专利名称：检查折射元件清洁状态的方法及近场型光学扫描装置的制作方法
技术领域：
本发明通常涉及检查近场型(near field type)光学扫描装置的 折射元件的光出射面的清洁状态的方法。本发明还涉及这种近场型光 学扫描装置。
背景技术：
光学扫描装置通过将光辐射束聚焦到光盘上的一个微小光斑上来 扫描光盘。扫描光盘可理解为从光盘信息层读取和/或向光盘信息层写 入。可以在光盘上读取和/或记录的最大数据密度与聚焦到光盘上的辐 射光斑的大小成反比。聚焦到光盘上的光斑越小，记录在光盘上的数 据密度越大。前述光斑大小依次由光辐射源(比如激光器)所产生的 扫描光辐射束的波长/l和聚焦透镜(也可称为物镜)的数值孔径(NA )的比率决定。在本领域中已知实现超过一的数值孔径(NA)要求所谓的"近场 ，，配置，其中光学扫描装置的折射元件放置在物镜和光盘之间，使得 折射元件与光盘的出射面之间间隔一个小于近场距离的读出距离，这 种读出距离比半个波长小得多，实际上该读出距离小于数十纳米。从光盘读取或在光盘上写入时允许满足上述距离要求的光学扫描 装置的已知设计方案是使用滑块的系统，其类似于磁记录系统和使用 致动器的主动反馈系统。对于滑块和致动器设计方案而言，维持折射 元件的光出射面清洁(即，没有污染物和灰尘)存在着技术上的挑战 。这些污染物或灰尘附着于辐射光路中的表面上将会严重影响光信号 或光学扫描装置精确控制距光盘表面距离的能力，导致性能下降，或 者在极端的情况下，会导致光学扫描装置发生故障。就污垢和污染物而言，重要问题在于能否确定折射元件的光出射 面是清洁的。美国专利6， 307， 832号描述了一种操作近场型光盘驱动器 的方法，包括使光盘在距光学头一个读出距离处，在从光盘读出数据 时监测跟踪信号的包络线，判定如果跟踪信号的包络线的变形超过预 先确定的公差(tolerance)限度，则判定光学头需要清洁。然而，仅能在读/写操作期间执行如美国专利6， 307, 832号所描述的方法。因此 ,只有当已经可能使光盘放到读出距离并将光盘相对于光学头对准时 才可以使用。如果光学头的折射元件的光出射面非常脏或污染严重， 则对准光盘是不可能，并且在极端的情况下，尝试对准操作则可能导 致光学扫描装置发生故障。因此，由于上述方法要求将光盘放置到读 出距离并且要将光盘与光学头对准，所以上述方法的缺点在于该方法 不具有很好的强健性。
发明内容
本发明的目的在于提供一种更为强健的检查近场型光学扫描装置 的折射元件的清洁状态的方法，这种方法不要求对准光盘的能力。本 发明的这个目的由根据权利要求l所述的方法来实现。在近场折射元件 内部，如果没有适当的介质非常靠近或者接触折射元件的光出射面， 那么入射角大于数值孔径(NA)的入射光辐射束的全部光线被全内反 射。因此，如果没有介质靠近折射元件，即光盘远离折射元件的光出 射面的距离大于近场距离，那么近场控制信号具有最大值；近场控制
对应的入射光辐射束的强度之间的比率成比例。然而，如杲灰尘或污 染物存在于光出射面上，那么全内反射的过程将部分失败，并且近场 控制信号的绝对值将减小，而近场控制信号的绝对值与反射的光辐射 束的强度成比例。当光盘远离折射元件的光出射面大于近场距离时， 比较近场控制信号的测量值是否在预定阈值以上就能判定折射元件是 否清洁。由于在测量期间保持光盘更远离折射元件的光出射面，所以
力或对准光盘的能力。， ' 、 '
在一个优选实施方式中，近场控制信号是间隙误差信号(GES), 间隙误差信号(GES)与偏振态垂直于入射扫描光辐射束偏振态的反射 光辐射束的强度成比例。这种选择带来的优点在于间隙误差信号(GES )在一些近场型光学扫描系统中已经是可提供的了 ，因此要求最小的 硬件改变。
在一个优选实施方式中，当折射元件是清洁的并且光盘距折射元 件超过近场距离时，预定阈值被选择使得其落在所测得的近场控制信 号值的9 0%到9 9%的范围中。在测量近场控制信号之前使折射元件不对准焦点是有益的。如果
射元件的光出射面，那么用于探测清洁状态的折射元件光出射面的区 域相当小。换句话说，在聚焦的光斑面积之外的污染物/污垢不会影响
近场控制信号。如果光辐射束被散焦，那么探测直径约为10-30微米的 较大面积。因此，可以在几乎覆盖了折射元件整个光出射面的大得多 的区域中检测污染物。显然，对于与在近场控制信号测量步骤期间相 同的聚焦条件，用于近场控制信号的预定阈值将被确定。优选地，通 过移动光学拾取器单元的准直仪来获得入射光辐射束的散焦。
通过权利要求6的方法获得了一种改进的实施方式。通过监测光控 制信号，可能检测被反射的光辐射束的强度或质量下降。例如，在存 在一些污染物或者污垢的情况下，折射元件的传输和/或光斑质量将受 到影响，导致光控制信号减少或畸变。其带来的优点在于这种方法实 施简单，因为这种光控制信号已经存在于光学扫描装置中，检测很容 易并且可以在读/写操作期间执行。优选地，从可提供的光控制信号中 选择用于跟踪的光控制信号(比如推挽信号)。这种选择具有的优点 在于，它也可以用在记录或扫描空轨迹的过程中，因为它不要求从光 盘中可以读出可靠的数据，这可能不是在记录期间或者扫描空轨迹时 的情况。
在一个有利实施方式中，该方法更进一步地包括下列步骤使光
盘与折射元件的光出射面接触，测量近场控制信号；将测得的近场控 制信号与第二阈值进行比较，如果测得的近场控制信号在第二阈值以
下，则判定折射元件是清洁的。在清洁的情况下，当光盘与折射元件 的光出射面接触时，近场控制信号的值很低，而更大的值则表明在折 射元件的光出射面上存在污染物/污垢。该实施方式具有的优点在于探 测了折射元件的光出射面的整个表面。优选地，当折射元件是清洁的 并且光盘距折射元件超过近场距离时，第二阈值在测得的近场控制信 号值的0%到2 0%的范围之内选择。
本发明还涉及用于扫描光盘的近场光学扫描装置。 参考下述实施方式，本发明的这些和其它方面将更为明显并得到 解释。在下文中，明白的是，术语折射元件包含很多光学元件，其可 以包括用于近场系统的固体浸没透镜(SIL),并且以解释说明的目的在说明书中采用术语固体浸没透镜(SIL )不限定本发明仅仅应用于SIL透镜。
本发明的特征和优点将参考下列附图而得以明白，其中
图l示意性地图示其中可以实践本发明的光学扫描装置； 图2示意性地图示光学扫描装置的光学拾取器单元； 图3示意性地图示固体浸没透镜(SIL);
图4图示测得的间隙误差信号(GES)作为折射元件(固体浸没透 镜(SIL))光出射面和光盘表面之间距离的函数；
图5图示根据本发明的检查折射元件光出射面的清洁状态的方法 的第一实施方式；
图6图示根据本发明的检查折射元件光出射面的清洁状态的方法 的第二实施方式；
图7图示根据本发明的检查折射元件光出射面的清洁状态的方法 的第三实施方式。
具体实施例方式
图l示意性图示本发明可以被实践的近场型光学扫描装置。这种装 置的详细描述可以参见Proceedings of SPIE (Optical Data Storage 2004)， ed. B. V. K. Vi jaya Kumar,第5380巻，第209—223页。
装置100形成近场光学系统的一部分。该装置包含连接到电动机控 制器102的控制单元101,电动机控制器102上设置有可以放置光盘103 的卡盘(chunk) 116。在光学系统的读取和写入操作期间，可引起光盘 103;旋转104。在光盘103之上，近场系统的折射元件(比如固体浸没透 镜(SIL))包含在头组件105中。头组件105通过伺服单元107定位在 距光盘103上方特定的距离106处。入射在光盘103上的光辐射束来源于 前端单元108,前端单元108包含激光器、光学器件、检测器等等，并 经由单元109接收来自控制单元101的操作指令，在所述单元109,输入
^L格式化和调制。
为了允许控制光盘103和头組件105之间的特定距离106 ，亦称为空 气间隙，在如此小的距离上借助于机械致动器，需要适当的控制信号 作为用于该间隙伺服系统的输入。众所周知，适当的控制信号可以从 其偏振态例如垂直于聚焦在光盘上的扫描光辐射束的偏振态的反射的光辐射束获得。在SIL-空气-光盘界面处反射之后，光辐射束的相当大 的部分被椭圓形地极化。当通过偏振器观察反射的光辐射束时，这个 ^:应可以产生众所周知的"马耳他十字形(Maltese cross )，，。通过 使用偏振光学器件和辐射检测器(比如单个光电探测器)集成这个" 马耳他十字形"的全部光线，可以产生控制信号。对于距离106为零( 机械接触)，光电探测器的值接近于零，并且随着距离106增大而增大 ,当距离106约为光辐射束波长的十分之一时，稳定在最大值。
头组件105包含另一个用于检测光辐射束的检测器(未显示)，其 被偏振平行于聚焦在光盘103上并且包含从光盘103上读取或写入的信 息的前向光辐射束。该控制信号被称为间隙误差信号(GES)，并且与 对应的伺服方法一起已经在上述引用的参考文献以及在 Jpn. J.Appl.Phys.Vol.42 (2003)第2719-2724页，Part 1, No. 5A， 2003 年5月和在Technical Digest ISOM/ODS 2002， Hawai i， 2002年7月7-11 日，ISBN0-7803-7379-0中进行了描述和展示说明。
前端单元108的输出被馈送进信号处理单元110中。该输出尤其包 含读出数据和间隙误差信号(GES)距离测量值。读出数据lll被引导 向一个分离的子系统中。GES信号112被馈送入到阈值单元113中。该阈 值单元包含一个或多个已经预先决定并编程进入该单元中的阔值。另 外，如果测得的距离的任何一个在这些阈值之外，那么该编程包括适 当的必须被实施的反应。必要时测量的距离和阈值之间进行比较并且 选择适当的反应。这个信息然后被馈送入到空气间隙控制单元114中，
服单元107进而控制包含SIL透镜的头组件105。
包含头组件105的光学拾取器单元(OPU)以及前端单元108的更多 细节将参考图2进行论述。这是一个说明性的例子而几个其他的实施例 是本领域中已知的。
光辐射束，比如单色激光束，由激光二极管201产生，并且其通过 允许产生三光束系统的光栅2 02 ，该三光束系统包含一个主光束和两个 卫星(satellite)光斑。光辐射束更进一步地穿过分束镜203、准直透 镜204。光学拾取器单元(OPU)可能更进一步地包含用于对入射光辐 射束进行偏振的偏振分束器(未在图2中显示)，用以产生间隙误差信 号(GES)。最后，借助于物镜205和折射元件206 (比如固体浸没透镜(SIL)),光辐射束被聚焦成被提供到光盘106上的信息层上的光斑 。光盘103上的信息层可由覆盖层覆盖，用于机械保护以防止划擦。由 光盘通道中的信息层反射的光辐射束的一部分被经过分束镜203传输 向伺服透镜207和检测器208。为了产生间隙误差信号(GES),可使用 第二偏振器和检测器(未在图2中显示)。机械致动器系统209a和209b 负责调节固体浸没透镜(SIL) 206的位置和/或物镜205相对于光盘的 位置。
固体浸没透镜(SIL) 206的进一步细节将参考图3进行讨论。如果
光聚焦到高指数介质中而没有在空气-介质界面发生折射，比如通过聚 焦在如图3a所示的半球形固体浸没透镜(SIL) 206的中心，那么透镜 的数值孔径(M)可以超过一。在这种情况下，有效的NA是NAeff-nNAo ，其中，n是半球形固体浸没透镜(SIL) 206的折射率，而Mo是图3a 中物镜205在空气中的NA。
为了进一步增大NA,本领域中已知的是，使用如图3b中所示的超 半球形固体浸没透镜。超半球形透镜将光辐射束朝着光轴折射。这样 ,有效的NA是Meff-n2Mo。超半球形固体浸没透镜(SIL)的光学厚度 是R(l+l/n)，其中n是透镜材料的折射率，而R是固体浸没透镜(SIL )206的半球形部分的半径。
重要的是需要注意大于一的有效NAeff仅出现在距固体浸没透镜的
光出射面301极短的距离之内，在该处存在渐逝(evanescent)波。该距 离一般小于辐射的波长的十分之一。前述距离也称作近场距离。这个 短的近场意味着在写入或读取光学记录载体期间，固体浸没透镜(SIL )和光盘之间的距离必须一直小于数十纳米。这是因为入射到固体浸 没透镜(SIL)的光出射面301上的至少一部分扫描光辐射束在透镜-空 气界面处被全反射，其中光辐射束的全反射部分渐逝刚刚非常小的距 离进入光疏介质中。
图4图示说明测量的间隙误差信号(GES)作为折射元件(比如， 固体浸没透镜(SIL))的光出射面301和光盘103的表面之间的距离的 函数。对于零空气间隙106而言，即当光盘103的入射面42与固体浸没 透镜(SIL) 206的光出射面301接触时，间隙误差信号(GES)接近于 零。随着间隙宽度增加，间隙信号增强，其中如图4中所示的间隙误差 信号(GES)对空气间隙106的线性相关性仅仅是任意的。在大约1/1(U
10处，因为不再存在扫描光辐射束渐逝耦合进光盘103,并且从光出射面 301对光辐射束的反射为最大值，所以间隙误差信号(GES)不随着空 气间隙106进一步增大。
存在某一间隙误差信号(GES)值，即设定点SP,它对应于光盘103 和固体浸没透镜205之间期望的空气间隙106。间隙误差信号(GES)和 等于设定点SP的固定电压被输入到减法器(未显示)中，该减法器在 其输出端形成 一 个信号，该信号被用于对控制空气间隙10 6的间隙伺服 系统进行控制。
到目前为止近场光学扫描装置的描述都1叚定固体浸没透镜205在 光学拾取器单元(OPU)中经过准确调节并且是清洁的。然而，如果光 学头的折射元件的光出射面30W艮脏/受到严重污染，则可能不可能相 对于光盘103将固体浸没透镜(SIL) 206的光出射面带到近场距离和/ 或将光学拾取器单元(OPU)相对于光盘103的轨迹对齐，并且在极端 情况下，尝试这样做可能会导致光学扫描装置发生故障。本发明的目 的在于描述一种用于检查折射元件的光出射面的清洁状态的适当方法
图5图示根据本发明的检查折射元件的光出射面的清洁状态的方 法的第一实施方式；将进一步引用参考图l所描述的近场型光学扫描装
置和参考图2所描述的光学拾取器单元。
优选地，每当光学扫描装置被启动，或者任选地在新的光盘103已 经被引入到该系统中之后，执行这种用于检查清洁状态的方法。该方 法从任选步骤501开始，检查光盘103和固体浸没透镜206之间的距离。 如果光盘103在读出距离范围之内，那么光盘以大于近场距离的距离被 分隔开(SEPR)，该距离足够大，以致于扫描光辐射束和光盘之间不 存在渐逝耦合。这种距离通常约为十分之一波长。如果在启动之后立 即执行该方法，那么可以跳过步骤501。该方法继续进行步骤502,其 中产生近场控制信号(NFCS GEN),近场控制信号与从固体浸没透镜 205的光出射面完全内反射的光辐射束强度成比例。在一个优选实施方 式中，间隙误差信号503被选为近场控制信号。
任选地，在该方法的一个优选实施方式中，在产生近场控制信号 的步骤502之后接着散焦步骤(DEF) 503。例如，通过将准直透镜204 相对于固体浸没透镜(SIL) 206移动，可获得散焦。对于完美的聚焦系统并且在光盘没有被保护层覆盖的情况下，也就是说，当光辐射束以小光斑聚焦在固体浸没透镜(SIL) 206的底部上或聚焦在非常接近 于固体浸没透镜(SIL) 206底部时，用这种方式可被检查的固体浸没 透镜(SIL) 206的出射面的区域相当小。换句话说，在光斑区域之外 的污染不会影响到近场控制信号。如果入射光辐射束在固体浸没透镜 (SIL) 206的光出射面上被散焦，那么这可能将光出射面处的入射光 辐射束的有效光斑大小增加到直径约为10-20孩支米。因此，可以在几乎 覆盖固体浸没透镜(SIL) 206的整个光出射面的大得多的面积上检测 污染物。在步骤504中，测量已产生的近场控制信号(NFCS MEAS)，然后 在步骤505中将其与预定阈值进行比较(THR COMP)。与已经受全内反 射的光辐射束的强度成比例的近场控制信号将显示出与图4中对于间 隙误差信号(GES)所图示的同样的空气间隙的相关性。在大约1/1(U处 ，因为不再存在光辐射束渐逝耦合进光盘103,并且从固体浸没透镜( SIL) 206的光出射面301反射的光辐射束为最大值，所以近场控制信号 没有随着增加空气间隙而进一步增大。当被正规化(norma 1 ized)到入 射光辐射束的功率(power)时，该后者的值仅由固体浸没透镜(SIL) 206的光出射面的状态决定。这样，当在没有光盘(或者光盘到近场距 离超过约几百纳米)的情况下，近场控制信号的值小于预定参考值( 在原始的、清洁的状况下)，这意味着在接近于或者位于辐射光斑位 置上的SIL的底部上存在一些污染。优选地，预定阈值设为近场控制信 号在没有光盘(或者光盘到近场距离超过约几百纳米)的情况下的90% 到99%。在决定步骤506中，如果发现近场控制信号值在预定阈值以下，则 判定出固体浸没透镜(SIL) 206的光出射面301需要进行清洁。如果判 定出需要进行清洁，那么根据本领域已知的适当方法，在步骤508 (CLN )中清洁固体浸没透镜(SIL) 206的光出射面301。例如，用于清洁固 体浸没透镜(SIL) 206的光出射面的适当方法已经在本申请人的欧洲 专利申请no05106634. 8 (律师巻号PH001858 )中进4亍了描述。如果发 现固体浸没透镜(SIL) 206的光出射面301是清洁的，那么该方法进入 到步骤507 (USE)，其中使用该光学扫描装置。图6图示根据本发明的检查折射元件的光出射面的清洁状态的方法的第二实施方式；将进一步引用参照图l所描述的近场型光学扫描装 置和参照图2所描述的光学拾取器单元。根据第二实施方式的方法从步骤601开始，基于使用近场控制信号(NFCS CHK)检查清洁状态。因此，步骤601包含根据第一实施方式的 方法的从501到506的步骤。如果在步骤602中发现透镜是清洁的，那么 该方法进入到步骤602。在此，光盘103;故带到相对于固体浸没透镜206 的光出射面距离为读出距离处，并且光学头相对于光盘的轨迹对齐。 当信息从光盘103读取或记录到光盘103上时，在光学扫描装置中产生 几个光控制信号，比如轨迹误差信号、聚焦误差信号、中心误差信号(也称为推挽信号)或者sumbead信号(SBAD )。在步骤602 ( OCS GEN )中产生这种光控制信号，在步骤603 (OCSMEAS)测量这种信号，并 在步骤604中(OCS COMP)将其与光控制信号阈值相比较。如果发现该 值在上述阈值以上，则在步骤605中判定固体浸没透镜206的光出射面 不清洁，并且当根据适当的方法进行清洁(CLN)时，该方法进入步骤 607。当对光盘103进行扫描时，连续不断地进行光控制信号的监测。通过监测回放信号(诸如抖动水平、数据信号的信号调制或峰-峰 振幅)的质量指示器，有可能检测光斑质量的退化。例如，在固体浸 没透镜的光出射面存在污染物/污垢的情况下，所述SIL透镜的透射和/ 或光斑质量将受到影响，导致信号调制减弱或畸变。监测与数据信号(比如抖动水平)相关的光控制信号的缺点在于需要在光盘上存在可 靠的数据，这可以不是进行记录期间或者在空轨迹上的情况。因此， 在一个有利的实施方式中，优选地监测用于轨迹跟踪的光控制信号(比如推挽信号)，而不监测与数据信号相关的光控制信号。图7图示出根据本发明的检查折射元件光出射面的清洁状态的方 法的第三实施方式；将进一步的引用参照图l所描述的近场型光学扫描 装置和参照图2所描述的光学拾取器单元。根据第三实施方式的方法从步骤701开始，基于使用近场控制信号 (NFCS CHK)检查清洁状态。因此，步骤701包含才艮据第一实施方式的 方法的从501到506的步骤的顺序。在步骤702中，固体浸没透镜206逐 渐接近光盘103,直到固体浸没透镜206的光出射面301与光盘103的表 面接触(APPR)。例如，用于接近近场型光学扫描装置的适当方法在 申请人:的IB2005/052485号(律师巻号PHNL040913 )申请中进行了描述13，在Jt通过参考而净JU翁入本文。在步骤703，产生近场控制信号(NFCS GEN),在步骤704中测量 已产生的近场控制信号(NCSMEAS),并且在步骤705中将近场控制信 号与第二阈值进行比较(NFCS COMP)。如果发现近场控制信号在阈值 以上，那么在步骤706中判定光出射面是污染的或者不清洁的，并且该 方法进入到根据本领域中适当的方法执行清洁步骤707 (CLN)。如果 固体浸没透镜206的光出射面，那么该方法可以任选地包括检查光控制 信号的质量的步骤，如根据第二实施方式的方法中所述的。如果试图推入(pull-in)到静止(非转动的)光盘103上，那么在 接触期间的近场控制信号值表示固体浸没透镜206的光出射面可能受 污染/不清洁的程度。在清洁的情况下，当光盘103在近场距离之外时 ,在接触期间的近场控制信号值一般小于近场控制信号值的20%,优选 小于近场控制信号值的10 / 。更大的值表示在固体浸没透镜206的光出 射面上存在污染。优选地，近场控制信号是间隙误差信号(GES)。为了改善结果，可以将该方法的第二和第三实施方式组合起来。 在这种组合方法中，在启动时的预先检查包含在使固体浸没透镜206的 光出射面与光盘103接触之前，检查与第一阈值成对照的近场控制信号 值，接着在接触期间检查与第二阔值成对照的近场控制信号值。在扫 描光盘103的时候，连续地监测光控制信号的质量、优选地监测跟踪信 号的质量。应当注意，上述实施方式意味着对本发明进行图示说明而不是限 制本发明。而且本领域的技术人员在不脱离所附权利要求的范围的情 况下，将能够设计出多种可替换的实施方式。在权利要求中，放在括 号内的任何附图标记将不会被理解为对权利要求进行限制。动词"包 含"和"包括，，的使用以及它们的变形并不排除存在除了在权利要求 中已描述的那些元件或步骤之外的元件或步骤。在元件之前的冠词" 一"或者"一个"并不排除存在多个这种元件。通过包含一些不同的 元件的硬件和/或通过适当的固件，可以实施本发明。在一个列举了几 个单元的系统/设备/装置权利要求中，这些单元中的几个可以由同一 个硬件或软件来体现。仅仅事实上，某些手段在互相不同的从属权利 要求中被记载仅仅这一事实并不表示这些手段的组合不能用于产生有 益效果。
权利要求
1、一种检测近场型光学扫描装置的折射元件的光出射面清洁状态的方法，该方法包含下列步骤-产生近场控制信号，该近场控制信号与被从折射元件的光出射面内部反射的光辐射束的强度和对应的入射光辐射束的强度之间的比率成比例；-当折射元件的光出射面远离光盘超过近场距离时，测量近场控制信号；-将测得的近场控制信号与预定阈值进行比较；-如果测得的近场控制信号在预定阈值以上，则判定折射元件为清洁的。
2、 根据权利要求i的方法，其特征在于，该近场控制信号是间隙误差信号(GES),该间隙误差信号(GES)与反射的光辐射束强度成
3、 根据权利要求2的方法，其特征在于，当该折射元件的光出射面是清洁的并且光盘距折射元件超过近场距离时，该预定阈值处于测 得的间隙误差信号(GES)的值的90%到99%的范围之内。
4、 根据权利要求2或3的方法，其特征在于，该方法进一步地包 括在测量近场控制信号的步骤之前，使折射元件不对准焦点的步骤。
5、 根据权利要求4的方法，其特征在于，使折射元件不对准焦点 的步骤包括移动光学拾取器单元的准直透镜。
6、 根据前述任意一个权利要求的方法，该方法进一步地包4舌下 列步骤-使光盘移动到距离折射元件的光出射面在读出距离处； -产生光控制信号； -监测光控制信号的值；-如果测得的光控制信号超过光信号阈值，则判定折射元件的光出 射面为不清洁。
7、 根据权利要求6的方法，其特征在于，该光控制信号是推挽信号。
8、 根据权利要求l-5中的任一权利要求的方法，该方法进一步包 括下列步骤-将光盘与折射元件的光出射面接触； -测量近场控制信号；-将测得的近场控制信号与第二阈值进行比较； -如果测得的近场控制信号在第二阈值以下，则判定折射元件的光 出射面为清洁的。
9、 根据权利要求8的方法，其特征在于，当折射元件的光出射面 是清洁的并且光盘距折射元件超过近场距离时，第二阈值处于测得的 近场控制信号值的0%到10%的范围之内。
10、 根据权利要求l、 2或3的方法，其特征在于，该近场距离是光 辐射束波长的十分之一。
11、 一种用于扫描光盘的近场光学扫描装置，该装置包括 -前端单元，用于产生前向光辐射束并检测反射的光辐射束以及用于产生近场控制信号；-光学头组件，该光学头组件包括用于将前向光辐射束朝光盘传输 并将从光盘反射的光辐射束朝着该前端单元传输的折射元件；-阈值单元，用于接收来自该前端单元的近场控制信号并且将近场 控制信号与阈值进行比较；-控制单元，用于控制阈值单元和前端单元；其中-近场控制信号与从被折射元件的光出射面内部反射的光辐射束 的强度和对应的入射光辐射束的强度之间的比率成比例；-使该阈值单元能够将测得的近场控制信号与预定阈值进行比较， 并且如果测得的近场控制信号在预定阈值以上，则使该控制单元能够 判定该折射元件的光出射面为清洁的。
12、 根据权利要求ll的近场光学扫描装置，其中由该前端单元产 生的近场控制信号是间隙误差信号(GES)，该间隙误差信号(GES) 与偏振态垂直于入射光辐射束偏振态的反射光辐射束的强度成比例。
13、 根据权利要求12的近场光学扫描装置，其中当该折射元件是 清洁的并且光盘距折射元件超过近场距离时，预定阈值在测得的间隙 误差信号(GES)值的90%到99%的范围之内选择。
14、 根椐权利要求ll、 12或13的近场光学扫描装置，其中进一步 地使该光学头组件(105)能够将该折射元件不对准焦点。
15、 根据权利要求14的近场光学扫描装置，其中使该光学头组件 能够通过移动准直透镜将折射元件不对准焦点。
16、 根据前述权利要求11-15中的任意一个权利要求的近场光学扫 描装置，其中-进一步地使该光学头组件能够将折射元件移动到距光盘达到读 出距离处；-进一步地使该前端单元能够产生光控制信号； -进一步地使该控制单元能够监测光控制信号值，并且如果测得的 光控制信号超过光信号阈值，则判定该折射元件的光出射面为不清洁
17、 根据权利要求16的近场光学扫描装置，其中光控制信号是推 挽信号。
18、 根据前述权利要求11-15中的任意一项权利要求的近场光学扫 描装置，其中-进一步地使该光学头组件能够将折射元件的光出射面与光盘接触；-进一步地使该阈值单元能够将近场控制信号与第二阈值进行比较；-如果测得的近场控制信号在第二阈值以下，则进一步地使该控制 单元能够判定折射元件的出射表面为清洁。
19、 根据权利要求18的近场光学扫描装置，其中当该折射元件的 光出射面是清洁的并且光盘距折射元件超过近场距离时，第二阈值处 于测得的近场控制信号的值的0%到20%的范围之内，优选为在10%以下
20、 根据权利要求ll、 12或13的近场光学扫描装置，其中近场距 离是光辐射束波长的十分之一。
全文摘要
一种检测近场型光学扫描装置的折射元件的光出射面的清洁状态的方法，该方法包含下列步骤产生近场控制信号，该近场控制信号与从折射元件的光出射面内部反射的光辐射束强度和对应的入射光辐射束强度之间的比率成比例；当折射元件的光出射面远离光盘超过近场距离时，测量近场控制信号；将测得的近场控制信号与预定阈值进行比较；如果测得的近场控制信号超过预定阈值，则将折射元件判断为清洁的。
文档编号G11B7/135GK101263556SQ200680033374
公开日2008年9月10日 申请日期2006年9月8日 优先权日2005年9月12日
发明者C·A·弗舒伦 申请人:皇家飞利浦电子股份有限公司