装置的制作流程；
[0033]图11与图12是第二实施例的触控装置的部分制作过程示意图。
【具体实施方式】
[0034]有关本发明之前述及其他技术内容、特点与功效，在以下配合参考图式之两个实施例的详细说明中，将可清楚的呈现。
[0035]在此，值得注意的是，本发明实施例的详细说明中所称的方位「上」及「下」，仅是用来表示相对的位置关系，对于本说明书的图1、图9等侧视示意图而言，上方系较接近使用者，而下方则较远离使用者，但此等关于方位的叙述内容不应用于限制本发明的实施方式。
[0036]此外，在本发明被详细描述之前，应当注意在以下的说明内容中，类似的元件是以相同的编号来表不。
[0037]第一实施例:
[0038]参阅图1，为本发明触控装置100的第一实施例。此处，触控装置100系应用于液晶显不技术，其包含一承载结构1、一感测层2、一保护层3、一第一偏光层4、一盖板5、一外框6及一液晶模组8。
[0039]承载结构I藉由未图示的粘着层与液晶模组8贴合，其包括相互叠置的一薄膜层11及一缓冲层12。
[0040]薄膜层11位于液晶模组8与缓冲层12之间，于触控装置100的制作过程中，为提供缓冲层12、感测层2、保护层3及第一偏光层4制作其上的结构，此部分技术将于后续段落说明。本实施例中，薄膜层11是采用聚酰亚胺(PD、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚氯乙烯(PVC)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚四氟乙烯、环烯烃共聚物(C0P、Arton)等材质制作，其结构可以是单层或多层，且较佳采用聚酰亚胺(PI)，厚度范围介于0.1微米至15微米之间，远薄于一般的玻璃基板或挠性基板，因此能实现触控装置100的轻薄化。
[0041]缓冲层12设置于薄膜层11，并介于薄膜层11与感测层2之间，其为藉由无机材质和有机材质制作的单层或多层膜结构，且较佳的厚度范围介于I奈米至300奈米之间，整体厚度远小于薄膜层11。关于制作缓冲层12的无机材质，可选用氧化钛(T12)、氧化硅(S12)、氧化锆(ZrO2)、氧化钽(Ta2O5)、氧化钨(WO3)、氧化钇(Y2O3)、氧化铺(CeO2)、氧化锑(Sb2O3)、氧化铌(Nb2O5)、氧化硼(B2O3)、氧化招(Al2O3)、氧化锌(ZnO)、氧化铟(In2O3)、氟化铈(CeF3)、氟化镁(MgF2)、氟化钙(CaF2)等材料。至于有机材质部分，则可选用丙烯酸树脂、聚酰亚胺(PD、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚氯乙烯(PVC)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等高分子聚合物或树脂。而在不同的实施态样中，缓冲层12也可以同时藉由无机材质与有机材质制作。
[0042]在结构特性部分，缓冲层12可根据上述材质的选用，由其热膨胀系数及机械性能之特性，提供多样化的功效。在热膨胀系数部分，本实施例中是将缓冲层12的热膨胀系数配置为介于薄膜层11与感测层2之间，因此能在温度改变时，有效减缓各层结构之间的结构应力，而增进触控装置100的耐用程度。而在机械性能部分，本实施例中缓冲层12的硬度系大于薄膜层11，因此承载结构I是藉由硬度较低但延展性较佳的薄膜层11配合硬度较高的缓冲层12形成，有助于在触控装置100的制作过程中进行基材的离型制程，并增进承载结构I的整体结构强度。然而，在不同的实施态样中，承载结构I也可以省略缓冲层12的设置，也就是说此时承载结构I仅包括薄膜层11的部分，而感测层形成于承载结构I的薄膜层11上。
[0043]感测层2设置于承载结构1，并与薄膜层11位于缓冲层12的两相反侧，其包含多条未图示的触控感应电极，可提供触控感应功能。本实施例中，感测层2内含的触控感应电极可藉由氧化铟锡(ITO)、氧化铝锌(AZO)、氧化锌(ZnO)、氧化锡锑(ATO)、二氧化锡(SnO2)、氧化铟(In2O3)等透明导电材料或是奈米银、奈米铜、奈米碳管、金属网格等导电材料制作，可在使用者触碰盖板5时，由该处的电容值变化产生对应的触控讯号。
[0044]保护层3设置于感测层2上，并与承载结构I分别位于感测层2的两相反侧，可减少制造过程中，外界环境的空气、水汽或其它有害物质对感测层2的不良影响，以提供保护之效果。具体来说，本实施例中保护层3为藉由氧化钛(T12)、二氧化硅(S12)、二氧化锆(ZrO2)、有机材料制作的单层或多层结构，当感测层2为多层结构时，还可藉由适当的折射率、厚度的配置，而提供减缓感测层2之有电极区域和无电极区域对光线反射不同造成电极图形可见问题的功效。然而，在不同的实施态样中，触控装置100也可以省略保护层3的设置，而不以此处揭露的内容为限。
[0045]第一偏光层4具偏光性，其设置于保护层3上，并与感测层2分别位于保护层3的两相反侧，其用作为触控装置100的上偏光层(upper polarizer)，并可藉由其偏光特性，减缓感测层2的电极图形可见问题。
[0046]盖板5设置于第一偏光层4上，藉由贴合层51与第一偏光层4相互贴合，其与保护层3分别位于第一偏光层4的两相反侧，并为触控装置100的表层结构。本实施例中，盖板5可采用硬质或挠性材料制作。例如，盖板5具体可采用玻璃、蓝宝石玻璃、聚酰亚胺(PI)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚氯乙烯(PVC)、聚碳酸酯(PC)、聚乙烯(PE)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚四氟乙烯(PTFE)等材质制作，并可进一步藉由强化处理增强其各表面的结构强度。此外，盖板5的上表面即供使用者触控的表面，可以配置为如图1的平整表面或者视需要而调整为具有高低起伏的弧形表面，或者触控装置100亦可省略盖板5的设置，直接以第一偏光层4作为触控装置100的表层结构，而不以特定实施型态为限。
[0047]外框6可采用金属、塑胶等材质制作，并围绕于承载结构1、感测层2、保护层3、第一偏光层4、盖板5及液晶模组8的外缘，以提供组装、保护、装饰等功能，并兼具遮蔽触控装置100周边线路的作用，从而省略在盖板5上额外设置遮蔽层。
[0048]液晶模组8包括一内含液晶分子的主体81及一第二偏光层82。主体81内含未图示的液晶层、彩色滤光层、薄膜电晶体层、配向层等结构，为控制触控装置100之显示画面的主要构件。第二偏光层82的偏光性垂直于第一偏光层4，且与承载结构I分别位于主体81的两相反侧，为触控装置100的下偏光层(lower polarizer)结构。
[0049]参阅图2的流程图及图3?图8的制程示意图，以下说明本实施例的触控装置100的制造方法。
[0050]步骤SOl:首先，本步骤需预先制备一第一偏光层4、一盖板5、一外框6、一置换基材71及一液晶模组8。
[0051]由于本实施例的制造方法，是藉由基材离型技术执行，因此在上