所述触摸屏显示器包括上文所述的电容触摸屏。
[0057]以上所述，仅为本实用新型的较佳实施例而已，并非用于限定本实用新型的保护范围。
【权利要求】
1.一种电容触摸屏，包括彩膜基板上设置成触摸点的透明导电图形；其特征在于，还包括:通过绝缘层上的过孔与每个触摸点的透明导电图形相连的感应电极连接线，以及感应电极连接线上设置的遮光层； 其中，所述遮光层完全覆盖于所述感应电极连接线上。
2.根据权利要求1所述的电容触摸屏，其特征在于，所述每个触摸点的透明导电图形为方形或菱形。
3.根据权利要求2所述的电容触摸屏，其特征在于，所述方形的边长或菱形的对角线的长度为3-8mm。
4.根据权利要求1、2或3所述的电容触摸屏，其特征在于，所述每个触摸点的透明导电图形上的绝缘层均对应设置有过孔。
5.根据权利要求1、2或3所述的电容触摸屏，其特征在于，所述感应电极连接线采用不透光的金属材料。
6.根据权利要求1、2或3所述的电容触摸屏，其特征在于，所述每个触摸点的透明导电图形分别对应设置有一条感应电极连接线。
7.根据权利要求1、2或3所述的电容触摸屏，其特征在于，所述遮光层的图形与TFT阵列基板设置的像素走线位置相匹配。
8.根据权利要求1、2或3所述的电容触摸屏，其特征在于，所述电容触摸屏还包括:设置于遮光层上的红R、绿G、蓝B三种色胶以及所述色胶上整面设置的透明导电层。
9.一种触摸屏显示器，其特征在于，所述触摸屏显示器包括权利要求1至8中任一项所述的电容触摸屏。
【文档编号】G06F3/044GK203520361SQ201320079338
【公开日】2014年4月2日 申请日期:2013年2月20日 优先权日:2013年2月20日
【发明者】陈小川, 王学路, 李付强, 孙建 申请人:北京京东方光电科技有限公司