1.一种厚膜图案结构，其包括：
厚膜图案涂层，其具有图案宽度；以及
顺序地堆叠在所述厚膜图案涂层上的多个厚膜图案涂层，以在厚膜图案涂层的边缘区域处具有逐渐减小的图案宽度，
其中厚膜图案涂层提供具有阶梯形状的厚膜图案。
2.根据权利要求1所述的厚膜图案结构，其中，在厚膜图案涂层的边缘区域处逐渐减小的图案宽度的减小尺寸是相同的或者根据所述层的堆叠顺序而逐渐减小或增大。
3.根据权利要求1所述的厚膜图案结构，其中，所述厚膜图案涂层具有相同的厚度或者根据其堆叠顺序而逐渐减小或增大的厚度。
4.根据权利要求1所述的厚膜图案结构，其中，通过改变厚膜图案涂层的逐渐减小的图案宽度的减小尺寸并且改变厚膜图案涂层的厚度来形成厚膜图案。
5.根据权利要求1所述的厚膜图案结构，其中，由厚膜涂层组成的厚膜图案在其边缘区域处具有5°至10°的锥角。
6.根据权利要求1所述的厚膜图案结构，其中，由厚膜涂层组成的厚膜图案具有30μm至35μm的总厚度。
7.根据权利要求1所述的厚膜图案结构，其中，所述厚膜图案中的阶梯形状的部分设置在触摸传感器的边框区。
8.根据权利要求7所述的厚膜图案结构，其中，所述厚膜图案为用于屏蔽来自背光的光的屏蔽层、用于保护下部图案的保护层和用于与上部电极线绝缘的绝缘层中的任一种。
9.一种形成厚膜图案的方法，其包括：
使用具有图案宽度的掩模涂布厚膜图案形成材料；以及
通过顺序地使用提供逐渐减小的图案宽度的掩模来反复地涂覆厚膜图案形成材料，以形成在其边缘区域具有阶梯形状的厚膜图案。
10.根据权利要求9所述的形成厚膜图案的方法，其中，形成具有阶梯形状的厚膜图案的掩模的逐渐减小的图案宽度的减小尺寸为相同或不同。
11.根据权利要求9所述的形成厚膜图案的方法，其中，进行厚膜图案形成材料的涂布，使得每个涂层具有相同或不同的厚度。
12.根据权利要求9所述的形成厚膜图案的方法，其中，逐渐减小的图案宽度在由反复涂布厚膜图案形成材料获得的整个厚膜图案的边缘区域处形成5°至10°的锥角。
13.根据权利要求9所述的形成厚膜图案的方法，其中，所述厚膜图案的总厚度为30μm至35μm。
14.根据权利要求9所述的形成厚膜图案的方法，其中，所述厚膜图案形成材料为用于屏蔽光的屏蔽层形成材料、用于保护下部图案的保护层形成材料和用于与电极线绝缘的绝缘材料中的任一种。