触摸传感器及触摸传感器的制造方法与流程

文档序号:19186895发布日期:2019-11-20 01:35阅读:305来源:国知局
触摸传感器及触摸传感器的制造方法与流程

本发明涉及一种触摸传感器及触摸传感器的制造方法。



背景技术:

近年来,通过触碰手指或触控笔等具有较细的前端的部件而能够输入与指示图像对应的信息的输入装置(以下,还称为触摸面板。)被广泛利用。触摸面板有电阻膜型及静电电容型等。静电电容型具有能够制成为在一片基板上形成有透光性导电膜的简单的结构的优点。

静电电容型装置中,例如已知有如下触摸传感器:沿彼此交叉的方向分别使电极图案延伸,并检测电极之间的静电电容在手指等碰触时发生变化,由此检测输入位置(例如,参考专利文献1)。

另一方面,在使用作为静电电容型装置的触摸面板时,例如若稍微远离从内部光源入射的光被镜面反射的位置附近而观察触摸面板的表面,则存在于面板内部的电极图案被视觉辨认,有时会有损外观。在触摸面板等装置中,存在提高电极图案的隐藏性的要求。

作为关于电极图案的隐藏性的技术,公开有如下内容:将配置于第1电布线与第2电布线之间的绝缘体的折射率设为与第1折射率及第2折射率实质上相等,所述第1电布线电连接具有第1折射率的多个第1图案,所述第2电布线电连接具有第2折射率的多个第2图案(例如,参考专利文献2)。

以往技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2013-206197号公报

专利文献2:日本特开2013-546075号公报



技术实现要素:

发明要解决的技术课题

上述专利文献1中所记载的技术中,期望通过隔着具有与电极的折射率实质上相等的折射率的高折射率的绝缘膜设置桥接布线而期待防止能够视觉辨认桥接部的图案的效果。然而,由于整体上形成为高折射率,因此与设置于其上方的层(折射率为1.5左右)的折射率之差变大,其结果,电极的图案容易被看到,存在无法充分隐藏图案的课题。

用于解决技术课题的手段

本发明是鉴于上述内容而完成的。

本发明要解决的课题在于提供一种电极图案的隐藏性优异的触摸传感器。

本发明的另一实施方式要解决的课题在于提供一种电极图案的隐藏性比以往提高的触摸传感器的制造方法。

用于解决上述课题的具体方法包括以下方式。

<1>一种触摸传感器,其在透明基板的同一表面上具备沿彼此交叉的方向分别延伸的第1电极图案及第2电极图案,在第1电极图案及第2电极图案上依次叠加而具有折射率为1.6以上并且厚度为200nm以下的第1透明层、以及折射率小于1.6并且厚度为0.5μm以上的第2透明层,第1电极图案具有在基板上沿第1方向隔开间隔而配置的多个第1岛状电极部、及将相邻的第1岛状电极部电连接的第1布线部,第2电极图案具有在基板上沿与第1方向交叉的第2方向隔开间隔而配置的多个第2岛状电极部、及在第1透明层及第2透明层上架桥而将相邻的第2岛状电极部电连接的第2布线部。

<2>根据<1>所述的触摸传感器,其中,第1透明层及第2透明层具有通孔,第2布线部通过通孔而电连接相邻的第2岛状电极部。

<3>根据<1>或<2>所述的触摸传感器,其中,第2布线部由金属布线形成。

<4>根据<1>至<3>中任一项所述的触摸传感器,其中,第1透明层的厚度为40nm以上且200nm以下,并且折射率为1.6以上且1.9以下,第2透明层的厚度为0.5μm以上且20μm以下,并且折射率为1.4以上且小于1.6。

<5>根据<1>至<4>中任一项所述的触摸传感器,其中,在第2透明层与第2布线部之间具有折射率为1.6以上并且厚度为40nm以上且200nm以下的第3透明层。

<6>根据<1>至<5>中任一项所述的触摸传感器,其中,第2透明层为包含碱溶性树脂、聚合性单体及光聚合引发剂的组合物的固化物。

<7>根据<6>所述的触摸传感器,其中,碱溶性树脂的重均分子量为35,000以下。

<8>根据<6>或<7>所述的触摸传感器,其中,相对于第2透明层的固体成分,第2透明层中的来自于碱溶性树脂的成分的含量为30质量%以上。

<9>一种触摸传感器的制造方法,其为<1>至<8>中任一项所述的触摸传感器的制造方法,依次包括:通过转印材料的转印层的转印,在带有电极图案的基材上形成折射率为1.6以上并且厚度为200nm以下的第1透明层的工序;及通过转印材料的转印层的转印,在带有电极图案的基材上形成折射率小于1.6并且厚度为0.5μm以上的第2透明层的工序。

发明效果

根据本发明,提供一种电极图案的隐藏性优异的触摸传感器。

根据本发明的另一实施方式,提供一种电极图案的隐藏性比以往提高的触摸传感器的制造方法。

附图说明

图1是表示配设于触摸面板的第1电极图案及第2电极图案的例的平面图。

图2是图1的a-a线剖视图。

具体实施方式

以下,对本发明的触摸传感器及触摸传感器的制造方法进行详细说明。

本说明书中,利用“~”表示的数值范围是表示将记载于“~”的前后的数值分别作为最小值及最大值而包含的范围。在本发明中阶段性地记载的数值范围中,在某一数值范围记载的上限值或下限值可以替换成其他阶段性记载的数值范围的上限值或下限值。并且,在本发明中记载的数值范围中,在某一数值范围记载的上限值或下限值可以替换成实施例中示出的值。

本说明书中,在组合物中存在多个相当于各成分的物质时,在无特别说明的情况下,组合物中的各成分的量表示在组合物中存在的多个物质的总量。

并且,关于本说明书中的“工序”这一用语,不仅在独立的工序,而且即使在无法与其他工序明确区分的情况下,只要达到该工序所预期的目的,则包含于本用语中。

本说明书中,“透明”是指波长400nm~700nm的可见光的平均透射率为80%以上。因此,“透明导电层”是指波长400nm~700nm的可见光的平均透射率为80%以上的层。“透明导电层”的可见光的平均透射率优选为90%以上。

并且,透明导电层的平均透射率为使用分光光度计测定的值,例如能够使用hitachi,ltd.制造的分光光度计u-3310进行测定。

本说明书中,在无特别说明的情况下,聚合物的各结构单元的含有比率为摩尔比。

本说明书中,在无特别说明的情况下,存在分子量分布时的分子量表示重均分子量(mw)。

并且,本说明书中,在无特别说明的情况下,折射率为在波长550nm下使用椭偏仪测定的值。

<触摸传感器>

本发明的触摸传感器,在透明基板的同一表面上具备沿彼此交叉的方向分别延伸的第1电极图案及第2电极图案,在第1电极图案及第2电极图案上(与透明基板相反的一侧的面)依次叠加而具有折射率为1.6以上并且厚度为200nm以下的第1透明层、以及折射率小于1.6并且厚度为0.5μm以上的第2透明层。

第1电极图案具有在基板上沿第1方向隔开间隔而配置的多个第1岛状电极部、及将相邻的第1岛状电极部电连接的第1布线部。

第2电极图案具有在基板上沿与第1方向交叉的第2方向隔开间隔而配置的多个第2岛状电极部、及以在第1透明层及第2透明层上架桥而将相邻的第2岛状电极部电连接的第2布线部。

以往已知有在基材的同一表面上配置沿彼此交叉的两个方向分别电连接有多个电极部的电极图案且将交叉部作为桥接结构的触摸传感器。交叉部的电极图案容易被视觉辨认,进行改善交叉部中的电极图案的视觉辨认度的研究。

如前述那样,本发明的触摸传感器是通过在具有多个第1岛状电极部的第1电极图案及具有多个第2岛状电极部的第2电极图案上叠加而设置薄的高折射率层及比高折射率层厚并且折射率低的低折射率层而成为电极图案的隐藏性更优异的触摸传感器。

参考图1及图2对本发明的触摸传感器的一实施方式进行说明。

图1是本发明的触摸传感器的平面图,图2是图1的a-a线剖视图。

本发明的触摸传感器100中,在透明基板24上具有沿彼此交叉的箭头p的方向或箭头q的方向分别延伸的第1电极图案34及第2电极图案36。

图1及图2中,仅示出触摸传感器的一部分,但在透明基板上遍及透明基板的宽范围且沿一个方向(第1方向)排列有第1电极图案34,进而遍及透明基板的宽范围且沿与第1方向不同的方向(第2方向)排列有第2电极图案36。

-透明基板-

作为透明基板,为电绝缘性基板,例如可举出玻璃基板、pet(聚对苯二甲酸乙二醇酯)薄膜、pc(聚碳酸酯)薄膜、cop(环烯烃聚合物)薄膜、pvc(聚氯乙烯)薄膜等。

cop薄膜不仅光学各向同性优异,而且尺寸稳定性、进而加工精度也优异,因此优选。另外,透明基板为玻璃基板时,厚度可以为0.3mm以上且3mm以下。并且,透明基板1为树脂薄膜时,厚度可以为20μm以上且3mm以下。

-电极图案-

本发明的触摸传感器在透明的基板的同一表面上具备沿彼此交叉的方向分别延伸的第1电极图案及第2电极图案(以下,有时将两者简单地统称为“电极图案”。)。

图1中,第1电极图案34中,多个方形电极部(第1岛状电极部)12在透明基板24上沿着箭头p的方向以等间隔配置成岛状,彼此相邻的第1岛状电极部12通过第1布线部16连接并连续。由此,沿透明基板的表面上的一个方向形成有长条状的电极。

第1布线部优选为由与第1岛状电极部相同的材料形成。

并且,在图1中,第2电极图案36中,与第1岛状电极部几乎相同的方形电极部(第2岛状电极部)14在透明基板24上沿着与箭头p的方向大致正交的箭头q的方向以等间隔配置成岛状,彼此相邻的第2岛状电极部14通过第2布线部(桥接布线)18连接并连续。

由此,沿透明基板的表面上的与第1电极图案不同的一个方向形成长条状的电极。

第2布线部优选为由金属布线形成。

如图1及图2所示,第1电极图案34及第2电极图案36在交叉部分中,形成交叉的电极中的其中一个越过另一个的桥接结构而使彼此不导通。

本发明的触摸传感器中,电极图案的折射率优选为1.75以上且2.1以下。

第1电极图案及第2电极图案的材料可举出能够形成透明电导膜的材料,例如可举出氧化铟锡(ito)、氧化锌铝(azo)、氧化铟锌(izo)等金属氧化物。

电极图案的材料并无特别限制,能够使用公知的材料。

例如能够利用ito(indiumtinoxide,氧化铟锡)或izo(indiumzincoxide,氧化铟锌)等的透光性导电性金属氧化膜而制作。作为金属膜,可举出ito膜;al、zn、cu、fe、ni、cr、mo、ag、au等的金属膜、铜镍合金等多个金属的合金膜;sio2等金属氧化膜等。

电极图案的厚度能够设为10nm以上且200nm以下。

并且,也可以通过煅烧将非晶质ito膜制成多晶ito膜。

由ito等形成导电性图案等时,能够参考日本专利第4506785号说明书的0014~0016段等的记载。

-第1透明层及第2透明层-

在第1电极图案及第2电极图案上(与透明基板相反的一侧的面)从电极图案侧依次叠加有厚度薄且高折射率的第1透明层及比第1透明层厚且低折射率的第2透明层。

在图2所示的触摸传感器中,第1透明层28配设成覆盖第1电极图案34及第2电极图案36,且在第1透明层28上还配设有第2透明层30。

(第1透明层)

第1透明层是折射率为1.6以上并且厚度为200nm以下的具有透明性的层。

第1透明层的折射率优选为1.6以上且1.9以下,更优选为1.65以上且1.8以下。

第1透明层的厚度优选为200nm以下,更优选为40nm以上且200nm以下,进一步优选为50nm以上且100nm以下。

尤其,第1透明层的厚度优选为40nm以上且200nm以下并且折射率优选为1.6以上且1.9以下。

第1透明层的厚度为使用透射型电子显微镜(tem;transmissionelectronmicroscope)测定的平均厚度。具体而言,使用超薄切片机形成触摸面板的切片,并使用tem对切片中的截面的5mm长度的区域进行扫描而测定第1透明层的厚度。接着,求出以等间隔划分的20个部位的厚度的测定值的算数平均作为平均厚度。

本发明的触摸传感器中的第1透明层只要是折射率为1.6以上并且厚度为200nm以下的透明的膜,则对材料并无特别限制。第1透明层例如可以使用通过溅射而形成的金属氧化物层,或者使用后述的第1透明转印层中的固化成分发生固化反应而成的固化层。

第1透明层例如也可以是通过将后述的转印材料的第1透明转印层转印到第1电极图案及第2电极图案上而形成,并且发生固化反应而成的层。

关于形成第1透明层的成分的详细内容,通过后述的转印材料中的第1透明转印层的说明而明确其内容。

(第2透明层)

第2透明层是折射率小于1.6并且厚度为0.5μm以上的具有透明性的层。

第2透明层的折射率优选为1.4以上且小于1.6,更优选为1.45以上且1.55以下。

第2透明层的厚度优选为0.5μm以上,更优选为0.5μm以上且20μm以下,进一步优选为3μm以上且12μm以下,耕机一部优选为1μm以上且10μm以下。

尤其,第2透明层的厚度优选为0.5μm以上且20μm以下并且折射率优选为1.4以上且小于1.6。

另外,第2透明层的厚度为使用透射型电子显微镜(tem)测定的平均厚度,能够设为与上述第1透明层中的情况相同的方式进行测定。

本发明的触摸传感器中的第2透明层优选为后述的第2透明转印层中的固化成分发生固化反应而成的固化层。

第2透明层例如也可以是通过转印后述的转印材料的第2透明转印层而形成,并且发生固化反应而成的层。

作为第2透明层,优选包含碱溶性树脂、聚合性单体及光聚合引发剂的组合物的固化物。

作为碱溶性树脂的重均分子量,优选为35,000以下,更优选为25,000以下,进一步优选为20,000以下。

关于形成第2透明层的成分的详细内容,包括碱溶性树脂、聚合性单体及光聚合引发剂在内,通过后述的转印材料中的第2透明转印层的说明而明确其内容。

重均分子量为通过凝胶渗透色谱仪(gpc)测定的值,关于测定方法的详细内容,在实施例的项中进行说明。

相对于第2透明层的固体成分,作为第2透明层中的来自于碱溶性树脂的成分的含量优选为30质量%以上。若来自于碱溶性树脂的成分的含量为30质量%以上,则在设为锥形形状这一点上为优选。相对于第2透明层的固体成分,作为来自于碱溶性树脂的成分的含量,更优选为40质量%~70质量%。

上述第1透明层及第2透明层中优选形成有通孔。而且,优选第2布线部通过通孔而电连接相邻的第2岛状电极部的方式。

通孔能够通过以如下方式形成:隔着用于对第1透明层及第2透明层形成所期望的通孔的掩模,进行光照射并图案化。

作为通孔的孔径,相对于第2布线部的宽度,优选其长度小。

-第3透明层-

在第2透明层与第2布线部之间优选具有折射率为1.6以上并且厚度为40nm以上且200nm以下的第3透明层。

第3透明层的折射率优选为1.6以上且1.9以下,更优选为1.65以上且1.8以下。

第3透明层的厚度优选为200nm以下,更优选为40nm以上且200nm以下,进一步优选为50nm以上且100nm以下。

尤其,第3透明层的厚度优选为40nm以上且200nm以下并且折射率优选为1.6以上且1.9以下。

另外,第3透明层的厚度为使用透射型电子显微镜(tem)测定的平均厚度,能够设为与上述第1透明层中的情况相同的方式进行测定。

第3透明层能够与第1透明层相同的方式形成,例如能够通过将具有第1透明树脂层的转印材料的第1透明树脂层转印到临时支撑体而形成。

接着,对本发明的触摸面板的制作中优选的转印材料进行大致说明。

转印材料能够使用依次具有临时支撑体、从临时支撑体侧折射率小于1.6并且厚度为0.5μm以上的第2透明转印层及折射率为1.6以上并且厚度为200nm以下的第1透明转印层的材料。

通过转印材料,能够得到密合性优异且电极图案的隐藏性优异的层叠体。

(临时支撑体)

临时支撑体的材质只要具有形成薄膜时所需要的强度及柔软性,则并无特别限制。从成形性、成本的观点考虑,优选为树脂薄膜。

用作临时支撑体的薄膜优选为具有柔性且在加压下或加压及加热下不发生显着的变形、收缩或伸长的薄膜。更具体而言,作为临时支撑体,可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)薄膜、三乙酸纤维素(tac)薄膜、聚苯乙烯(ps)薄膜、聚碳酸酯(pc)薄膜等,优选为双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜。

对临时支撑体的外观也并无特别限制,可以是透明薄膜,也可以是被着色的薄膜。作为被着色的薄膜,可举出含有染色硅、氧化铝溶胶、铬盐、锆盐等的树脂薄膜。

能够基于日本特开2005-221726号公报中记载的方法等对临时支撑体赋予导电性。

以下,关于临时支撑体上的层,对靠近临时支撑体的第2透明转印层进行说明,接着对第2透明转印层上的第1透明转印层进行说明。

使用转印材料而形成本发明的触摸面板时,第2透明转印层发生固化反应而成的层为第2透明层,第1透明转印层发生固化反应而成的层为第1透明层。

(第2透明转印层)

第2透明转印层可以是例如至少包含聚合性单体及树脂的层,也可以是通过赋予能量而固化的层。第2透明转印层还可以包含聚合引发剂及通过加热能够与酸进行反应的化合物。

第2透明转印层可以是光固化性,也可以是热固化性,还可以是热固化性且光固化性。其中,从能够更加提高膜的可靠性这一观点考虑,优选为热固化性且光固化性的组合物。

具体而言,可以使用在临时支撑体上具有第2透明转印层的转印材料,通过转印法将第2透明转印层转印到被转印体,并通过光照射将被转印的第2透明转印层图案化,并经由显影等而形成。

第2透明转印层为碱溶性树脂层,优选为通过弱碱水溶液能够进行显影。

(厚度)

第2透明转印层的厚度并无特别限制,能够根据目的适当选择。例如本发明的触摸传感器为静电电容型输入装置时,从透明性的观点考虑,第2透明转印层的厚度优选为1μm以上且20μm以下,更优选为2μm以上且15μm以下,进一步优选为3μm以上且12μm以下,尤其优选为6μm以上且12μm以下。

(组成)

第2透明转印层可以由包含聚合性单体的负型材料形成。此时,会成为强度及可靠性优异的透明转印层。

-树脂-

第2透明转印层能够含有树脂中的至少一种。树脂能够作为粘合剂而发挥功能。第2透明转印层中包含的树脂优选为碱溶性树脂。

从显影性的观点考虑,作为碱溶性树脂,例如酸值优选为60mgkoh/g以上的树脂。并且,从与交联性成分进行反应而热交联,并容易形成强固的膜的观点考虑,优选为具有羧基的树脂。

从显影性及透明性的观点考虑,作为碱溶性树脂,优选为丙烯酸树脂。丙烯酸树脂是指具有来自于(甲基)丙烯酸及(甲基)丙烯酸酯中的至少一种的结构单元的树脂。

碱溶性树脂的酸值并无特别限制,但优选酸值为60mgkoh/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂。

作为酸值为60mgkoh/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂,只要满足上述酸值的条件,并无特别限制,能够从公知的树脂中适当选择而使用。例如可举出日本特开2011-095716号公报的0025段中记载的聚合物中酸值为60mgkoh/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂、日本特开2010-237589号公报的0033~0052段中记载的聚合物中酸值为60mgkoh/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂等。

相对于碱溶性树脂100质量%,碱溶性树脂中的具有羧基的单体的共聚合比的优选范围为5质量%~50质量%,更优选为5质量%~40质量%,进一步优选为20质量%~30质量%的范围内。

作为碱溶性树脂,优选为以下所示的聚合物。另外,以下所示的各结构单元的含有比率能够根据目的而适当变更。

[化学式1]

化合物a

具体而言,碱溶性树脂的酸值优选为60mgkoh/g~200mgkoh/g,更优选为60mgkoh/g~150mgkoh/g,进一步优选为60mgkoh/g~110mgkoh/g。

本说明书中,树脂的酸值为利用jisk0070(1992)中规定的滴定方法测定的值。

第2透明转印层及后述的第1透明转印层均含有丙烯酸树脂的情况下,能够提高第2透明转印层与第1透明转印层之间的层间密合性。

碱溶性树脂的重均分子量优选为5,000以上,更优选为10,000以上。碱溶性树脂的重均分子量的上限值并无特别限制,优选为35,000以下,更优选为25,000以下,进一步优选为20,000以下,也可以设为100,000。

碱溶性树脂的重均分子量为使用gpc测定的值,关于测定方法的详细内容,在实施例的一项中进行说明。

从固化前的膜的操作性、固化后的膜的硬度的观点考虑,相对于第2透明转印层的总固体成分量,树脂的含量优选为10质量%~80质量%的范围,更优选为40质量%~60质量%的范围。若树脂的含量为80质量%以下,则单体量不会变得过于减少,良好地维持固化膜的交联密度,成为硬度优异的膜。并且,若树脂的含量为10质量%以上,则固化前的膜不会变得过于柔软,在途中的操作性这一点上有利。

-聚合性单体-

本发明中的第2透明转印层可以含有聚合性单体。

作为聚合性单体,优选包含具有烯属不饱和基团的聚合性单体,更优选包含具有烯属不饱和基团的光聚合性化合物。聚合性单体优选为具有至少1个烯属不饱和基团作为光聚合性基团,除了具有烯属不饱和基团以外,还可以具有环氧基等阳离子聚合性基团。作为第2透明转印层中包含的聚合性单体,优选为具有(甲基)丙烯酰基的化合物。

第2透明转印层优选包含具有两个烯属不饱和基团的化合物及具有至少三个烯属不饱和基团的化合物作为聚合性单体,更优选包含具有两个(甲基)丙烯酰基的化合物及具有至少三个(甲基)丙烯酰基的化合物。

并且,从特定粘合剂中的羧基和聚合性单体的羧基形成羧酸酐而能够提高湿热耐性的观点考虑,优选为聚合性单体的至少1种含有羧基。

作为含有羧基的聚合性单体,并无特别限定,能够使用市售的化合物。作为市售品,例如可优选地举出aronixto-2349(toagoseico.,ltd.)、aronixm-520(toagoseico.,ltd.)、aronixm-510(toagoseico.,ltd.)等。相对于第2透明转印层中包含的所有的聚合性单体,包含含有羧基的聚合性单体的情况下的含量,优选在1质量%~50质量%的范围使用,更优选在1质量%~30质量%的范围使用,进一步优选在5质量%~15质量%的范围使用。

第2透明转印层优选包含(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯化合物作为聚合性单体。

相对于第2透明转印层中包含的所有的聚合性单体,包含(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯化合物的情况下的含量,优选为10质量%以上,更优选为20质量%以上。(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯化合物中,光聚合性基团的官能基数量即(甲基)丙烯酰基的数量优选为3官能以上,更优选为4官能以上。

具有2官能的烯属不饱和基团的聚合性单体只要是在分子内具有两个烯属不饱和基团的化合物,则并无特别限定,能够使用市售的(甲基)丙烯酸酯化合物。作为市售品,例如可优选地举出三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(a-dcpshin-nakamurachemicalco.,ltd.)、三环癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯(dcpshin-nakamurachemicalco.,ltd.)、1,9-壬二醇二丙烯酸酯(a-nod-nshin-nakamurachemicalco.,ltd.)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(a-hd-nshin-nakamurachemicalco.,ltd.)等。

具有3官能以上的烯属不饱和基团的聚合性单体只要是在分子内具有三个以上烯属不饱和基团的化合物,则并无特别限定,例如能够使用二季戊四醇(三/四/五/六)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二-三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、异氰脲酸酯丙烯酸酯、甘油三丙烯酸酯等骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物。

聚合性单体的重均分子量优选为200~3000,更优选为250~2600,尤其优选为280~2200。

聚合性单体可以仅使用1种,也可以使用2种以上。从能够控制第2透明转印层的膜物性的观点考虑,优选使用2种以上的聚合性单体。

其中,从改善将转印后的第2透明转印层曝光之后的膜物性的观点考虑,关于第2透明转印层中含有的聚合性单体,优选组合使用3官能以上的聚合性单体和2官能的聚合性单体。

使用2官能的聚合性单体的情况下,相对于第2透明转印层中包含的所有的聚合性单体,优选在10质量%~90质量%的范围使用,更优选在20质量%~85质量%的范围使用,进一步优选在30质量%~80质量%的范围使用。

使用3官能以上的聚合性单体的情况下,相对于第2透明转印层中包含的所有的聚合性单体,优选在10质量%~90质量%的范围使用,更优选在15质量%~80质量%的范围使用,进一步优选在20质量%~70质量%的范围使用。

第2透明转印层中除了含有树脂及聚合性单体以外,进而还能够根据目的含有各种成分。

作为任意成分,可举出聚合引发剂及通过加热能够与酸进行反应的化合物等。

-聚合引发剂-

第2透明转印层中优选包含聚合引发剂,更优选包含光聚合引发剂。第2透明转印层除了包含树脂、聚合性单体以外,还包含聚合引发剂,由此容易在第2透明转印层形成图案。

作为聚合引发剂,可举出日本特开2011-095716号公报中记载的0031~0042段中记载的光聚合引发剂。作为光聚合引发剂,例如除了1,2-辛二酮,1-[4-(苯硫基)-,2-(邻苯甲酰肟)](商品名:irgacureoxe-01、basf公司)之外,还可优选地举出乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9h-咔唑-3-基]-,1-(邻乙酰基肟)(商品名:irgacureoxe-02、basf公司)、2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮(商品名:irgacure379eg、basf公司)、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉代丙烷-1-酮(商品名:irgacure907、basf公司)等。

相对于第2透明转印层的固体成分的含量,第2透明转印层包含聚合引发剂时的聚合引发剂优选为0.01质量%以上,更优选为0.1质量%以上。并且,优选为10质量%以下,更优选为5质量%以下。通过聚合引发剂的含量在上述范围,在能够更加改善转印材料中的图案形成性、与被转印体的密合性在这一点上为优选。

为了调整固化灵敏度,本发明中的第2透明转印层还能够包含选自增感剂及阻聚剂的至少1种。

-增感剂-

本发明中的第2透明转印层能够包含增感剂。

增感剂具有更加提高第2透明转印层中包含的增感色素、聚合引发剂等针对活性放射线的灵敏度的作用,或者抑制因氧引起的聚合性化合物的聚合抑制的作用等。

作为本发明中的增感剂的例,可举出硫醇及硫化物化合物,例如日本特开昭53-000702号公报、日本特公昭55-500806号公报、日本特开平5-142772号公报中记载的硫醇化合物、日本特开昭56-075643号公报的二硫化物化合物等。更具体而言,可举出2-巯基苯并噻唑、2-巯基苯并噁唑、2-巯基苯并咪唑、2-巯基-4(3h)-喹唑啉、β-巯基萘基等。

作为本发明中的增感剂的另一例,n-苯基甘氨酸等氨基酸化合物、日本特公昭48-042965号公报中记载的有机金属化合物(例如,三丁基锡乙酸酯等)、日本特公昭55-034414号公报中记载的氢供体、日本特开平6-308727号公报中记载的硫化合物(例如,三噻烷等)等。

从因聚合成长速度和链转移的平衡引起而固化速度更加提高这一观点考虑,相对于第2透明转印层的总固体成分量,本发明中的第2透明转印层包含增感剂时的增感剂的含量优选在0.01质量%~30质量%的范围,更优选在0.05质量%~10质量%的范围。

本发明中的第2透明转印层包含增感剂时,可以仅包含1种增感剂,也可以包含2种以上。

-阻聚剂-

本发明中的第2透明转印层能够包含阻聚剂。

阻聚剂具有在制造过程中或保存过程中阻止不希望的聚合性单体的聚合的功能。

本发明的阻聚剂并无特别限制,能够根据目的使用公知的阻聚剂。作为公知的阻聚剂,例如可举出氢醌、对甲氧基苯酚、二-叔丁基-对甲酚、邻苯三酚、叔丁基儿茶酚、苯醌、4,4’-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,2’-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、n-亚硝基苯基羟胺铈盐、吩噻嗪、吩噁嗪等。

相对于第2透明转印层的总固体成分,本发明中的第2透明转印层包含阻聚剂时的阻聚剂的添加量优选为0.001质量%~20质量%。

本发明中的第2透明转印层包含阻聚剂时,阻聚剂可以仅包含1种,也可以包含2种以上。

-通过加热能够与酸进行反应的化合物-

本发明中的第2透明转印层可以含有通过加热能够与酸进行反应的化合物。

相比与25℃下的酸的反应性,通过加热能够与酸进行反应的化合物,优选与超过25℃进行加热之后的酸的反应性高的化合物。通过加热能够与酸进行反应的化合物具有能够与因阻断剂而暂时不活性化的酸进行反应的基团,在规定的解离温度下优选来自于阻断剂的基团解离的化合物。

作为通过加热能够与酸进行反应的化合物,能够举出羧酸化合物、醇化合物、胺化合物、封端异氰酸酯、环氧化合物等,优选为封端异氰酸酯。

作为用于转印材料的封端异氰酸酯,能够举出市售的封端异氰酸酯。例如能够举出异佛尔酮二异氰酸酯的甲基乙基酮肟封端化体即takenate(注册商标)b870n(mitsuichemicals,inc.)、六亚甲基二异氰酸酯系封端异氰酸酯化合物即duranate(注册商标)mf-k60b、tpa-b80e、x3071.04(均为asahikaseichemicals.corporation.)等。

第2透明转印层中包含的封端异氰酸酯的重均分子量优选为200~3000,更优选为250~2600,尤其优选为280~2200。

从转印后的加热工序前的操作性、加热工序后的低透湿性的观点考虑,相对于第2透明转印层的总固体成分量,封端异氰酸酯的含量优选在1质量%~30质量%的范围,更优选在5质量%~20质量%的范围。

并且,作为第2透明转印层中包含的另一添加剂,例如可举出日本专利第4502784号公报的0017段、日本特开2009-237362号公报的0060~0071段中记载的表面活性剂、公知的氟系表面活性剂、日本专利第4502784号公报的0018段中记载的热聚合防止剂,以及在日本特开2000-310706号公报的0058~0071段中记载的其他添加剂。作为优选地用于第2透明转印层中的添加剂,可举出公知的氟系表面活性剂即megaface(注册商标)f-551(diccorporation)。

第2透明转印层涂布溶液(称为第2透明转印层形成用涂布液)并使其干燥而形成,所述溶液为将用于形成至少包含聚合性单体及树脂的第2透明转印层的树脂组合物溶解于溶剂而成的溶液。

(第1透明转印层)

第1透明转印层可以是包含金属氧化物粒子及树脂的层,也可以是通过赋予能量而固化的层。第1透明转印层可以为光固化性,也可以为热固化性,还可以为热固化性且光固化性。其中,若为热固化性且光固化性的层,则能够容易制膜。

第1透明转印层由负型材料形成的情况下,第1透明转印层除了包含金属氧化物粒子、树脂(优选为碱溶性树脂)以外,优选还包含聚合性单体及聚合引发剂,根据需要也可以包含其他添加剂。

第1透明转印层的折射率优选为1.60以上且2.00以下,更优选为1.63以上且1.90以下,进一步优选为1.65以上且1.80以下。

作为控制第1透明转印层的折射率的方法,并无特别限制,可举出单独使用所希望的折射率的透明树脂层的方法、使用添加了金属粒子或金属氧化物粒子等粒子的透明树脂层的方法、使用金属盐和高分子的复合体的方法等。

第1透明转印层的厚度优选为40nm以上且200nm以下。

-树脂-

第1透明转印层优选包含树脂。

树脂可以具有作为粘合剂的功能。作为树脂,优选为碱溶性树脂,更优选为具有来自于(甲基)丙烯酸及(甲基)丙烯酸酯中的至少一种的结构单元的树脂((甲基)丙烯酸树脂)。关于碱溶性树脂的详细内容,与第2透明转印层中的碱溶性树脂为相同含义。其中,第1透明转印层中,能够举出具有酸基的树脂的铵盐作为优选的树脂的例。

第1透明转印层形成用组合物可以包含具有酸基的单体的铵盐作为固化成分。

-具有酸基的树脂的铵盐-

作为具有酸基的树脂的铵盐,并无特别限制,可优选地举出(甲基)丙烯酸树脂的铵盐。

制备第1透明转印层形成用组合物时,优选包含制备第1透明转印层形成用涂布液的工序,所述第1透明转印层形成用涂布液包含将具有酸基的树脂溶解于氨水溶液,酸基的至少一部分被氯化铵化的树脂。

--具有酸基的树脂--

具有酸基的树脂为对于水性溶剂(优选为水或碳数1~3的低级醇与水的混合溶剂)具有溶解性的树脂,能够无特别限制地从公知的树脂中适当选择。作为具有酸基的树脂的优选的例,可举出具有1价酸基(羧基等)的树脂。第1透明转印层中包含的树脂尤其优选为具有羧基的树脂。

作为具有酸基的树脂,优选为碱溶性树脂。

碱溶性树脂能够从线状有机高分子聚合物且为在分子中具有至少1个促进碱可溶性的基团的聚合物中适当选择。作为促进碱可溶性的基团,即酸基,例如可举出羧基、磷酸基、磺酸基等,优选为羧基。

作为碱溶性树脂,优选为可举出在主链包含选自(甲基)丙烯酸及苯乙烯中的结构单元的共聚物。关于碱溶性树脂,更优选举出溶解于有机溶剂且能够通过弱碱水溶液而显影的树脂。

并且,作为具有酸基的树脂,优选为具有酸基的(甲基)丙烯酸树脂,更优选为(甲基)丙烯酸/乙烯化合物的共聚树脂,尤其优选为(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸烯丙酯的共聚树脂。

其中,作为树脂,第1透明转印层优选包含具有来自于(甲基)丙烯酸的结构单元及来自于苯乙烯的结构单元的共聚物,更优选包含具有来自于(甲基)丙烯酸的结构单元、来自于苯乙烯的结构单元及具有乙烯氧基链的来自于(甲基)丙烯酸酯的结构单元的共聚物。

用于第1透明转印层的树脂包含具有来自于(甲基)丙烯酸的结构单元及来自于苯乙烯的结构单元的共聚物,还包含具有来自于(甲基)丙烯酸的结构单元、来自于苯乙烯的结构单元及具有乙烯氧基链的来自于(甲基)丙烯酸酯的结构单元的共聚物,通过形成第1透明转印层时的膜厚均匀性变得更加良好。

具有酸基的树脂可以使用市售品。具有酸基的树脂的市售品并无特别限制,能够根据目的适当选择。作为具有酸基的树脂的市售品,例如可举出toagoseico.,ltd.制造的arufon(arufon:注册商标)uc3000,uc3510,uc3080,uc3920,uf5041(以上,商品名),basf公司制造的joncryl(注册商标)67、joncryl611、joncryl678、joncryl690、joncryl819(以上,商品名)等。

相对于第1透明转印层的总固体成分,具有酸基的树脂优选包含10质量%~80质量%,更优选包含15质量%~65质量%,尤其优选包含20质量%~50质量%。

-其他树脂-

第1透明转印层还可以包含不具有酸基的其他树脂。不具有酸基的其他树脂并无特别限制。

-金属氧化物粒子-

第1透明转印层优选包含金属氧化物粒子。通过包含金属氧化物粒子,能够调节折射率及光透射性。

根据所使用的树脂、聚合性单体的种类及含量、所使用的金属氧化物粒子的种类等,能够使第1透明转印层以任意比例包含金属氧化物粒子。

作为金属氧化物粒子的种类,并无特别限制,能够使用公知的金属氧化物粒子。

从将折射率控制在第1透明转印层的折射率的范围的观点考虑,第1透明转印层优选含有氧化锆粒子(zro2粒子)、nb2o5粒子及氧化钛粒子(tio2粒子)中的至少一个。金属氧化物粒子优选为氧化锆粒子或氧化钛粒子,进一步优选为氧化锆粒子。

作为金属氧化物粒子而使用氧化锆粒子时,从转印后难以看到具有金属氧化物粒子的第2树脂层的缺陷且能够制作透明电极图案的隐藏性良好的层叠体这一观点考虑,相对于第1透明转印层的总固体成分,氧化锆粒子的含量优选为20质量%~95质量%,更优选为40质量%~95质量%,进一步优选为60质量%~95质量%,更进一步优选为60质量%以上且小于80质量%。

作为金属氧化物粒子而使用氧化钛粒子时,从转印后难以看到具有金属氧化物粒子的第1透明转印层的缺陷且能够制作透明电极图案的隐藏性良好的层叠体这一观点考虑,相对于第1透明转印层的总固体成分,氧化钛粒子的含量优选为30质量%~70质量%,更优选为40质量%以上且小于60质量%。

金属氧化物粒子的折射率优选为高于由从第1透明转印层形成用涂布液除去了金属氧化物粒子的组合物形成的透明膜的折射率。

具体而言,转印材料的第1透明转印层优选含有在具有400nm~750nm的波长的光下的折射率1.50以上的金属氧化物粒子,更优选含有折射率为1.55以上的粒子,进一步优选含有折射率为1.70以上的粒子,尤其优选含有1.90以上的粒子,最优选含有2.00以上的粒子。

在此,在具有400nm~750nm的波长的光下的折射率为1.50以上是指具有上述范围的波长的光下的平均折射率为1.50以上的含义,并不需要具有上述范围的波长的所有的光下的折射率为1.50以上。并且,平均折射率为针对具有上述范围的波长的各光的折射率的测定值的总和除以测定点的数量而得的值。

从雾度等光学性能的观点考虑,金属氧化物粒子的平均一次粒径优选为100nm以下,更优选为50nm以下,进一步优选为20nm以下。

金属氧化物粒子的平均一次粒径为通过使用了透射型电子显微镜(tem)的观测而测定任意100个粒子的直径,并通过100个直径的算数平均而求得的值。

第1透明转印层可以单独包含1种金属氧化物粒子,也可以包含2种以上的金属氧化物粒子。

金属氧化物粒子在第1透明转印层中的含量与金属氧化物粒子的种类无关,相对于第1透明转印层的总固体成分,优选包含20质量%~95质量%,更优选包含30质量%~95质量%,进一步优选包含30质量%~85质量%,更进一步优选包含30质量%以上且小于80质量%。金属氧化物粒子的含量在前述的范围,由此转印后的透明电极图案的隐藏性更加提高。

第1透明转印层除了包含树脂及金属氧化物粒子以外,还能够包含其他成分。

-金属氧化抑制剂-

第1透明转印层优选包含金属氧化抑制剂。

作为金属氧化抑制剂,优选为具有在分子内包含氮原子的芳香环的化合物。

并且,作为金属氧化抑制剂,上述包含氮原子的芳香环优选为选自包括咪唑环、三唑环、四氮唑环、噻二唑环及这些与其他芳香环的缩合环的组中的至少一个环,上述包含氮原子的芳香环更优选为咪唑环或咪唑环与其他芳香环的缩合环。

作为上述其他芳香环,可以是单环,也可以是杂环,但优选为单环,更优选为苯环或萘环,进一步优选为苯环。

作为优选的金属氧化抑制剂,优选地例示出咪唑、苯并咪唑、四氮唑、巯基噻二唑及苯并三唑,更优选为咪唑、苯并咪唑及苯并三唑。作为金属氧化抑制剂,可以使用市售品,例如能够优选地使用包含苯并三唑的johokuchemicalco.,ltd.、bt120等。

并且,相对于第1透明转印层的总固体成分,金属氧化抑制剂的含量优选为0.1质量%~20质量%,更优选为0.5质量%~10质量%,进一步优选为1质量%~5质量%。

-聚合性单体-

关于第1透明转印层,从使其固化而提高膜的强度等的观点考虑,优选包含聚合性单体或热聚合性单体等聚合性单体。第1透明转印层可以仅包含前述的具有酸基的单体作为聚合性单体。

作为用于第1透明转印层的聚合性单体,能够使用日本专利第4098550号的0023~0024段中记载的聚合性化合物。其中,能够优选地使用季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇环氧乙烷加成物的四丙烯酸酯。可以单独使用这些聚合性单体,也可以组合多个而使用。使用季戊四醇四丙烯酸酯与季戊四醇三丙烯酸酯的混合物时,季戊四醇三丙烯酸酯比率以质量比计优选为大于0%且80%以下,更优选为10%~60%。

作为用于第1透明转印层的聚合性单体,能够举出由下述结构式1表示的水溶性的聚合性单体、季戊四醇四丙烯酸酯混合物(nkestera-tmmt:shin-nakamurachemicalco.,ltd.、含有约10%的三丙烯酸酯作为杂质)、季戊四醇四丙烯酸酯与三丙烯酸酯的混合物(nkestera-tmm3lm-nshin-nakamurachemicalco.,ltd.、三丙烯酸酯37%)、季戊四醇四丙烯酸酯与三丙烯酸酯的混合物(nkestera-tmm-3lshin-nakamurachemicalco.,ltd.、三丙烯酸酯55%)、季戊四醇四丙烯酸酯与三丙烯酸酯的混合物(nkestera-tmm3shin-nakamurachemicalco.,ltd.、三丙烯酸酯57%)、季戊四醇环氧乙烷加成物的四丙烯酸酯(kayaradrp-1040nipponkayakuco.,ltd.)等。

[化学式2]

作为用于第1透明转印层的其他聚合性单体,优选为对于水或碳数1~3的低级醇与水的混合溶剂等水性溶剂具有溶解性的聚合性单体、具有酸基的单体。对于水性溶剂具有溶解性的聚合性单体,可举出具有羟基的单体、在分子内具有环氧乙烷或聚环氧丙烷及磷酸基的单体。作为具有酸基的单体,优选含有羧基的聚合性单体,能够更优选地使用(甲基)丙烯酸或其衍生物等的丙烯酸单体,其中,尤其优选为aronixto-2349(toagoseico.,ltd.)。

-聚合引发剂-

第1透明转印层能够包含聚合引发剂。

作为用于第1透明转印层的聚合引发剂,优选对于水性溶剂具有溶解性的聚合引发剂。作为对于水性溶剂具有溶解性的聚合引发剂,可举出irgacure2959、下述结构式2的光聚合引发剂等。

[化学式3]

以上,以转印材料为负型材料的情况为中心进行了说明,但转印材料也可以是正型材料。在转印材料为正型材料的情况下,前述的第1透明转印层中使用例如日本特开2005-221726号公报中记载的材料等,但并不限于这些材料。

用于形成第1透明转印层的第1透明转印层形成用涂布液能够包含溶剂。

作为溶剂,例如可举出二丙酮醇(3.2mpa·s)、乙二醇(32.5mpa·s)、丙二醇(56mpa·s)、异丁醇(4.2mpa·s)等。

转印材料除了具有前述的透明导电层以外,在不损害本发明的效果的范围内还可以具有热塑性树脂层、中间层、保护薄膜等其他任意的层。

<触摸传感器的制造方法>

关于前述的本发明的触摸传感器,只要是能够制作成上述结构的方法,则能够选择任意的方法来进行制造,优选通过以下所示的本发明的触摸传感器的制造方法,即依次包括如下工序的方法来制造,所述工序为:通过转印材料的转印层的转印,在带有电极图案的基材上形成折射率为1.6以上并且厚度为200nm以下的第1透明层的工序(第1透明层形成工序);及通过转印材料的转印层的转印,在带有电极图案的基材上形成折射率小于1.6并且厚度为0.5μm以上的第2透明层的工序(第2透明层形成工序)。

关于转印材料的详细内容,如前述。

本发明的触摸传感器的制造方法中,优选还包括在第1透明层形成工序及第2透明层形成工序中形成的第1透明层及第2透明层中形成通孔的工序。关于通孔的形成,在由感光性材料形成第1透明转印层及第2透明转印层的情况下,能够通过将由感光性材料形成的感光性层曝光成图案状并进行显影而进行。并且,在第1透明转印层及第2透明转印层不具有感光性的情况下,在形成第1透明转印层及第2透明转印层之后,能够利用所谓的使用了抗蚀剂的蚀刻法形成通孔。

并且,本发明的触摸传感器的制造方法可以包括在第1透明层形成工序及第2透明层形成工序中所形成的第1透明层及第2透明层上进一步形成外涂层的工序。

转印能够利用使用转印材料并将转印材料中的透明转印层转印到基材上的转印法进行。转印材料可以以薄膜或片材中的任一种形态来使用。具体而言,例如将转印薄膜以其透明转印层的表面与基材接触的方式层叠于基材上之后,剥离转印薄膜的临时支撑体,由此能够在基材上转印形成透明转印层。

将层形成用材料曝光成图案状的方法,并无特别限制,可以通过利用了光掩模的面曝光进行,也可以通过利用激光束等的扫描曝光进行。并且,也可以通过使用了透镜的折射式曝光进行,也可以通过使用了反射镜的反射式曝光教学。并且,还可以利用接触式曝光、接近式曝光、缩小投影曝光、反射投影曝光等曝光方式进行。

关于光源,优选为g射线、h射线、i射线、j射线等紫外线。作为光源种类,例如可举出金属卤素灯、高压汞灯及发光二极管(led)。

并且,曝光后的显影中通常使用碱显影液。

实施例

以下,基于实施例对本发明进行进一步具体的说明,但本发明只要不脱离其宗旨,则并不限定于以下的实施例。

另外,聚合物中的组成比在无特别说明的情况下为摩尔比。并且,以下的实施例中,作为转印材料的一例示出制作转印薄膜的情况。

并且,以下的实施例中,关于树脂的重均分子量的测定,在下述的条件下基于凝胶渗透色谱(gpc)而进行。校准曲线根据tosohcorporation制“标准试样tskstandard,polystyrene”:“f-40”、“f-20”、“f-4”、“f-1”、“a-5000”、“a-2500”、“a-1000”、“正丙苯”这8个样品而制作。

<条件>

gpc:hlc(注册商标)-8020gpc(tosohcorporation制)

管柱:tskgel(注册商标)、supermultiporehz-h(tosohcorporation、4.6mmid×15cm)3根

洗脱液:thf(四氢呋喃)

试样浓度:0.45质量%

流速:0.35ml/min

样品注入量:10μl

测定温度:40℃

检测器:差示折射计(ri)

<第2透明转印层形成用涂布液的制备>

通过成为以下的表1中所示的组成的成分及含量,制备出作为第2透明转印层形成用涂布液的材料a-1~a-4。

[表1]

[化学式4]

化合物a:mw=29000、mn=137000

化合物b:mw=15000、mn=7100

<第1透明转印层形成用涂布液的制备>

接着,通过下述表2中记载的组成,制备出作为第1透明转印层形成用涂布液的材料b-1~b-5。

[表2]

[化学式5]

化合物c:

化合物d:

[实施例1~2]

<转印薄膜1的制作>

使用狭缝状喷嘴将涂布量调整为干燥后的膜厚成为5.0μm的量,并将第2透明转印层形成用材料a-1或a-2中的任一种涂布到厚度为16μm的作为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜的临时支撑体上。接着,在80℃的干燥区域使溶剂挥发,形成了第2透明转印层。利用下述表4的组合,使用第1透明转印层形成用材料b-1或b-2中的任一种,并将涂布量调整为干燥后的膜厚成为约80nm的膜厚的量,使用狭缝状喷嘴涂布到第2透明转印层形成用材料的干燥后的膜(第2透明转印层)上之后,在70℃的干燥温度下使其干燥,形成了第1透明转印层。另外,如下述表4所示,在实施例1中使用了材料a-1及材料b-1,在实施例2中使用了材料a-2及材料b-2。

接着,在第1透明转印层的表面压接厚度为16μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯作为保护薄膜,制作出转印薄膜1。

<透明电极图案薄膜的制作>

(透明膜的形成)

使用高频振荡器,在输出电压为100%、功率为250w、直径为1.2mm的丝电极、电极长度为240mm、工作电极之间为1.5mm的条件下,对膜厚为38μm及折射率为1.53的环烯烃树脂薄膜进行3秒钟的电晕放电处理,实施表面改性,制成了透明薄膜基板。

接着,使用狭缝状喷嘴,将下述表3中所示的材料-c的材料喷涂到透明薄膜基板的电晕放电处理面,照射了紫外线(累计光量300mj/cm2)。接着,在约110℃下进行干燥,由此形成了折射率为1.60及膜厚为80nm的透明膜。

[表3]

[化学式6]

<透明电极图案的形成>

将在透明薄膜基板上形成有透明膜的薄膜导入至真空室内,使用sno2含有率为10质量%的ito靶材(铟:锡=95:5(摩尔比)),通过直流(dc)磁控溅射(条件:透明薄膜基板的温度为150℃、氩气压力为0.13pa、氧气压力为0.01pa)形成厚度为40nm及折射率为1.82的ito薄膜作为透明电极层,得到了在透明薄膜基板上层叠有透明膜及透明电极层的薄膜。ito薄膜的表面电阻为80ω/□(ω每平方)。

接着,通过公知的化学蚀刻法对ito薄膜进行蚀刻,并进行图案化,得到了在透明薄膜基板上具有透明膜及透明电极图案的带有电极的薄膜。

在此,透明电极图案具有沿彼此交叉的方向分别延伸的第1电极图案及第2电极图案,如图1及图2所示,第1电极图案具有在透明薄膜基板24上沿第1方向p隔开间隔而形成的多个第1岛状电极部12及电连接相邻的第1岛状电极部12的第1布线部16,第2电极图案具有在基板上沿与第1方向p交叉的第2方向q隔开间隔而形成的多个第2岛状电极部14。

<透明层叠体的制作>

将在上述中制作的转印薄膜1的保护薄膜进行剥离,并将转印薄膜1的剥离面与带有电极的薄膜的透明膜及透明电极图案的形成面接触,在以下条件下,将转印薄膜1层叠于带有电极的薄膜上,得到了层叠体。

<条件>

透明薄膜基板24的温度:40℃

橡胶辊的温度:110℃

线压:3n/cm

输送速度:2m/分

接着,将曝光掩模(通孔形成用掩模)的表面与临时支撑体的表面之间的距离设定为125μm,使用具有超高压汞灯的接近型曝光机(hitachihigh-techelectronicengineeringco.,ltd.),经由临时支撑体对层叠体将i射线以曝光量100mj/cm2曝光成图案状。

之后,从层叠体剥离临时支撑体,使用温度为32℃的碳酸钠2质量%水溶液对剥离面(第2透明转印层的表面)进行了60秒钟的清洗处理。清洗处理之后,从超高压清洗喷嘴进一步对透明薄膜基板上的第2透明转印层的表面喷射超纯水,由此去除了残渣。接着,对第2透明转印层的表面喷吹空气来去除水分,并在温度145℃下实施了30分钟之后烘烤处理。

此时,如图1及图2所示,在位于透明薄膜基板24上的透明电极图案中的第2岛状电极部14上的第1透明层28及第2透明层30形成有通孔20,所述通孔20用于连接第2岛状电极部14和桥接布线(第2布线部)18,所述桥接布线(第2布线部)18用于桥接相互相邻的两个第2岛状电极部14之间,并电连接第2岛状电极部14彼此。

以如上方式,制作出在透明薄膜基板上从透明薄膜基板侧依次层叠有透明膜、透明电极图案、第1透明层及第2透明层的透明层叠体。

在此,第1透明层为转印薄膜1的第1透明转印层的固化层,第2透明层为转印薄膜1的第2透明转印层的固化层。

<桥接布线(第2布线部)的形成>

接着,利用直流磁控溅射,在透明层叠体的整个表面形成了厚度为30nm的金(au)膜。然后,基于公知的方法,去除除了欲形成连接相邻的第2岛状电极部14之间的桥接布线18的部分之外的区域的au膜,由此如图1及图2所示,在以桥接第1透明层28及第2透明层30的上面的方式连接相邻的两个第2岛状电极部14的位置配设了桥接布线(第2布线部)18。

<外涂层的形成>

接着,使用狭缝状喷嘴,将涂布量调整为干燥后的膜厚成为10.0μm的涂布量,并将前述的材料a-1涂布到厚度为16μm的作为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜的临时支撑体上,在温度80℃下使其干燥,形成了外涂层。在所形成的外涂层的表面压接保护薄膜(厚度为12μm的聚丙烯薄膜),制作出外涂层用转印薄膜。

使用剥离了保护薄膜的外涂层用转印薄膜,在以下条件下,将外涂层用转印薄膜层叠于形成完桥接布线(第2布线部)的上述透明层叠体上,并转印外涂层,如图2所示,得到了带有外涂层的透明层叠体。

<条件>

透明薄膜基板24的温度:40℃

橡胶辊的温度:110℃

线压:3n/cm

输送速度:2m/分

接着,将曝光掩模(具有外涂用图案的石英曝光掩模)的表面与临时支撑体的表面之间的距离设定为125μm,使用具有超高压汞灯的接近型曝光机(hitachihigh-techelectronicengineeringco.,ltd.),经由临时支撑体对带有外涂层的透明层叠体将i射线以曝光量100mj/cm2曝光成图案状。

接着,从带有外涂层的透明层叠体剥离临时支撑体,使用温度为32℃的碳酸钠2质量%水溶液对剥离面(外涂层的表面)进行了60秒钟的清洗处理。从超高压清洗喷嘴对清洗处理后的带有外涂层的透明层叠体的外涂层的表面喷射超纯水,由此去除了残渣。接着,对外涂层的表面喷吹空气来去除外涂层上的水分,并在温度145℃下进行了30分钟之后烘烤处理。

如图1及图2所示,以如上方式,制作出在透明薄膜基板24上依次具有透明膜26、透明电极图案(包含第1岛状电极部、第1布线部16、第2岛状电极部及桥接布线18)、第1透明层28、第2透明层30及外涂层32的透明层叠体100。

[实施例3]

以如下方式,制作出与上述不同的转印薄膜2。

使用狭缝状喷嘴,将涂布量调整为干燥后的膜厚成为约80nm的量,并将第3透明转印层形成用材料b-3涂布到厚度为16μm的作为聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜的临时支撑体上。接着,在80℃的干燥区域使溶剂挥发,形成了第3透明转印层。接着,在第3透明转印层额表面压接厚度为16μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯作为保护薄膜,制成了转印薄膜2。

以第3透明转印层与第2透明层接触的方式,将转印薄膜2层叠于在实施例1中的“透明层叠体的制作”中实施后烘烤处理之后的第2透明层上,将第3透明转印层转印到第2透明层上。关于层叠,通过与层叠上述转印薄膜1时相同的条件进行。

接着,对经转印的第3透明转印层基于公知的蚀刻法形成通孔,在第2透明层上形成了第3透明层。另外,第3透明层为转印薄膜2的第3透明转印层的固化层。

接着,与实施例1相同的方式进行“桥接布线的形成”及“外涂层的形成”,制作出透明层叠体。

另外,所制作的透明层叠体中,在透明薄膜基板上依次具有透明膜、透明电极图案(包含第1岛状电极部、第1布线部、第2岛状电极部及桥接布线)、第1透明层、第2透明层、第3透明层(未图示)及外涂层。

[实施例4~17]

实施例3中,按照表4的组合,调整了第1透明层、第2透明层及第3透明层的材料及膜厚,除此以外,以与实施例3相同的方式制作出转印薄膜及透明层叠体。

[比较例1]

实施例1中,未形成第1透明层,除此以外,以与实施例1相同的方式制作出转印薄膜及透明层叠体。

<评价>

-透明电极图案的隐藏性-

使用透明粘接胶带(商品名:oca胶带8171cl、3mjapanlimited制)对在透明薄膜基板上依次层叠有透明膜、透明电极图案、第1透明层、第2透明层及外涂层的透明层叠体的透明薄膜基板粘贴黑色的聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)材料,将整个基板进行了遮光。

在暗室内,从与粘接有黑色的pet材料的一侧相反的一侧的外涂层上,对透明层叠体照射荧光灯的光,从侧面肉眼观察来自外涂层的反射光,按照下述评价基准对透明电极图案的外观进行了评价。评价基准中,a,b及c为实际使用上的允许范围,优选为a或b,更优选为a。

<评价基准>

a:即使从距离层叠体15cm的位置凝视,也看不到电极图案,从距离层叠体40cm的位置进行一般的肉眼观察时,也看不到电极图案。

b:若从距离层叠体15cm的位置凝视,则略微看到电极图案,从距离层叠体40cm的位置进行一般的肉眼观察时,看不到电极图案。

c:若从距离层叠体15cm的位置凝视时,则略微看到电极图案,从距离层叠体40cm的位置进行一般的肉眼观察时,也略微看到电极图案。

d:若从距离层叠体15cm的位置凝视,则清楚地看到电极图案,从距离层叠体40cm的位置进行一般的肉眼观察时,略微看到电极图案。

e:若从距离层叠体15cm的位置凝视,清楚地看到电极图案,从距离层叠体40cm的位置进行一般的肉眼观察时,也清楚地看到电极图案。

[表4]

<图像显示装置(触摸面板)的制作>

对利用日本特开2009-047936号公报的0097~0119段中记载的方法制造的液晶显示元件,贴合在透明薄膜基板上依次具有透明膜、透明电极图案、第1透明层、第2透明层及外涂层的本发明的透明层叠体,并进一步贴合前玻璃板,由此基于公知的方法制作出具备静电电容型输入装置作为构成要件的图像显示装置。

<评价>

-静电电容型输入装置及图像显示装置的评价-

在具备透明层叠体的静电电容型输入装置及图像显示装置中,未视觉辨认出透明电极图案。并且,透明层叠体中也没有气泡等缺陷,图像显示装置的显示特性优异。

符号说明

12-第1岛状电极部,14-第2岛状电极部,16-第1布线部,18-第2布线部(桥接布线),20-通孔,24-透明基板(透明薄膜基板),26-透明层,28-第1透明层,30-第2透明层,32-外涂层,34-第1电极图案,36-第2电极图案,100-透明层叠体,p-第1电极图案的延伸方向,q-第2电极图案的延伸方向。

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