专利名称：压敏粘合剂片材,多层结构化制品和多层光记录介质的制作方法
技术领域：
本发明的背景1.本发明的领域本发明涉及一种压敏粘合剂片材，具有该片材的用于光记录介质的多层结构化制品和具有该制品的多层光记录介质。更尤其是，本发明涉及一种包括光记录层的压敏粘合剂片材，使得可容易地制成特别精确地表现出各层和整个层压品的厚度的多层光记录介质而无需限制材料和可制成具有大面积的多层光记录介质；通过使用该压敏粘合剂片材形成的用于光记录介质的多层结构化制品；和包含该多层结构化制品和特别精确地表现出各层和整个层压品的厚度的多层光记录介质。本发明还涉及具有以上特性和抑制形成压印的多层光记录介质。
2.相关技术的描述最近，光记录介质因为可记录大量数据而受到关注并用于许多场合。为了进一步增加记录密度，提出了一种三维记录数据的方法(以下称作多层光记录方法)。例如，Y.Kawata等人提出了一项技术，其中多层光记录方法使用包含光可聚合光反应性组分的光聚合物材料进行(例如，Appl.Opt.，35(1996)2466)。
但用于上述多层光记录方法的多层光记录介质迄今问题在于在多层记录和重放过程中数据在层之间发生串音。可以认为，光记录层之间距离的增加对于克服串音问题是有效的。但此时的问题在于不可避免地降低记录密度，另外，光记录层的数目难免受到限制，因为用于读取和写入记录数据所需的一部分光在到达所需层之前被吸收。
为了减少串音，例如，提出了具有两个或多个记录层的光记录介质，其中非记录层位于记录层之间的某些或所有的部分，且光所携带的信息不通过光写入组成该层的材料中(例如，日本专利申请延迟公开No.Heisei 11(1999)250496)；和大分子层压品，其中具有光记录能力的大分子层和大分子间隔层被交替层压(例如，日本专利申请延迟公开No.2000-67464)。
具有层压品结构的以上介质一般按照旋涂工艺通过形成和层压这些层而制成。但在旋涂工艺中，所形成的层必然受溶剂的不利影响，因此较大地限制了对光敏材料，基质材料和位于这些层之间的非记录层所用材料的选择。
按照旋涂工艺生产光记录介质的另一问题在于，难以生产具有大面积的介质，生产率低，和各层和整个层压品的厚度精确度差。
为了克服以上问题，本发明人开发出一项使用压敏粘合剂片材得到多层光记录介质的方法，所述片材通过层压包含光敏材料的光记录层和压敏粘合剂层而得到(日本专利申请No.2003-430390)。
本发明的综述在以上情况下，本发明的第一目的是提供一种具有光记录层的压敏粘合剂片材，这样可容易地生产出特别精确地表现出各层和整个层压品的厚度的多层光记录介质而无需限制材料和可生产出具有大面积的多层光记录介质；通过使用该压敏粘合剂片材而形成的用于光记录介质的多层结构化制品；和包含多层结构化制品和特别精确地表现出各层和整个层压品的厚度的多层光记录介质。本发明的第二目的是提供一种具有以上特性和即使当向一部分介质施加大的压力时，例如，当光记录介质被夹子固定时抑制由于压敏粘合剂在压力下变形而形成压印的多层光记录介质。
本发明人为实现以上目的进行深入研究，结果发现，第一目的可通过一种由光记录层和压敏粘合剂层层压得到的压敏粘合剂片材而实现，和第二目的可通过使用能量硬化型压敏粘合剂层作为前述压敏粘合剂层而实现。本发明已在该认识的基础上完成。
本发明提供(1)一种压敏粘合剂片材，包括包含光敏材料的光记录层和压敏粘合剂层的层压品；
(2)根据(1)的压敏粘合剂片材，它在光记录层和压敏粘合剂层的每个外面上包括释放膜；(3)根据任何一项(1)和(2)的压敏粘合剂片材，其中压敏粘合剂层包含丙烯酸压敏粘合剂；(4)一种通过使用在任何一项(1)，(2)和(3)中所述的压敏粘合剂片材而形成的用于光记录介质的多层结构化制品，其中光记录层和压敏粘合剂层被交替层压；(5)根据(1)的用于光记录介质的压敏粘合剂片材，其中压敏粘合剂层包括能量硬化型压敏粘合剂层；(6)根据(5)的用于光记录介质的压敏粘合剂片材，它在光记录层和压敏粘合剂层的每个外面上包括释放膜；(7)根据任何一项(5)和(6)的用于光记录介质的压敏粘合剂片材，其中能量硬化型压敏粘合剂层是热硬化型或能量束硬化型压敏粘合剂层；(8)使用在任何一项(5)，(6)和(7)中所述的压敏粘合剂片材形成的用于光记录介质的多层结构化制品，其中光记录层和通过施加能量而硬化的压敏粘合剂层被交替层压；和(9)一种多层光记录介质，包括在任何一项(4)和(8)中所述的多层结构化制品。
附图的简要描述
图1给出了断面图，说明本发明压敏粘合剂片材的结构的一个实施方案。
图2给出了断面图，说明本发明用于光记录介质的多层结构化制品的结构的一个实施方案。
图3给出了断面图，说明本发明用于光记录介质的多层结构化制品的结构的另一实施方案。
附图中的数字和符号具有以下列出的含义
优选实施方案的描述本发明压敏粘合剂片材是一种压敏粘合剂片材，包括包含光敏材料的光记录层和压敏粘合剂层的层压品，特征在于该压敏粘合剂层包括压敏粘合剂层或能量硬化型压敏粘合剂层，和有利地在制备下述用于光记录介质的多层结构化制品时用作材料。
压敏粘合剂片材的结构并不特别限定，只要该片材具有其中光记录层和上述压敏粘合剂层被层压的结构。如果该片材用作用于光记录介质的多层结构化制品的材料，考虑到光记录层和压敏粘合剂层的厚度精确度和使用容易性，优选的是，单个光记录层和单个压敏粘合剂层被层压，和释放膜被层压至光记录层和压敏粘合剂层的每个外面上。压敏粘合剂层可以是压敏粘合剂层或能量硬化型压敏粘合剂层。如果压敏粘合剂层是能量硬化型压敏粘合剂层，可得到抑制形成压印的多层结构化制品。
图1给出了断面图，说明本发明压敏粘合剂片材的结构的一个实施方案。在压敏粘合剂片材10中，光记录层1和压敏粘合剂层2被层压，和释放膜I3和释放膜II4被分别层压至光记录层1和压敏粘合剂层2的外面。
本发明压敏粘合剂片材中的形成光记录层的材料并不特别限定，只要该材料包含光敏材料(光反应性组分)，且可合适地根据需要从构成光记录介质中的光记录层的常规材料中选择材料。上述材料的例子包括单独使用的以上光敏材料和通过将光敏材料浸渍到构成基质的材料中而得到的材料。
构成基质的材料可以是无机材料或有机材料。考虑到生产压敏粘合剂片材的容易性和选择材料时的种类数，有机大分子材料是优选的。大分子材料可以是均聚物或共聚物，且单体种类，分子量和聚合反应形式不特别限定。
大分子材料的例子包括聚烯烃如各种聚乙烯，乙烯/1-丁烯共聚物，乙烯/4-甲基1-戊烯共聚物，乙烯/1-己烯共聚物，聚丙烯，乙烯/丙烯共聚物，丙烯/1-丁烯共聚物，聚(1-丁烯)，1-丁烯/4-甲基1-戊烯共聚物，聚(4-甲基-1-戊烯)，聚(3-甲基-1-丁烯)，乙烯/环烯烃共聚物和环烯烃-基树脂；乙烯/乙酸乙烯酯共聚物；乙烯/丙烯酸共聚物和其金属盐，聚(甲基)丙烯酸酯如聚甲基丙烯酸甲酯和脂环族丙烯酸树脂；聚酯树脂如聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚萘二甲酸乙二醇酯氟树脂如聚全氟乙烯和全氟链烯基乙烯基醚聚合物；聚苯乙烯；聚乙烯醇；聚碳酸酯；聚苯硫醚；聚醚砜；聚酰亚胺聚亚苯基氧化物；烯烃/N-取代的马来酰亚胺共聚物；碳酸烯丙基酯树脂；环氧丙烯酸酯树脂；和氨基甲酸乙酯丙烯酸酯树脂。大分子材料可单独或两种或多种结合使用。
光敏材料可以作为主链或侧链的组分化学键接至以上基质上的形式使用或可通过简单地分散或溶解到以上基质中而使用。光敏材料并不特别限定。光敏材料的例子包括通过用光照射而异构化的材料如具有偶氮基团，C＝C基团和C＝N基团的化合物；通过用光照射而聚合的材料如(甲基)丙烯酸酯化合物；有机光致变色材料如螺吡喃，螺噁嗪，俘精酸酐，二芳基乙烯和二异吲哚基乙烯和包含光电导有机化合物的有机光折射材料如酞菁颜料，squalic酸颜料，偶氮颜料，苝颜料，噻喃鎓颜料，喹吖啶酮颜料，azulenium颜料，蒽醌颜料，富勒烯衍生物，咔唑衍生物，二卤代蒽烯二酮，表吲哚二酮，三卤代皮蒽二酮，四卤代硫靛，苯并噻唑衍生物，噁唑衍生物，腙衍生物，喹啉衍生物和芴酮衍生物。
在本发明压敏粘合剂片材中，以上光记录层的厚度并不特别限定。厚度一般是约0.1至50μm和优选0.5至10μm。
在其中压敏粘合剂层包括压敏粘合剂层的本发明压敏粘合剂片材中，在制备用于光记录介质的多层结构化制品时在层压温度下具有粘性和具有与光记录层的粘附性的材料用作构成压敏粘合剂层的压敏粘合剂。考虑到光学应用，丙烯酸压敏粘合剂是优选的压敏粘合剂。
作为丙烯酸压敏粘合剂，例如，可使用包含(甲基)丙烯酸酯的共聚物的粘合剂。可将交联剂加入压敏粘合剂中，这样增强粘合剂的内聚力以防粘合剂从层压品的外部剥离。
以上交联剂的例子包括聚异氰酸酯化合物，环氧树脂，蜜胺树脂，脲树脂，二醛，羟甲基聚合物，azilidine基化合物，金属螯合物化合物，金属醇化物和金属盐。在这些剂中，聚异氰酸酯化合物是优选的。
聚异氰酸酯化合物的例子包括芳族聚异氰酸酯如亚甲苯基二异氰酸酯，二苯基甲烷二异氰酸酯和亚二甲苯基二异氰酸酯；脂族聚异氰酸酯如六亚甲基二异氰酸酯；脂环聚异氰酸酯如异佛尔酮二异氰酸酯和氢化二苯基甲烷二异氰酸酯；缩二脲化合物以及以上异氰酸酯的异氰尿酸酯和以上异氰酸酯的加成物(是与具有活性氢的低分子量化合物如乙二醇，丙二醇，新戊二醇，三羟甲基丙烷和蓖麻油的反应产物)。交联剂可单独或两种或多种结合使用。
(甲基)丙烯酸酯-基共聚物的例子包括其中酯部分中的烷基基团具有1至20个碳原子的(甲基)丙烯酸酯，具有含活性氢的官能团的单体和根据需要使用的其它单体的共聚物。
其中酯部分中的烷基基团具有1至20个碳原子的(甲基)丙烯酸酯的例子包括(甲基)丙烯酸甲酯，(甲基)丙烯酸乙酯，(甲基)丙烯酸丙酯，甲基丙烯酸丁酯，(甲基)丙烯酸戊基酯，(甲基)丙烯酸己基酯，(甲基)丙烯酸环己酯，(甲基)丙烯酸2-乙基己酯，(甲基)丙烯酸异辛酯，(甲基)丙烯酸癸酯，(甲基)丙烯酸十二烷基酯，(甲基)丙烯酸肉豆寇基酯，(甲基)丙烯酸棕榈基酯和(甲基)丙烯酸硬脂基酯。(甲基)丙烯酸酯可单独或两种或多种结合使用。
具有含活性氢的官能团的单体的例子包括(甲基)丙烯酸的羟基烷基酯如甲基)丙烯酸2-(羟乙基酯，(甲基)丙烯酸2-羟丙基酯，(甲基)丙烯酸3-羟基丙基酯，(甲基)丙烯酸2-羟基丁基酯，(甲基)丙烯酸3-羟基丁酯和(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯；丙烯酰胺如丙烯酰胺，甲基丙烯酰胺，N-甲基丙烯酰胺，N-甲基甲基丙烯酰胺，N-羟甲基丙烯酰胺和N-羟甲基甲基丙烯酰胺；(甲基)丙烯酸单烷基氨基烷基酯如(甲基)丙烯酸单甲基氨基乙基酯，(甲基)丙烯酸单乙基氨基乙基酯，(甲基)丙烯酸单甲基氨基丙基酯和(甲基)丙烯酸单乙基氨基丙酯；和烯属不饱和羧酸如丙烯酸，甲基丙烯酸，巴豆酸，马来酸，衣康酸和柠康酸。以上单体可单独或两种或多种结合使用。
根据需要使用的其它单体的例子包括乙烯基酯如乙酸乙烯酯和丙酸乙烯酯；烯烃如乙烯，丙烯和异丁烯；卤化烯烃如氯乙烯和偏二氯乙烯；苯乙烯-基单体如苯乙烯和α-甲基苯乙烯；二烯基单体如丁二烯，异戊二烯和氯丁二烯腈基单体如丙烯腈和甲基丙烯腈；和N，N-二烷基取代的丙烯酰胺如N，N-二甲基丙烯酰胺和N，N-二甲基甲基丙烯酰胺。其它单体可单独或两种或多种结合使用。
在丙烯酸压敏粘合剂中用作树脂组分的(甲基)丙烯酸酯-基共聚物的共聚形式并不特别限定和可以是任何的无规共聚物，嵌段共聚物和接枝共聚物。优选的是，重均分子量是500,000至2,000,000。
以上重均分子量是按照凝胶渗透色谱(GPC)得到的值和表示为相应的聚苯乙烯的值。
在本发明中，可使用单个种类的或两种或多种(甲基)丙烯酸酯-基共聚物的组合。
可向本发明压敏粘合剂中加入增粘剂，抗氧化剂，紫外光吸收剂，光稳定化剂，软化剂和填料，只要本发明的目的不受不利影响。
在本发明中，以上压敏粘合剂的厚度并不特别限定。厚度一般是约1至100μm和优选2至50μm。
在本发明压敏粘合剂片材中，如果压敏粘合剂层包含能量硬化型层，那么构成压敏粘合剂层的压敏粘合剂是能量硬化型压敏粘合剂。该压敏粘合剂在制备用于光记录介质的多层结构化制品时在层压温度下具有粘性，与光记录层粘附，和通过施加能量而硬化以增加在制备用于光记录介质的多层结构化制品之后的硬度，这样表现出抑制在多层光记录介质上形成压印的功能。
能量硬化型压敏粘合剂并不特别限定，只要该粘合剂具有以上功能和可用于光学场合，和可合适地选自常规能量硬化型压敏粘合剂。
作为能量硬化型压敏粘合剂，例如，可使用热硬化型或能量束硬化型压敏粘合剂。能量硬化型压敏粘合剂包括丙烯酸压敏粘合剂，硅氧烷-基压敏粘合剂和橡胶-基压敏粘合剂。在本发明中，能量硬化型丙烯酸压敏粘合剂在光学用途方面是优选的。
丙烯酸能量硬化型压敏粘合剂的例子包括(1)包含压敏粘合剂丙烯酸聚合物，能量硬化型可聚合低聚物和/或可聚合单体和根据需要使用的聚合反应引发剂的压敏粘合剂和(2)包含其中具有可聚合双键的能量硬化型官能团被引入侧链的压敏粘合剂丙烯酸聚合物和根据需要使用的聚合反应引发剂的压敏粘合剂。
在以上(1)所述的压敏粘合剂中，压敏粘合剂丙烯酸聚合物的例子包括其中酯部分中的烷基基团具有1至20个碳原子的(甲基)丙烯酸酯和，如果需要，具有含活性氢原子的官能团的单体和其它单体的共聚物。
其中酯部分中的烷基基团具有1至20个碳原子的(甲基)丙烯酸酯的例子包括(甲基)丙烯酸甲酯，(甲基)丙烯酸乙酯，(甲基)丙烯酸丙酯，甲基丙烯酸丁酯，(甲基)丙烯酸戊基酯，(甲基)丙烯酸己酯，(甲基)丙烯酸环己基酯，(甲基)丙烯酸2-乙基己基酯，(甲基)丙烯酸异辛酯，(甲基)丙烯酸癸酯，(甲基)丙烯酸十二烷基酯，(甲基)丙烯酸肉豆寇基酯，(甲基)丙烯酸棕榈基酯和(甲基)丙烯酸硬脂基酯。(甲基)丙烯酸酯可单独或两种或多种结合使用。
根据需要使用的具有含活性氢的官能团的单体的例子包括(甲基)丙烯酸的羟基烷基酯如(甲基)丙烯酸2-羟基乙基酯，(甲基)丙烯酸2-羟丙基酯，(甲基)丙烯酸3-羟丙基酯，(甲基)丙烯酸2-羟基丁酯，(甲基)丙烯酸3-羟基丁酯和(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯；(甲基)丙烯酸单烷基氨基烷基酯如(甲基)丙烯酸单甲基氨基乙基酯，(甲基)丙烯酸单乙基氨基乙基酯，(甲基)丙烯酸单甲基氨基丙酯和(甲基)丙烯酸单乙基氨基丙酯；和烯属不饱和羧酸如丙烯酸，甲基丙烯酸，巴豆酸，马来酸，衣康酸和柠康酸。以上单体可单独或两种或多种结合使用。
根据需要使用的其它单体的例子包括乙烯基酯如乙酸乙烯酯和丙酸乙烯酯烯烃如乙烯，丙烯和异丁烯；卤化烯烃如氯乙烯和偏二氯乙烯；苯乙烯基单体如苯乙烯和-甲基苯乙烯；二烯-基单体如丁二烯，异戊二烯和氯丁二烯腈基单体如丙烯腈和甲基丙烯腈和丙烯酰胺如丙烯酰胺，N-甲基丙烯酰胺和N，N-二甲基丙烯酰胺。其它单体可单独或两种或多种结合使用。
在上述压敏粘合剂中用作压敏粘合剂丙烯酸聚合物的(甲基)丙烯酸酯-基共聚物的共聚形式并不特别限定且可以是任何的无规共聚物，嵌段共聚物和接枝共聚物。优选的是，重均分子量是300,000或更高。
以上重均分子量是按照凝胶渗透色谱(GPC)得到的值和表示为相应的聚苯乙烯的值。
在本发明中，可使用单个种类的或两种或多种(甲基)丙烯酸酯-基共聚物的组合。
能量硬化型可聚合低聚物的例子包括聚酯丙烯酸酯-基低聚物，环氧丙烯酸酯-基低聚物，氨基甲酸乙酯丙烯酸酯基低聚物，聚醚丙烯酸酯-基低聚物，聚丁二烯丙烯酸酯-基低聚物和硅氧烷丙烯酸酯基低聚物。聚酯丙烯酸酯-基低聚物可例如通过如下方式得到通过多官能羧酸与多元醇缩合而得到在两端具有羟基基团的聚酯低聚物，随后用(甲基)丙烯酸酯化所得低聚物中的羟基基团；或通过将氧化烯加成到多官能羧酸上而得到在两端具有羟基基团的低聚物，随后用(甲基)丙烯酸酯化所得低聚物的羟基基团。环氧丙烯酸酯基预聚物可例如通过与(甲基)丙烯酸反应以酯化具有相对低分子量的双酚型或线性酚醛清漆型环氧树脂中的环氧乙烷环而得到。也可使用通过用二元羧酸酸酐部分改性以上环氧丙烯酸酯低聚物而得到的被羧基基团改性的环氧丙烯酸酯低聚物。氨基甲酸乙酯丙烯酸酯基预聚物可例如，通过聚醚多元醇或聚酯多元醇与聚异氰酸酯反应得到聚氨酯低聚物，随后用(甲基)丙烯酸酯化所得聚氨酯低聚物而得到。多元醇丙烯酸酯-基预聚物可例如，通过用(甲基)丙烯酸酯化聚醚多元醇中的羟基基团而得到。
优选的是，以上可聚合低聚物的重均分子量选自500至100,000，更优选1,000至70,000和最优选3,000至40,000。以上重均分子量是按照凝胶渗透色谱(GPC)得到的值和表示为相应的聚苯乙烯的值。
以上可聚合低聚物可单独或两种或多种结合使用。
能量硬化型可聚合单体的例子包括单官能(甲基)丙烯酸酯如(甲基)丙烯酸环己酯，(甲基)丙烯酸2-乙基己基酯，(甲基)丙烯酸月桂基酯，(甲基)丙烯酸硬脂基酯和(甲基)丙烯酸异冰片基酯，1，4-丁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯，1，6-己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯，新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯，聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯，新戊二醇己二酸酯二(甲基)丙烯酸酯，新戊二醇羟基新戊酸酯二(甲基)丙烯酸酯，二(甲基)丙烯酸二环戊烷基酯，被己内酯改性的二(甲基)丙烯酸二环戊烯基酯，被氧化乙烯改性的磷酸二(甲基)丙烯酸酯，被烯丙基基团改性的二(甲基)丙烯酸环己基酯，异氰尿酸酯二(甲基)丙烯酸酯，三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯，二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯，被丙酸改性的二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯，季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯，被氧化丙烯改性的三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯，三(丙烯酰氧基乙基)异氰尿酸酯，被丙酸改性的二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯，二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯和被己内酯改性的二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。可聚合单体可单独或两种或多种结合使用。
选择可聚合低聚物和可聚合单体的量使得压敏粘合剂在通过施加能量被硬化之后具有下述性能。
作为根据需要使用的聚合反应引发剂，如果能量硬化型压敏粘合剂是热硬化型压敏粘合剂，那么使用有机过氧化物或偶氮-基化合物。有机过氧化物的例子包括二烷基过氧化物如过氧化二-t-丁基，过氧化t-丁基枯基和过氧化二枯基；过氧化二酰基如过氧化乙酰，过氧化月桂酰和过氧化苯甲酰；酮过氧化物如甲基乙基酮过氧化物，环己酮过氧化物，3，3，5-三甲基环己酮过氧化物和甲基环己酮过氧化物；过氧缩酮如1，1-二(t-丁基过氧)环己烷；氢过氧化物如氢过氧化t-丁基，氢过氧化枯烯，氢过氧化，1，1，3，3-四甲基丁基，氢过氧化p-薄荷烷，氢过氧化二异丙基苯和2，5-二氢过氧化2，5-二甲基己烷；和过氧酯如过氧乙酸t-丁基酯，过氧-2-乙基己酸t-丁基酯，过苯甲酸叔丁基酯和过氧异丙基碳酸t-丁基酯。
偶氮-基化合物的例子包括2，2′-偶氮二(4-甲氧基-2，4-二甲基戊睛)，2，2′-偶氮二(2-环丙基丙腈)，2，2′-偶氮二(2，4二甲基戊睛)，偶氮二异丁腈，2，2′-偶氮二(2-甲基丁腈)，1，1′-偶氮二(环己烷-1-甲腈)，2-(氨基甲酰基偶氮)异丁腈和2-苯基偶氮-4-甲氧基-2，4-二甲基戊睛。
以上聚合反应引发剂可单独或两种或多种结合使用。
如果能量硬化型压敏粘合剂是能量束硬化型压敏粘合剂，一般来说，紫外光或电子束用作照射能量束。如果紫外光用于照射，光聚合反应引发剂可用作聚合反应引发剂。光聚合反应引发剂的例子包括苯偶姻，苯偶姻甲基醚，苯偶姻乙基醚，苯偶姻异丙基醚，苯偶姻n-丁基醚，苯偶姻异丁基醚，苯乙酮，二甲基苯乙酮，2，2-二甲氧基-2-苯基-苯乙酮，2，2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮，2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮，1-羟基环己基苯基酮，2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-吗啉代丙烷-1-酮，4-(2-羟基乙氧基)苯基2-(羟基-2-丙基)酮，二苯酮，p-苯基二苯酮，4，4′-二乙基氨基二苯酮，二氯二苯酮，2-甲基蒽醌，2-乙基蒽醌，2-叔-丁基蒽醌，2-氨基蒽醌，2-甲基-硫代氧杂蒽酮，2-乙基硫代氧杂蒽酮，2-氯硫代氧杂蒽酮，2，4-二甲基硫代氧杂蒽酮，2，4-二乙基硫代氧杂蒽酮，苄基二甲基缩酮，苯乙酮二甲基缩酮，p-二甲基氨基苯甲酸酯和低聚(2-羟基-2-甲基-1-[4-(1-丙烯基)苯基]丙烷)。光聚合反应引发剂可单独或两种或多种结合使用。
在以上(2)中所述的压敏粘合剂中使用的压敏粘合剂丙烯酸聚合物(其中具有可聚合双键的能量硬化型官能团被引入侧链中)的例子包括通过以下方式制成的聚合物将具有可聚合双键的能量硬化型官能团引入压敏粘合剂丙烯酸聚合物的侧链，即，将官能团如-COOH，-NCO，环氧基团，-OH和-NH2引入在(1)中的压敏粘合剂时所述的压敏粘合剂丙烯酸聚合物的聚合物链，随后将具有可聚合双键的化合物与所引入的官能团反应。
如果具有官能团如-COOH，-NCO，环氧基团，-OH和-NH2和可聚合双键的单体或低聚物存在于反应体系中，上述官能团可被引入压敏粘合剂丙烯酸聚合物。
具体地，如果生产在(1)中的压敏粘合剂时所述的压敏粘合剂丙烯酸聚合物，(甲基)丙烯酸或类似物可用于引入-COOH基团，(甲基)丙烯酰氧基乙基异氰酸酯或类似物可用于引入-NCO基团，(甲基)丙烯酸缩水甘油酯或类似物可用于引入环氧基团，(甲基)丙烯酸2-羟乙基酯，1，6-己烷二醇单(甲基)丙烯酸酯或类似物可用于引入-OH基团，和N-甲基(甲基)丙烯酰胺可用于引入-NH2基团。
作为用于与官能团反应的具有可聚合双键的化合物，可根据活性点的种类合适地从(甲基)丙烯酰氧基乙基异氰酸酯，(甲基)丙烯酸缩水甘油基酯，季戊四醇单(甲基)丙烯酸酯，二季戊四醇单(甲基)丙烯酸酯和三羟甲基丙烷单(甲基)丙烯酸酯中选择化合物。
具有含可聚合双键的能量硬化型官能团的压敏粘合剂丙烯酸聚合物可如上所述而得到，其中所述双键通过该官能团被引入压敏粘合剂丙烯酸聚合物的侧链中。
作为根据需要使用的聚合反应引发剂，如果能量硬化型压敏粘合剂是热硬化型压敏粘合剂，那么可使用作为(1)中压敏粘合剂的有机过氧化物和偶氮基化合物的例子描述的有机过氧化物和偶氮-基化合物。如果能量硬化型压敏粘合剂是能量束硬化型压敏粘合剂，和紫外光用作能量束，那么可使用作为在(1)中压敏粘合剂的光聚合反应引发剂的例子描述的光聚合反应引发剂。
如果需要，可向(1)和(2)中所示的能量硬化型压敏粘合剂中加入交联剂，增粘剂，抗氧化剂，紫外光吸收剂，光稳定化剂，软化剂和填料，只要本发明效果不受不利影响。
作为交联剂，可按照目的合适地选自以上当本发明压敏粘合剂片材包括光记录层和压敏粘合剂层的层压品时作为可使用的交联剂的例子所述的交联剂。
考虑到与光记录层的粘附性和抑制多层光记录介质形成压印，优选的是，用于本发明能量硬化型粘合剂具有储存模量103至小于107Pa(在硬化之前)和107至1011Pa(在硬化之后)，例如按照下述的方法测定。更优选的是，储存模量是104至106Pa(在硬化之前)和108至1010Pa(在硬化之后)。
在本发明压敏粘合剂片材中，上述能量硬化型压敏粘合剂层的厚度并不特别限定。厚度一般是约1至100μm和优选约2至20μm。
在本发明压敏粘合剂片材中，分别在光记录层和压敏粘合剂层的外面上层压的释放膜I和II并不特别限定。释放膜的例子包括聚烯烃膜如聚乙烯膜和聚丙烯膜和通过在聚烯烃膜上形成释放层而制成的膜如以上所述的那些，聚酯膜如聚对苯二甲酸乙二醇酯膜和纸如玻璃纸，涂覆纸和通过用释放剂如硅氧烷树脂涂覆而制成的具有聚烯烃的层压纸。释放膜I和II可相互相同或不同。释放膜I和II的厚度并不特别限定。厚度一般是约20至150μm。
如果压敏粘合剂层包括压敏粘合剂层和压敏粘合剂层包括能量硬化型压敏粘合剂，上述的释放膜I和II可按照目的选自以上作为具有所述厚度的例子描述的膜。
用于生产本发明压敏粘合剂片材的方法并不特别限定。例如，如果生产具有图1所示层结构的压敏粘合剂片材，可进行以下描述的方法。
作为第一步骤，将包含合适浓度的用于形成光记录层的材料的涂覆液按照工艺如刮涂工艺，辊涂工艺，杆涂工艺，叶片涂布工艺，铸模涂布工艺和凹版涂布工艺施用到具有释放性能的释放膜I的面上，使得所形成的涂膜在干燥之后具有规定厚度。将所形成的涂膜干燥形成光记录层，这样制备出光记录层和释放膜I的层压品。
另外，将包含合适浓度的压敏粘合剂和根据需要使用的交联剂的涂覆液按照工艺如刮涂工艺，辊涂工艺，杆涂工艺，叶片涂布工艺，铸模涂布工艺和凹版涂布工艺施用到释放层释放膜II上，使得所形成的涂膜在干燥之后具有规定厚度。将所形成的涂膜干燥，并形成压敏粘合剂层。
然后，将以上制备的光记录层和释放膜I的层压品放在压敏粘合剂层的面上使得光记录层与压敏粘合剂层接触，并将所形成的组合通过橡胶辊或类似物压制在一起。因此，可得到图1所示的本发明压敏粘合剂片材。
如上所述得到的压敏粘合剂片材有利地用作生产以下所示本发明用于光记录介质的多层结构化制品的材料。
在本发明中，用于光记录介质的多层结构化制品通过使用上述的本发明压敏粘合剂片材而形成且其结构使得光记录层和作为非记录层的压敏粘合剂层被交替层压。压敏粘合剂层用作非记录层以抑制光记录介质中的数据的串音。
在本发明中，用于光记录介质的多层结构化制品通过使用上述的本发明压敏粘合剂片材而形成且该制品的结构使得光记录层和作为非记录层的压敏粘合剂层被交替层压。层压品中的光记录层和压敏粘合剂层的数目分别不受特别限定。层数一般分别为约2至1,000和优选5至500。如果层数是1，不能得到足够的记录密度。如果层数超过1,000，写入和读取信息有可能由于每层的光吸收和光在层界面上的反射而受不利影响。包括光记录层和压敏粘合剂层的整个层压品的厚度一般是约10μm至5mm，优选20μm至2mm和更优选50μm至1.2mm。
图2给出了断面图，说明本发明光记录介质的多层结构化制品的结构的一个实施方案。用于光记录介质的多层结构化制品20的结构使得压敏粘合剂层6位于由聚碳酸酯树脂或类似物制成的基材5上；光记录层和压敏粘合剂层被交替层压在压敏粘合剂层6上以形成光记录层1-1，压敏粘合剂层2-1，光记录层1-2，压敏粘合剂层2-2，光记录层1-3，压敏粘合剂层2-3，...，光记录层1-n，和压敏粘合剂层2-n；和释放膜II4作为最上层被放置。
具有以上结构的用于光记录介质的多层结构化制品20可例如下得到。将释放膜I3从以上图1所示的压敏粘合剂片材10上去除。压敏粘合剂片材10和具有压敏粘合剂层6的基材5被层压使得暴露的光记录层1(图2中的光记录层1-1)和在基材5上的压敏粘合剂层6相互面对。将释放膜II4从所得层压品上去除，和暴露出压敏粘合剂层2-1。所得层压品和另一压敏粘合剂片材10被层压使得压敏粘合剂层2-1和通过将释放膜I3从其它压敏粘合剂片材10上去除而暴露的光记录层1(光记录层1-2在图2)相互面对。层压通过接续重复以上步骤而继续，并制备出具有n个光记录层的层压品。因此，用于光记录介质的多层结构化制品20可按照该方式得到。如果压敏粘合剂层包括能量硬化型压敏粘合剂层，用于光记录介质的多层结构化制品20可通过热处理所得层压品或通过用离子化射线照射所得层压品以硬化压敏粘合剂层而得到。
如果压敏粘合剂层通过热处理以上层压品而硬化，该热处理在一般为50至200℃和优选70至150℃的温度下进行约1至60分钟。如果压敏粘合剂层通过用能量束照射层压品而硬化，一般来说，紫外光或电子束用作能量束。紫外光可得自高电压汞灯，熔融H灯或氙灯。电子束得自电子束加速器。在这些能量束中，紫外光是优选的。能量束的量合适地选择使得压敏粘合剂层在硬化之后的储存模量在以上范围内。
位于基材5上的压敏粘合剂层6中的压敏粘合剂可与形成压敏粘合剂片材的压敏粘合剂层相同或不同。
图3给出了断面图，说明本发明用于光记录介质的多层结构化制品的结构的另一实施方案。用于光记录介质30的多层结构化制品的结构使得压敏粘合剂层和光记录层被交替层压在由聚碳酸酯树脂或类似物制成的基材5上以形成压敏粘合剂层2-1，光记录层1-1，压敏粘合剂层2-2，光记录层1-2，压敏粘合剂层2-3，光记录层1-3，...，压敏粘合剂层2-n，和光记录层1-n，和释放膜I3作为最上层被放置。
具有以上结构的用于光记录介质的多层结构化制品30可例如下得到。将释放膜II4从图1所示的压敏粘合剂片材10上去除。压敏粘合剂片材10和基材5被层压使得暴露的压敏粘合剂层2(图3中的压敏粘合剂层2-1)和基材5相互面对。将释放膜I3从所得层压品上去除，并暴露出光记录层1-1。所得层压品和另一压敏粘合剂片材10被层压使得光记录层1-1和通过将释放膜II4从其它压敏粘合剂片材10上去除而暴露的压敏粘合剂层2(图3中的压敏粘合剂层2-2)相互面对。层压通过接续重复以上步骤而继续，并制备出具有n个光记录层的层压品。因此，用于光记录介质的多层结构化制品30可按照该方式得到。如果压敏粘合剂层包括能量硬化型压敏粘合剂层，那么其中压敏粘合剂层是本发明的能量硬化型压敏粘合剂层的用于光记录介质的多层结构化制品30可按照用于得到图2所示多层结构化制品的类似方式通过热处理所得层压品或通过用离子化射线照射所得层压品以硬化压敏粘合剂层而得到。
具有以上结构(压敏粘合剂层是本发明的能量硬化型压敏粘合剂层)的用于光记录介质的多层结构化制品例如当将10层本发明压敏粘合剂片材层压至聚碳酸酯树脂基材上时具有例如按照下述方法测定的动态硬度约0.3至1.0，并抑制在该制品上形成压印。
释放膜II4和释放膜I3作为分别用于如上所述得到的光记录介质20和30的多层结构化制品的最上层被放置。在本发明中，释放膜I和II可被去除并用其它膜如传输光的保护膜和传输光和具有压敏粘合剂层的保护膜替代。传输光的保护膜并不特别限定和可合适地选自常用作光记录介质保护膜的保护膜。保护膜的厚度并不特别限定。厚度一般是20至600μm和优选20至150μm。作为形成以上压敏粘合剂层的压敏粘合剂，丙烯酸压敏粘合剂是优选的。压敏粘合剂层的厚度是约5至60μm。
如果层压按照常用于制备多层光记录介质的旋涂工艺而进行，要求每层不被溶剂侵入。因此，较大地限制了对光敏材料，基质材料和位于光记录层之间的非记录层所用的材料的选择。相反，如果以上多层结构化制品使用本发明压敏粘合剂片材制成，以上问题不存在，而且可按照目的选择各种材料。
如果光记录介质按照旋涂工艺制成，难以制备出具有大面积的制品，且生产率低。如果使用本发明压敏粘合剂片材，可制备出卷形式的光记录介质。因此，生产率较高，且对形状的限制小。
与按照旋涂工艺形成的层相比，厚度精确度较高。因为具有相同的厚度的片材可被层压以形成具有许多层的层压品，每层的厚度基本上相同，且对层压的层数的限制较小。
本发明还提供了一种包括以上用于光记录介质的多层结构化制品的光记录介质。
使用本发明光记录介质用于记录和读取信息的方法并不特别限定和可合适地选自使用光记录介质记录和读取信息的常规方法。
综述通过本发明可实现的优点，按照本发明的第一目的，本发明可提供包括光记录层的压敏粘合剂片材，这样可容易地制成特别精确地表现出各层和整个层压品的厚度的多层光记录介质而无需限制材料和可制成具有大面积的多层光记录介质；通过使用该压敏粘合剂片材而形成的用于光记录介质的多层结构化制品；和包括该多层结构化制品和特别精确地表现出各层和整个层压品的厚度的多层光记录介质。另外，除了上述的第一目的，本发明的第二目的另外通过使用能量硬化型压敏粘合剂层作为压敏粘合剂层而实现。
实施例本发明根据以下实施例更具体地描述。但本发明不限于这些实施例。
在以下实施例和对比例中，所得多层结构制品的性能按照以下方法评估。
(1)通过压制杆测定的凹陷深度和动态硬度使用动态细硬度计[由SHIMADZU SEISAKUSHO有限公司制造；装置名称″DUH-W201″]将负荷施用到多层结构化制品上，最高试验力5mN。该负荷保持2秒，并测定凹陷深度和动态硬度。
(2)压敏粘合剂层或压敏粘合剂层在硬化之前的储存模量使用装置用于测量粘弹性[由RHEOMETRICS Company制造；装置名称″动态分析器RDAII″]在1Hz在25℃下测定压敏粘合剂层或构成多层结构化制品的压敏粘合剂层在硬化之前的储存模量。
(3)压敏粘合剂层在硬化之后的储存模量使用装置用于测量粘弹性[由ORIENTECH Company；装置名称″RHEOVIBRON DDV-II-EP″]在3.5Hz在25℃下测定构成多层结构化制品的压敏粘合剂层在制备多层结构化制品的相同的条件下硬化之后的储存模量。
(4)抑制形成压印的性能将多层结构化制品放在平整玻璃板上使得聚碳酸酯膜向下放置。在制品上，将具有直径2mm的四个铁球放置成具有2cm边的正方形形状。然后，将玻璃板放在铁球上使得玻璃板覆盖这四个铁球，并将重物放在玻璃板上。玻璃板和该重物的总重被调节为200g。在1分钟之后，去除重物，玻璃板和铁球，并视觉观察在多层结构化制品的表面上是否存在压印。抑制形成压印的性能按照以下标准评估良好没有发现压印。
差发现压印。
实施例1(1)光记录层的形成将100g聚甲基丙烯酸甲酯，10g 1，3，3-三甲基吲哚根合-6′-硝基苯并吡喃螺烷(是光致变色材料)，500g乙酸乙酯和490g甲苯混合，这样制备出具有10％重量的固体物质浓度的涂覆液。
将以上制备的涂覆液按照凹版涂布工艺施用到作为释放膜I的具有厚度40μm的聚丙烯膜的一面上，并将所形成的涂膜在90℃下干燥1分钟。测定所得涂膜(光记录层)的厚度，结果是约1.5μm，该值是在20个点上测量的平均值，偏差±0.2μm。
(2)压敏粘合剂层的形成向100重量份包含固体组分浓度30％重量的丙烯酸n-丁酯/丙烯酸共聚物(含量的重量比99/1)的乙酸乙酯溶液中加入1.0重量份异氰酸酯-基交联剂[由SOKEN KAGAKU有限公司制造；商品名″TD-75″；固体组分浓度75％重量)。将所得混合物搅拌直至得到均相溶液，这样制备出涂覆液(压敏粘合剂)。
然后，将以上制备的涂覆液通过刮刀涂布器施用到释放膜II的具有释放层的那面上，所述膜通过在具有厚度38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的一面上形成硅氧烷释放层而得到。将所形成的涂层通过在90℃下加热1分钟而干燥，这样形成压敏粘合剂层。所得压敏粘合剂膜的厚度是约8.0μm，该值是在20个点上测量的平均值，偏差±1.0μm。
(3)压敏粘合剂片材的制备将上述在(2)中形成的干燥压敏粘合剂层和上述在(1)中形成的光记录层组合使得光记录层的面与压敏粘合剂层的面接触，并将所形成的组合通过两个橡胶辊压制在一起，这样制备出具有光记录层和压敏粘合剂层的层压品。按照该方式制备出二十个具有图1所示结构的其中光记录层和压敏粘合剂层被层压的压敏粘合剂片材。
(4)多层结构化制品的制备具有厚度8.0μm的压敏粘合剂层在具有厚度75μm的聚碳酸酯膜[由TEIJIN KASEI有限公司制造]上使用具有与以上在(2)中所述相同组成的压敏粘合剂而形成。
将通过从上述在(3)中得到的压敏粘合剂片材上去除释放膜I的聚丙烯膜而得到的片材中的光记录层和上述聚碳酸酯膜的压敏粘合剂层层压并通过两个橡胶辊压制在一起。
将释放膜II的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜从所得层压品上去除。将暴露的压敏粘合剂层和通过去除聚丙烯膜而暴露的另一压敏粘合剂片材的光记录层层压并通过两个橡胶辊压制在一起。按照以上步骤依次重复层压，并制备出具有20个光记录层的图2所示的多层结构化制品。
测定包括聚碳酸酯膜的所得多层结构化制品的厚度，结果是270μm，该值是在20个点上测量的平均值，偏差±3.0μm。以上测量在去除聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(是最上层的释放膜II)之后进行。
实施例2(1)光记录层的形成将100g聚甲基丙烯酸甲酯，10g顺式-1，2-二氰基-1，2-二(2，4，5-三甲基-3-噻吩基)乙烯[由KANTO KAGAKU有限公司制造；商品名″B1535″](是光致变色材料的二烯丙基乙烯)，500g乙酸乙酯和490g甲苯混合，这样制备出具有10％重量的固体物质浓度的涂覆液。
将以上制备的涂覆液按照凹版涂布工艺施用到释放膜I的具有释放层的那面上，该膜通过在具有厚度38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜基材上形成醇酸树脂释放层而得到。将所形成的涂层通过在90℃下加热1分钟而干燥。所得涂膜(光记录膜)的厚度是约1.5μm。
(2)压敏粘合剂层的形成向100重量份包含固体组分浓度30％重量的丙烯酸n-丁酯/丙烯酸共聚物(含量的重量比99/1)的乙酸乙酯溶液中加入1.0重量份异氰酸酯-基交联剂[由SOKEN KAGAKU有限公司制造；商品名″TD-75″；固体组分浓度75％重量)。将所得混合物搅拌直至得到均相溶液，这样制备出涂覆液(压敏粘合剂)。
然后，将以上制备的涂覆液通过刮刀涂布器施用到释放膜II的具有释放层的那面上，所述膜通过在具有厚度38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的一面上形成硅氧烷释放层而得到。将所形成的涂层通过在90℃下加热1分钟而干燥，这样形成压敏粘合剂层。所得压敏粘合剂膜的厚度是约8.0μm，该值是在20个点上测量的平均值，偏差±1.0μm。
(3)压敏粘合剂片材的制备用于光记录介质将上述在(2)中形成的干燥压敏粘合剂层和上述在(1)中形成的光记录层组合使得光记录层的面与压敏粘合剂层的面接触，并将所形成的组合通过两个橡胶辊压制在一起。按照该方式制备出十个具有其中光记录层和压敏粘合剂层被层压的结构的用于光记录介质的压敏粘合剂片材。
(4)多层结构化制品的制备将释放膜II从上述在(3)中制成的压敏粘合剂片材中的压敏粘合剂上去除。将压敏粘合剂片材中的暴露的压敏粘合剂层和具有厚度100μm的聚碳酸酯膜[由TEIJIN KASEI有限公司制造；商品名PURE ACEC110-100″]的一面层压并通过两个橡胶辊压制在一起。去除所得层压品中的光记录层上的释放膜I。将十个压敏粘合剂片材按照以上步骤依次层压，这样制备出一种层压品，其中10个光记录层和10个压敏粘合剂层被交替层压(没有使用能量进行硬化处理)。
所制多层结构化制品的性能在表1中给出。
对比例1将乙酸乙酯加入用于形成实施例1的(1)中的光记录层的涂覆液中，这样制备出具有7.5％重量的固体组分浓度的涂覆液。将所制的涂覆液按照旋涂工艺在900rpm的旋转速度下施用到非碱玻璃[由CORNINGCompany制造；产品号码#1737；尺寸12.5cm2]上。将所得涂层在90℃下干燥1分钟，这样形成光记录层。测定所得涂层的厚度，结果是约1.5μm，该值是在20个点上测量的平均值，偏差±0.2μm。
将甲苯加入用于形成实施例1的(2)中的压敏粘合剂层的涂覆液中，这样制备出具有20％重量的固体组分浓度的涂覆液。将所制的涂覆液按照旋涂工艺在相同的条件下施用。将所形成的涂层在90℃下干燥1分钟，这样形成压敏粘合剂层。
所制层压品的截面通过光学显微镜观察。结果发现，记录层的表面被涂覆液溶解，而且在记录层和压敏粘合剂层的界面上发现无序状态。
对比例2光记录层按照在对比例1中进行的相同步骤而形成，随后将聚乙烯醇[由WAKO JUN-YAKU有限公司制造]的10％重量水溶液按照旋涂工艺在相同的条件下施用。涂覆部分和未涂覆部分被发现不匀地形成，除了具有半径约3cm的中心部分，因此不能形成在整个基材方向上均匀的层压品。实施例3(1)压敏粘合剂层(能量束硬化型压敏粘合剂层)的形成向包含30％重量固体组分浓度的丙烯酸n-丁酯/丙烯酸共聚物(含量的重量比80/20)的乙酸乙酯溶液中加入30当量2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯，每100当量以上共聚物中的丙烯酸组分。反应在氮气氛下进行48小时，这样得到具有被引入侧链的能量硬化型官能团甲基丙烯酰基基团的平均百分数9.2％摩尔和重均分子量约850,000的能量硬化型共聚物的溶液(A)。
向100重量份的能量硬化型共聚物的溶液(A)中的固体组分中加入3.0重量份低聚(2-羟基-2-甲基-1-[4-(1-丙烯基)苯基]丙烷)[由LAMBERTI SPA Company制造；商品名″ESCURE KIP150″]作为光聚合反应引发剂和1.0重量份异氰酸酯基交联剂[由TOYO INK SEIZO有限公司制造；商品名ORIBAIN BPS-8515″]作为交联剂，这样制备出能量束硬化型压敏粘合剂的涂覆液。
然后，将以上制备的涂覆液通过刮刀涂布器施用到释放膜II的具有释放层的那面上，所述膜通过在具有厚度38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的一面上形成硅氧烷释放层而得到。将所形成的涂层通过在90℃下加热1分钟而干燥，这样形成压敏粘合剂层(能量硬化型压敏粘合剂层)。所得压敏粘合剂膜的厚度是约8.0μm，该值是在20个点上测量的平均值。
(2)压敏粘合剂片材的制备用于光记录介质将上述在(2)中形成的干燥压敏粘合剂层和按照实施例2的(1)所述相同方式形成的光记录层组合使得光记录层的面与压敏粘合剂层的面接触，并将所形成的组合通过两个橡胶辊压制在一起。按照该方式制备出十个具有其中光记录层和压敏粘合剂层被层压的图2所示结构的用于光记录介质的压敏粘合剂片材。
(3)多层结构化制品的制备将释放膜II从上述在(2)中制成的压敏粘合剂片材中的压敏粘合剂上去除。将压敏粘合剂片材中的暴露的压敏粘合剂层和具有厚度100μm的聚碳酸酯膜[由TEIJIN KASEI有限公司制造；商品名PURE ACEC110-100″]的一面层压并通过两个橡胶辊压制在一起。去除所得层压品中的光记录层上的释放膜I。将十个压敏粘合剂片材按照以上步骤依次层压，这样制备出其中10个光记录层和10个压敏粘合剂层被交替层压的层压品。
所制层压品用一次1,000mJ/cm2的光在层压品的每侧使用高压汞灯照射。因此，压敏粘合剂层硬化以形成非记录层，并制备出图3所示的多层结构化制品。
所制多层结构化制品的性能在表1中给出。
实施例4其中10个光记录层和10个压敏粘合剂层被交替层压的层压品按照实施例3的(3)中所进行的相同步骤而制成，只是压敏粘合剂层按照实施例3的(1)所述使用如下所述制成的热硬化型压敏粘合剂的涂覆液形成。
<热硬化型压敏粘合剂的涂覆液的制备>
向在实施例3的(1)中得到的能量硬化型共聚物的溶液(A)中加入3.0重量份t-丁基过氧2-乙基己酸盐[由NIPPON YUSHI有限公司制造；商品名″PERBUTYL O″]作为热聚合反应引发剂和1.0重量份″ORIBAINBPS-8515″(上述)作为交联剂，每100重量份溶液(A)中的固体组分，这样制备出热硬化型压敏粘合剂的涂覆液。
然后，将以上层压品在保持在恒定温度100℃下的腔中放置30分钟，这样通过硬化压敏粘合剂层而形成非记录层，并制备出图3所示的多层结构化制品。
所制多层结构化制品的性能在表1中给出。
实施例5其中10个光记录层和10个压敏粘合剂层被交替层压的层压品按照实施例3的(3)中所进行的相同步骤而制成，只是如下所述制成的能量束硬化型压敏粘合剂的涂覆液用于形成实施例3的(1)中所述压敏粘结剂层。
<能量束硬化型压敏粘合剂的涂覆液的制备>
向实施例3的(1)中得到的能量硬化型共聚物的溶液(A)中加入50重量份二季戊四醇六丙烯酸酯[由NIPPON KAYAKU有限公司制造；商品名″DPHA″]作为能量硬化单体和1.0重量份″ESCURE KIP 150″(上述)作为光聚合反应引发剂，每100重量份溶液(A)中的固体组分，这样制备出能量束硬化型压敏粘合剂的涂覆液。
将以上层压品按照实施例3的(3)所述的类似方式用光照射，这样通过硬化压敏粘合剂层而形成非记录层，并制备出图3所示的多层结构化制品。
多层结构化制品的性能在表1中给出。
表权利要求
1.一种压敏粘合剂片材，包括包含光敏材料的光记录层和压敏粘合剂层的层压品。
2.根据权利要求1的压敏粘合剂片材，它在光记录层和压敏粘合剂层的每个外面上包括释放膜。
3.根据权利要求1和2任何一项的压敏粘合剂片材，其中压敏粘合剂层包含丙烯酸压敏粘合剂。
4.一种通过使用在权利要求1，2和3中任何一项所述的压敏粘合剂片材而形成的用于光记录介质的多层结构化制品，其中光记录层和压敏粘合剂层被交替层压。
5.根据权利要求1的用于光记录介质的压敏粘合剂片材，其中压敏粘合剂层包括能量硬化型压敏粘合剂层。
6.根据权利要求5的用于光记录介质的压敏粘合剂片材，它在光记录层和压敏粘合剂层的每个外面上包括释放膜。
7.根据权利要求5和6任何一项的用于光记录介质的压敏粘合剂片材，其中能量硬化型压敏粘合剂层是热硬化型或能量束硬化型压敏粘合剂层。
8.使用在权利要求5，6和7任何一项中所述的压敏粘合剂片材形成的用于光记录介质的多层结构化制品，其中光记录层和通过施加能量而硬化的压敏粘合剂层被交替层压。
9.一种多层光记录介质，包括在权利要求4和8中任何一项所述的多层结构化制品。
全文摘要
本发明提供了一种压敏粘合剂片材，它是包含光敏材料的光记录层和压敏粘合剂层(是压敏粘合剂层或能量硬化型压敏粘合剂层)的层压品；使用该片材的其中光记录层和压敏粘合剂层被交替层压的用于光记录介质的多层结构化制品；和具有该制品的多层光记录介质。该片材，制品和介质具有优异的厚度精度和可容易地制成而无需限制材料。可制成具有大面积的片材，制品和介质。如果压敏粘合剂层使用能量硬化型压敏粘合剂层形成，可抑制在多层光记录介质上形成压印。
文档编号G11B7/24038GK1655262SQ200410104880
公开日2005年8月17日 申请日期2004年12月24日 优先权日2003年12月25日
发明者中林正仁, 宫田壮 申请人:琳得科株式会社