一种触摸屏网格型电极的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种触摸屏网格型电极，该触摸屏网格型电极包括透明基板、氧化锡铟或掺氟二氧化锡层、镍层和金层。氧化锡铟或掺氟二氧化锡层、镍层和金层的形状相同，重合叠加在一起，其中氧化锡铟或掺氟二氧化锡层位于基板的第一表面上，镍层位于氧化锡铟或掺氟二氧化锡层之上，金层位于镍层之上。氧化锡铟或掺氟二氧化锡层、镍层和金层所具有形状是随机圆形或多边形并且随机相连的网格形状。本实用新型实现了在触摸屏上制作以氧化锡铟或掺氟二氧化锡为基础的网格型电极，具有较高的可制造性，可靠性，经济性等特点。
【专利说明】
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及触摸屏，尤其涉及一种触摸屏网格型电极。 一种触摸屏网格型电极
【背景技术】
[0002] 氧化锡铟或掺氟二氧化锡在薄膜状态时，所具有的电学传导和光学透明等特性使 得它在触摸屏领域内广泛使用。
[0003] 随着市场对大尺寸触摸屏的需求不断增大，研究人员开始考虑如何减少或抵消因 屏幕尺寸增大而带来的电极电阻增大的不利后果。方法之一是调整氧化锡铟或掺氟二氧化 锡中锡的比例，但是调整比例并不能完全解决问题，通常在减小电阻率的同时，透光率也下 降了，透光性增强时，电阻率又上升了。
[0004] 因此研究人员把研究重点转向了用金属网格取代氧化锡铟或掺氟二氧化锡，具体 做法是直接把银、铝或铜等金属材料采用丝印工艺，包括凹凸版技术，以及卷对卷的方式制 作在透明的基板上。
[0005] 为了保证网格型电极的透光率，必须把不透光的金属线做得很细，比如小于5微 米。传统的丝印工艺，包括凹凸版技术，以及卷对卷的制作方式无法满足这样的要求，过于 细小的金属线宽使得传统工艺的良品率急剧下降。
[0006] 而另一方面，能够用于光刻工艺技术的金属材料较贵，且现有触控屏领域的光刻 设备也很难实现细小的金属线宽，并且存在附着力不佳和氧化的问题。
[0007] 因此，本领域的技术人员致力于开发一种触摸屏网格型电极，使其同时具有较低 电阻率，较高透光率，制作过程良品率高，性能可靠性高，而且材料较便宜，经济性好。
【发明内容】
[0008] 有鉴于现有技术的上述缺陷，本实用新型所要解决的技术问题是提供一种可应用 于触摸屏并且经济性好、可靠性高的金属网格。
[0009] 为实现上述目的，本实用新型提供了一种触摸屏网格型电极，包括透明基板、氧化 锡铟或掺氟二氧化锡层、镍层和金层，其中氧化锡铟或掺氟二氧化锡层位于基板的第一表 面上，镍层位于氧化锡铟或掺氟二氧化锡层之上，金层位于镍层之上，氧化锡铟或掺氟二氧 化锡层、镍层和金层是网格形状的。
[0010] 进一步地，氧化锡铟或掺氟二氧化锡层、镍层和金层所具有形状是一种圆形或多 边形。
[0011] 进一步地，氧化锡铟或掺氟二氧化锡层、镍层和金层的形状相同，垂直地叠加在一 起。
[0012] 进一步地，所述圆形或多边形网格是随机相连的，并且尺寸也是随机的。
[0013] 进一步地，基板厚度为20-2000微米。
[0014] 进一步地，氧化锡铟或掺氟二氧化锡层厚度为2-80纳米、宽度小于12微米。
[0015] 进一步地，镍层厚度为10纳米到1. 5微米。
[0016] 进一步地，金层厚度为2-80纳米。
[0017] 进一步地，网格型电极在基板的第一表面上随机相连分布，布满整个触摸屏的可 触摸区域。
[0018] 进一步地，氧化锡铟或掺氟二氧化锡层占空比小于20%，占空比是指在基板的第 一面上存在所述氧化锡铟或掺氟二氧化锡层的区域面积和不存在所述氧化锡铟或掺氟二 氧化锡层的区域面积之比。
[0019] 触摸屏网格型电极的电阻基本上是由金层决定的，而金是导电性非常优异的导 体。因而，这种金属网格可以应用于触摸屏制作，包括中大尺寸的触摸屏。另外，本实用新型 使用的溅射，光刻，化学镀镍，化学镀金都是成熟工艺，可批量作业，生产效率高，良品率高。 另外，由于只有在有网格的地方才镀金和镍，所用的金和镍的单位消耗量极为微小，有利于 节约生产成本。
[0020] 以下将结合附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果作进一步说 明，以充分地了解本实用新型的目的、特征和效果。
【专利附图】
【附图说明】
[0021] 图1是本实用新型的一个较佳实施例的纵向剖面图
[0022] 图2是本实用新型的一个较佳实施例的平面图
【具体实施方式】
[0023] 在本实用新型的较佳实施方式中，如图1，触摸屏网格型电极是由透明基板100， 氧化锡铟或掺氟二氧化锡层101，镍层102和金层103组成。所述氧化锡铟或掺氟二氧化锡 层位于所述透明基板第一面上，所述镍层位于所述氧化锡铟或掺氟二氧化锡层之上，所述 金层位于所述镍层之上，从垂直方向来看，所述氧化锡铟或掺氟二氧化锡层，所述镍层和所 述金层是重合叠加在一起的，所述氧化锡铟或掺氟二氧化锡层，所述镍层和所述金层形成 了一个具有一定形状的相连的网格，所述一定形状可以是图2中的多边形，也可以是圆形。 这样的相连的网格组成了触摸屏的感应电极。通过在保证透光率的圆形或多边形氧化锡铟 或掺氟二氧化锡网格型电极上附加制作镍层和金层来有效减小网格型电极的整体电阻率， 解决了在大尺寸触摸屏的情况下，网格型电极电阻过大，影响触摸屏获取手指触点位置的 问题。
[0024] 以上，对本实用新型的一定形状的相连网格的实施方式进行了说明。但是，本实用 新型的一定形状的相连网格的实施方式并不限定于上述方式。也可以用本领域技术人员能 够进行的各种变形的方式、改良的方式进行实施。
[0025] 以上详细描述了本实用新型的较佳具体实施例。应当理解，本领域的普通技术人 员无需创造性劳动就可以根据本实用新型的构思作出诸多修改和变化。因此，凡本技术领 域中技术人员依本实用新型的构思在现有技术的基础上通过逻辑分析、推理或者有限的实 验可以得到的技术方案，皆应在由权利要求书所确定的保护范围内。
【权利要求】
1. 一种触摸屏网格型电极，其特征在于，包括透明基板、氧化锡铟或掺氟二氧化锡层、 镍层和金层，其中所述氧化锡铟或掺氟二氧化锡层位于所述基板的第一表面上，所述镍层 位于所述氧化锡铟或掺氟二氧化锡层之上，所述金层位于所述镍层之上，所述氧化锡铟或 掺氟二氧化锡层、所述镍层和所述金层是网格形状。
2. 如权利要求1所述触摸屏网格型电极，其特征在于，所述网格形状是指圆形或多边 形。
3. 如权利要求1所述触摸屏网格型电极，其特征在于，所述氧化锡铟或掺氟二氧化锡 层、所述镍层和所述金层的形状相同，重合叠加在一起。
4. 如权利要求2所述触摸屏网格型电极，其特征在于，所述圆形或多边形网格是随机 相连的，并且尺寸也是随机的。
5. 如权利要求1所述触摸屏网格型电极，其特征在于，所述基板厚度为20-2000微米。
6. 如权利要求1所述触摸屏网格型电极，其特征在于，所述氧化锡铟或掺氟二氧化锡 层厚度为2-80纳米、宽度小于12微米。
7. 如权利要求1所述触摸屏网格型电极，其特征在于，所述镍层厚度为10纳米到1. 5 微米。
8. 如权利要求1所述触摸屏网格型电极，其特征在于，所述金层厚度为2-80纳米。
9. 如权利要求1所述触摸屏网格型电极，其特征在于，所述氧化锡铟或掺氟二氧化锡 层、所述镍层和所述金层在基板的第一表面上随机相连分布，布满整个触摸屏的可触摸区 域。
10. 如权利要求1所述触摸屏网格型电极，其特征在于，所述氧化锡铟或掺氟二氧化锡 层占空比小于20%，占空比是指在基板的第一面上存在所述氧化锡铟或掺氟二氧化锡层的 区域面积和不存在所述氧化锡铟或掺氟二氧化锡层的区域面积之比。
【文档编号】G06F3/041GK203894725SQ201420322820
【公开日】2014年10月22日 申请日期:2014年6月17日 优先权日:2014年6月17日
【发明者】陈祖辉, 蔡曙日, 蔡怀清, 林玉辉 申请人:福州智创触控技术有限公司