具有用于清洁排气环的机械式清洁元件的cvd反应器的制造方法
【专利摘要】本实用新型首先涉及一种CVD反应器，具有可旋转驱动的基座和的排气机构(4)以及机械式的清洁元件(7)，在排气机构(4)的区域中借助清洁元件(7)通过机械作用可以至少部分地清除在CVD反应器内沉积过程期间沉积的覆层。为了至少局部清除排气机构内壁的覆层，在此建议，清洁元件(7)安置在排气机构(4)的环形通道(5)内并且可通过旋转驱动装置在环形通道(5)内运动，以便清洁环形通道(5)的至少一个内壁或外壁。此外，本实用新型还涉及一种用于CVD反应器的排气机构，具有圆柱形的空心体(4)，其具有进气口和出气口，以及一种用于CVD反应器的排气机构，具有圆柱形的空心体，其具有具备进气口(6)的上壁(27)，朝向上方的、安置在径向外侧的垂直壁(28)与上壁(27)相邻。
【专利说明】具有用于清洁排气环的机械式清洁元件的CVD反应器
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及一种CVD (化学气相沉积）反应器，具有可旋转驱动的基座和围绕 所述基座的排气机构以及机械式的清洁元件，在所述排气机构的区域中借助所述清洁元件 通过机械作用可以至少部分地清除在所述CVD反应器内沉积过程期间生长的覆层。
【背景技术】
[0002] 例如在专利文献US6, 261，408B1或US2012/0027936A1中描述了这种CVD反应器。 在CVD反应器的处理室内进行涂覆处理，其中在由基座支承的基层上离析沉积出较薄的、 均质的、尤其单晶体的III-V-层。处理室位于基座的上方，处理气体被导入其中。这是通 过进气机构的出气口实现的，该进气机构构成处理室的顶盖。基座具有圆形轮廓并且被排 气机构包围。该排气机构具有环形通道，反应气体或者说输送处理气体的运载气体通过环 形通道被输送出处理室。为此，将在排气机构上连接有真空泵。
[0003] 在生长过程中，在排气机构的壁上形成了例如含有镓、铟、砷、磷或者氮的固体物 质的寄生性沉积。专利文献US2012/0027936A1描述了一种机械式清洁元件，借此能够以机 械方式清洁排气环的出气口。
【发明内容】
[0004] 本实用新型所要解决的技术问题是，提供一种装置，借此可以至少局部地移除排 气机构的内壁的覆层。
[0005] 所述技术问题通过按照本实用新型的一种CVD反应器以及一种用于CVD反应器的 排气机构和另一种用于CVD反应器的排气机构得以解决。
[0006] 在此建议一种机械式的清洁元件，所述清洁元件安置在所述排气机构的环形通道 内。因为所述环形通道以圆形布置围绕着所述基座，因此，所述清洁元件可通过旋转驱动装 置在环形通道内运动。所述清洁元件在其移动通过所述排气机构的环形通道的过程中以机 械方式至少对该环形通道内壁的部分区域进行清洁。沉积在该处的覆层在机械作用的路程 中从表面脱落。然后，脱落的覆层可通过气流经由排气机构被输送出。上述机械作用可通 过毛刷、一个或多个刮边或者类似装置来实现。在本实用新型的一种优选设计中，所述机械 式清洁元件借此在环形通道内运动的旋转驱动装置由基座构成。然而，所述旋转驱动装置 也可以是独立的驱动件。所述清洁元件优选具有接合部段。因而形成接合元件，所述接合 元件可与旋转驱动元件、例如基座的对应接合元件相接合，以便所述驱动元件的旋转使所 述清洁元件运动穿过所述环形通道。在本实用新型的一种优选设计中，所述基座在沉积过 程步骤中处于上方位置。安置在所述基座上方的处理室具有由进气机构构成的顶盖。所述 进气机构具有多个均勻布置在其朝向所述处理室的底侧的出气口，一种或多种处理气体可 通过该出气口进入由下方或者但也可由上方加热的处理室中。这些含有铟、镓、氮、磷或者 砷元素的处理气体在所述处理室内分解，使得含有第III主族和第V主族元素的层被离析 沉积到套装在基座上的基层上。然而，覆层也可能含有第IV主族元素或第II和VI主族元 素。在排气环内形成凝聚。在所述环形通道的内壁上构成寄生性沉积。当所述基座在结束 沉积过程后从上方位置下降至下方位置时，安置在圆盘形基座的外缘上的对应接合元件便 与所述清洁元件的接合元件相接合。当所述基座旋转时，便带动所述清洁元件。因此，所述 基座或者另一个旋转驱动件可通过垂直移动与所述清洁元件如此接合，使得在旋转驱动元 件围绕垂直轴旋转运动时带动清洁元件。所述清洁元件的接合元件可设置在臂杆上。该臂 杆固定地与所述清洁元件的清洁体相连接并且穿过环形通道的从环形孔伸出，所述环形孔 在沉积过程中构成出气口，来自处理室的气体通过该出气口进入所述环形通道内。位于所 述环形通道内的清洁体可以是刮板或者毛刷。其具有刷毛或者其他类型的机械式清洁辅助 元件，借此能够机械式地接触作用于环形通道内壁的表面上。所述清洁元件的截面轮廓基 本与环形通道的截面轮廓相匹配。但所述清洁元件也可设计为T型或环型。所述接合元件 或对应接合元件可由嵌入凹口的凸起构成。但所述对应接合元件也可以仅构成唯一一个凸 起，该凸起仅沿旋转方向与所述清洁元件的接合元件相接。此外还规定，所述清洁元件可通 过两个相对应极化的磁体与旋转驱动元件、例如与所述基座相接合。为此，清洁元件和旋转 驱动元件均分别具有一个相互吸引的磁体。所述清洁元件可永久安置在所述环形通道内。 清洁元件可这样处于环形通道内，使得可被更换。此外，在排气机构的环形通道内在各自不 同的外缘位置上可以布置多个清洁元件。
[0007] CVD反应器的排气机构具有至少一个导气管，所述环形通道、即被排气机构环绕包 裹的空腔通过导气管与真空泵相连接。所述导气管连接在所述环形通道底部的开口上。与 排气机构的内壁一样，所述导气管的直接连接到所述环形通道上的部段同样也有覆层。为 了清除这些覆层，可设置可步进式旋转驱动的插入件。这优选通过掣子实现，所述掣子啮合 在插入件的多个驱动凸起中的一个上。所述插入件可以是管件，其可旋转地被设置在导气 管内。所述驱动凸起可突出于所述环形通道的底部。所述掣子可由清洁元件构成。所述掣 子与所述驱动凸起中的一个相啮合，并且推动该凸起继续移动一段特定的距离。构成插入 件的管件随之部分转动。在一种优选的设计方案中，所述插入件由支架支承，所述支架由从 导气管的内壁突出的凸起构成。此外还可设置臂杆，其相对于所述插入件的旋转轴沿轴向 延伸，并且贴靠于插入件的内壁。所述臂杆接触地或以极小的间隔靠近所述插入件的内壁， 因而在所述插入件部分转动时所述臂杆沿着插入件的内壁滑动。可能沉积在该处的覆层就 由此以机械方式被清除。清洁元件的多次转动导致插入件完全旋转。
[0008] 此外，本实用新型还涉及一种排气机构的扩展方案，其应用于CVD反应器，其位置 固定地安置在处理室的径向外部区域并且围绕着尤其可旋转的基座。所述排气机构由环形 的空心体构成并且在其朝向上方的上壁上具有设计为缺口的进气口。一个或多个出气口可 配属在所述空心体的底部。这些出气口分别与导气管相连接。通过所述出气口，将通过所 述进气口被吸进空心体内的气体输送出去。设计为缺口的进气口使得所述清洁元件沿周向 在空心体外部运动。在本实用新型的一种扩展方案中规定，所述进气口为井状构造，其两侧 是两个倒圆的壁。这两个壁之间的间隔可沿着朝向所述排气机构的空腔的方向不断变大。 所述井状构造的两个相对的壁是平滑壁。两个壁之一呈凹形弯曲，并且配属空心体的外壁。 另一个壁为凸形弯曲。将所述空心体下部的同样为凹形弯曲的壁连接在所述凹形弯曲的壁 上。由此，沿着所述空心体的空腔的外壁构成层状流。这种层状流构成稳定的涡流，该涡流 具有沿周向延伸的涡流轴。
[0009] 此外，本实用新型还涉及一种具有上壁的排气机构，朝向上方的垂直壁在径向外 侧连接在上壁上。缺口形状延伸的进气口位于基本水平延伸的上壁和垂直壁之间的角部区 域内。根据本实用新型的另一个方面，具有上壁和向上延伸的且安置在径向外部的垂直壁 的排气机构被这样扩展设计，使得凸缘在径向内侧从上壁突起向上延伸。所述凸缘构成环 绕排气机构延伸的环形槽的凹槽壁，环形槽的底部构成所述空心体的上壁，并且环形槽的 另一个凹槽壁构成所述垂直壁。所述基座的垂直壁位于该凸缘的径向内侧。所述排气机构 的上壁处于比所述基座的上方水平表面更低的水平面上。当基座被旋转驱动时，贴靠在基 座上的基层可能脱开并且由于离心力而被甩向径向外部。基层掉入排气机构的垂直壁与基 座的径向外部的侧壁之间的间隙中。因为所述基座以及侧壁被旋转驱动，因此在没有凸缘 的情况下，所述基层的碎片就可能导致卡死，并且导致所述排气机构或基座受损。借助本实 用新型建议的凸缘，基层碎片被容纳于上述环形槽内并在此固定。
【专利附图】
【附图说明】
[0010] 以下结合附图进一步阐述本实用新型的实施例。在附图中：
[0011] 图1示出剖切CVD反应器的反应器外壳1的剖面示意图，所述CVD反应器具有旋 转对称的结构设计，其中基座2显示在升高的、上方位置；
[0012] 图2示出根据图1的视图，其中基座2已下降到与清洁元件7的接合位置；
[0013] 图3示出沿剖切线III-III剖切所得的剖面图；
[0014] 图4示出本实用新型的第二实施例，其中仅示出环形通道5部分，在其中安置有T 型的清洁元件7 ;
[0015] 图4a示出在其中插入了清洁元件7的第二实施例的排气机构4的局部俯视图；
[0016] 图5示出本实用新型的第三实施例，其中清洁元件7借助两个磁体14、15与基座 2转动连接；
[0017] 图6示出本实用新型的第四实施例，其中所述清洁元件7设计为刷毛；
[0018] 图7示出本实用新型的第五实施例，其中所述清洁元件7的清洁体被设计为与环 形通道5的内轮廓相应的环型；
[0019] 图8示出第六实施例的示意图，接合元件9设计有所属的对应接合元件10，由此使 基座2的转运可以传递给清洁元件7 ;
[0020] 图9示出第七实施例的视图，其与图3类似，但共包括三个均匀角度分布的清洁元 件7 ;
[0021] 图10示出本实用新型的第八实施例；
[0022] 图11示出本实用新型的第九实施例；
[0023] 图12示出图10中所示的第九实施例，具有落入环形通道内的基板碎片；
[0024] 图13示出本实用新型的第十实施例；和
[0025] 图14示出本实用新型的无清洁元件的第十实施例；
[0026] 图15示出剖切第i^一实施例的导气管所得的剖面图；
[0027] 图16示出沿图15中的剖切线XVI-XVI剖切所得的剖面图。
【具体实施方式】
[0028] 在附图中仅示意性地示出所述CVD反应器。其具有反应器外壳1，所述反应器外壳 例如可由不锈钢构成并且将反应器外壳的内部气密地与外部环境隔离开来。在反应器外壳 1内设有喷头状的进气机构3,通过输入管道给所述进气机构提供处理气体。所述进气机构 3在其底侧具有多个在底侧上均匀分布的输出孔，含有一种或多种处理气体的气体可通过 所述输出孔从进气机构3的空腔被输进布置在所述进气机构3下方的处理室内。所述处理 室的底部由在垂直方向上可借助升降元件12位移的基座2构成。所述基座2是一种在覆 层处理中多个待涂覆的基层的支座。具有圆盘形状的基座2被环形的排气机构4包围着。
[0029] 所述排气机构4具有开孔6,所述开孔由圆环形的孔隙构成，并且在基层涂覆过程 中，通过所述开孔输送处理气体的载流气体、但也包括未冷凝的、尤其是未使用的处理气体 会进入排气机构4的环形通道5内。环形通道5通过至少一个导气管29与未示出的真空 泵相连接。设置旋转驱动装置，其上安置有基座2的支座11的轴13可通过所述旋转驱动 装置转动。旋转轴13处于所述处理室的对称轴上。因此，排气机构4就被布置为与该旋转 轴13同轴。
[0030] 为了至少部分地移除在沉积过程中在环形通道5内、但也在环形孔6的范围内所 离析沉积出的覆盖物，设置有清洁元件7。所述清洁元件7通过清洁体伸入环形通道5内。 在图1至3中所示的清洁元件7具有臂杆，所述臂杆从环形孔6中伸出并且平行于排气机 构4的内部侧壁向下延伸。所述臂杆8在其下方的自由端上具有接合元件9。基座2在其 下方的边缘上具有对应接合元件10。在图1所示的位置上，其中，所述基座2置入其覆层 处理位置，接合元件9与对应接合元件10相互分离。当在该工作位置上旋转基座2时，这 是沉积形成均匀覆层所必需的，则清洁元件7未被一同带动。为了使得清洁元件7穿过环 形通道5移动，基座2被降至图2所示位置上，其中接合元件9与对应接合元件10相接合。 在此，臂杆8的朝向径向内部的凸起就嵌入基座2的边缘的切口中。现如果基座2围绕旋 转轴13转动，则清洁元件7就被一同带动。清洁元件7在圆环形的移动轨道上移动穿过环 形通道5,其中，清洁元件7的清洁体接触到环形通道5内壁上的覆盖物并且以机械的方式 至少部分移除这些覆盖物。
[0031] 为了实现这种机械作用，清洁元件7可被设计为刮板或者毛刷。为此清洁元件7具 有刮边或者刷毛，所述刮边或刷毛会在清洁元件7移动时以机械的方式接触环形通道5壁 的表面。
[0032] 图4中所示的实施例示出了清洁元件7的一种具有T型的清洁体。该T型是翻转 的，因此T型的两条侧边机械式地作用于环形通道5的底部。T型的坚边垂直向上伸出并且 部分穿过环形孔6。该T型的坚边连同该处在截面上呈梯形的区域一起构成了接合元件9， 所述接合元件9能够以适合的方式与基座2的对应接合元件10或者与另一个旋转驱动元 件相接合。
[0033] 图5中所示的清洁元件7接触环形通道5的侧壁。该清洁元件7具有磁体14。基 座2具有磁体15,当基座2或者磁体15进入相应的位置时，所述磁体15即对磁体14施加 磁吸引力。例如当基座2下降时，磁体14、15就可相互吸引。但是，磁体15也能够以旋转 移动或者其他移动方式配属基座2,使得磁体15在位移或旋转后的位置中对磁体14不施加 吸引力。因此，只有当两个磁体14、15通过排气机构4的壁相互吸引时，才会旋转着带动清 洁元件7。磁体15也可被固定在自身的旋转驱动件上。
[0034] 图6中所示的实施例示出了排气机构4,其中，环形通道5具有圆形的截面。清洁 元件7的安置在环形通道5内的清洁体具有三个刷臂16,机械式地作用于环形通道5的内 壁的刷毛被布置在这些刷臂上。所述刷臂16被固定在臂杆8上，该臂杆的末端构成了可与 基座2的对应接合元件10相接合的接合元件9。
[0035] 在如图7所示的实施例中，仅示出清洁元件7的清洁体。该清洁体与环形通道5 的矩形内轮廓相符。该清洁体被设计为环形的刮板。圆环朝向排气机构4的环形孔6是张 开的，因此，臂杆8例如可在该处被插入其中，清洁元件7的清洁体通过臂杆8可被旋转带 动。
[0036] 图8示出接合的变型方案，基座2通过该接合方式可以与机械的清洁元件相接合。 清洁元件7具有以径向向内突出的凸起为形式的接合元件9。基座2则具有径向向外突出 的凸起，该凸起构成对应接合元件10。当基座2逆时针方向旋转时，对应接合元件10对处 于其移动轨道上的接合元件9施加作用，并且沿旋转方向带动清洁元件7。
[0037] 图9示出一种变型方案，其中不仅是一个、而是总共三个清洁元件7以均匀角度分 布于排气机构4的环形通道5内。三个清洁元件7中每一个均具有径向向内突出的构成接 合元件9的凸起。基座2具有共三个以均匀角度分布在径向向外方向上的延伸的凸起，这 些凸起分别构成对应接合元件10。当基座2旋转时，每个对应接合元件10带动一个接合元 件9,从而三个清洁元件7同时移动穿过环形通道5。也可通过基座2同时带动少于三个或 者多于三个的清洁元件7。各个清洁元件7可具有各自不同类型的清洁体。凸起9还可嵌 入基座边缘的凹槽中，使得凸起9形状接合地与基座2旋转接合。
[0038] 图10示出本实用新型的第八实施例，其中，排气机构4被设计为多件式。排气机 构4的下部19构成了环形的盆，所述盆与两个居中的部分18、18'相连接，从而构成设计 有上壁的空心体，所述上壁又构成环绕着延伸的切口。该切口构成环形孔6。所述环形孔6 为进气口，气体可通过该进气口进入所述空心体内。排气机构4具有未示出的出气口，所述 出气口连接到真空泵上，以便能够通过所述环形孔6吸气。
[0039] 中间部件18与上部部件17相连接，所述上部部件17构成垂直壁28。垂直壁28 基本在排气机构4的径向外侧上延伸。
[0040] 在排气机构4的径向内侧上设有旋转驱动的基座2,所述基座具有上部基座板21， 所述基座板构成垂直面，基层被放置在该垂直面上。所述基座具有两个圆环形的垂直壁部 段22、23,这两个部段平行于排气机构4的垂直壁28延伸。
[0041] 标记为7的清洁元件可以通过接合元件9与基座2旋转随动地接合。清洁元件7 穿过环形孔6伸进空心体内。
[0042] 设置凸缘20,所述凸缘平行于垂直壁28延伸并且被布置在排气机构4的径向内侧 上。所述凸缘20连同上壁27和垂直壁28-起构成环形槽。
[0043] 图12示出了由基座2的上侧面脱离的基层的碎片24,该碎片由于离心力的作用被 甩向垂直壁28的方向。碎片24掉进基座2的壁22'与垂直壁28之间的壁27下方的间隙 内。因为碎片24掉入位于凸缘20与垂直壁28之间的环形槽内，所以就不会与基座或者基 座外壁22'形成可能导致损坏的任何接触。
[0044] 图11中所示的第九实施例与图10所示的实施例基本相符。凸缘20的径向朝向 外的壁在此为圆形并且没有任何拐点地跨接倾斜延伸的上壁27。清洁元件7也与图10中 所示的实施例一样，不仅能够清洁所述空心体的内壁，也能清洁排气机构4的外壁。清洁元 件7具有清洁侧壁，所述侧壁被成型于凸缘20与垂直壁28之间的环形槽的轮廓上。
[0045] 前述实施例所涉及的排气机构4具有基本为J型的截面，而图13作为第十实施例 则示出一种具有G型截面的排气机构4。上壁27为所述空心体的径向内壁的隆起。由图 14中可以看出，环形孔6来源于上壁27与垂直壁28之间的角部区域。所述环形孔6是围 绕着排气机构4的整个外围的环形井状构造形式的进气口。所述井状构造具有弯曲的井壁 25、26,其中，空心体的外壁被设计为凹形井壁25,空腔的同样凹形弯曲的壁19'与该井壁 25相连接。壁25、19'无拐点地相互交叉。
[0046] 由上壁27的隆起构成凸状的井壁26,所述井壁同样没有任何拐点。所述两个弯曲 的壁25、26构成进气的井状构造6,其井宽向着朝空心体的方向不断递增。
[0047] 图13中所示的清洁元件7具有嵌入环形孔6中的隆起。在此，清洁元件7可经由 磁体14、15与基座2相接合，以便在需要时沿排气机构4的切线方向一同拖动。
[0048] 图15和16中所示的第i^一实施例示出导气管29,所述导气管与排气机构4的空 心体的底部相连接，以便将气体从所述排气机构中吸出。在导气管29的直接与排气机构4 相接的部段内插入管状的插入件30。在此涉及具有内壁的插入件，该内壁在CVD反应器运 行时可能被覆盖。
[0049] 多个驱动凸起31以均匀的角度分布从管状插入件30的上部端面边缘突起。所述 驱动凸起31伸入掣子32的移动轨道中，所述掣子在切线方向上可通过环形通道5使排气 元件移动。所述掣子32大致相切地啮合在处于其移动轨道上的驱动凸起31上，以便在所述 掣子32的移动方向上一同带动该驱动凸起。这是伴随着插入件30的部分转动所发生的。 驱动凸起31之一的相应的多次联动使得插入件30完全转动。
[0050] 插入件30支承在支架33上。在实施例中，所述支架33是由导气管29的内壁突 出的凸起所构成的。
[0051] 设置清洁臂杆34,其在本实施例中从由导气管29的内壁所突出的凸起上突出来。 所述清洁臂杆34沿着插入管30的内壁延伸。清洁臂杆34与该内壁具有极小的间隔或者 与该内壁接触地贴靠。臂杆34在插入管30的整个轴向长度上延伸，使得其能够机械式地 移除在插入管30的内壁上所构成的沉积。
[0052] 所有公开的特征（本身）都有发明意义或发明价值。在本申请的公开文件中，所 属/附属的优先权文本（在先申请文件）的公开内容也被完全包括在内，为此也将该优先 权文本中的特征纳入本申请的权利要求书中。从属权利要求中的那些可选择的并列设计方 案都是对于现有技术有独立发明意义或价值的改进设计，尤其可以这些从属权利要求为基 础提出分案申请。
[0053] 附图标记列表
[0054] 1 反应器外壳
[0055] 2 基座
[0056] 3 进气机构
[0057] 4 排气机构
[0058] 5 环形通道
[0059] 6 环形孔
[0060] 7 清洁元件，机械式
[0061] 8 臂杆
[0062] 9 接合元件
[0063] 10 对应接合元件
[0064] 11 支座
[0065] 12 升降元件
[0066] 13 旋转轴
[0067] 14 磁体
[0068] 15 磁体
[0069] 16 刷臂
[0070] 17 部件
[0071] 18,18' 部件
[0072] 19 部件
[0073] 19' 弯曲的壁
[0074] 20 凸缘
[0075] 21 部件
[0076] 22 部件
[0077] 22' 基座外壁
[0078] 23 部件
[0079] 24 碎片
[0080] 25 壁
[0081] 26 壁
[0082] 27 上壁
[0083] 28 垂直壁
[0084] 29 导气管
[0085] 30 插入件
[0086] 31 驱动凸起
[0087] 32 掣子
[0088] 33 支架
[0089] 34 臂杆
【权利要求】
1. 一种CVD反应器，具有可旋转驱动的基座和围绕所述基座的排气机构（4)以及机械 式的清洁元件（7)，在所述排气机构（4)的区域中借助所述清洁元件（7)通过机械作用可以 至少部分地清除在所述CVD反应器内沉积过程期间所沉积的覆层，其特征在于，所述清洁 元件（7)安置在所述排气机构（4)的环形通道（5)内并且可通过旋转驱动装置在所述环形 通道（5)内运动，以便机械地清洁所述环形通道（5)的至少一个内壁或外壁。
2. 根据权利要求1所述的CVD反应器，其特征在于，所述旋转驱动装置是所述基座（2) 的旋转驱动装置。
3. 根据权利要求1或2所述的CVD反应器，其特征在于，设置有接合元件（9,10)，所述 清洁元件（7)通过所述接合元件（9,10)可以与所述基座（2)相接合。
4. 根据权利要求3所述的CVD反应器，其特征在于，所述清洁元件（7)的接合元件（9) 通过所述基座（2)的降低可与所述基座（2)的对应接合元件（10)如此接合，使得所述清洁 元件（7)通过所述基座（2)的旋转而移动穿过所述排气机构（4)的环形通道（5)。
5. 根据权利要求3所述的CVD反应器，其特征在于，所述清洁元件（7)具有臂杆（8)，所 述臂杆⑶延伸穿过所述排气机构⑷的环形孔（6)并且所述臂杆⑶构成接合元件（9)， 被旋转驱动的部件（2)的对应接合元件（10)啮合在所述接合元件（9)上。
6. 根据权利要求1所述的CVD反应器，其特征在于，所述清洁元件（7)是刮板或者毛 刷。
7. 根据权利要求1所述的CVD反应器，其特征在于，所述清洁元件（7)具有T型结构。
8. 根据权利要求1所述的CVD反应器，其特征在于，所述清洁元件（7)借助两个相吸引 的磁体（14,15)的吸引力耦连接合在旋转驱动的部件（2)上。
9. 根据权利要求1所述的CVD反应器，其特征在于，所述清洁元件（7)被设计为环形。
10. 根据权利要求1所述的CVD反应器，其特征在于，插入件（30)置入所述排气机构 (4)的导气管（29)中，所述插入件（30)尤其可以被所述清洁元件（7)步进式驱动旋转。
11. 根据权利要求10所述的CVD反应器，其特征在于，所述插入件（30)具有伸进所述 环形通道（5)内的驱动凸起（31)，所述驱动凸起（31)可以尤其被所述清洁元件（7)的掣子 (32)带动。
12. 根据权利要求10所述的CVD反应器，其特征在于，所述设计为内管的插入件（30) 支承在支架（33)上，和/或臂杆（34)沿轴向延伸地贴靠在所述插入件（30)的内壁上。
13. -种用于CVD反应器的排气机构，具有圆柱形的空心体（4)，所述空心体（4)具有 进气口和出气口，其特征在于，所述进气口（6)被设计为沿环周方向开口的缝隙。
14. 根据权利要求13所述的排气机构，其特征在于，所述进气口（6)是井状构造，两个 倒圆的壁（25, 26)构成其侧壁面。
15. 根据权利要求14所述的排气机构，其特征在于，与配备所述进气口（6)的所述空心 体（4)的上壁（27)相邻地设有朝向上方的垂直壁（28)，所述进气口（6)的进气面处于所述 上壁（27)和垂直壁（28)之间的角部区域内，和/或，所述两个平滑延伸的壁（25,26)的间 距向着所述空心体（4)内部的方向持续扩大，其中尤其规定，凹形弯曲的壁部段（19'）连接 在凹形弯曲的壁（25)上，所述壁部段（19'）平滑地延展到所述空心体（4)的底部壁中。
16. -种用于CVD反应器的排气机构，具有圆柱形的空心体，所述空心体具有具备进气 口（6)的上壁（27)，朝向上方的、设置在径向外侧的垂直壁（28)与所述上壁（27)相邻，其 特征在于，在径向内侧设置有在所述上壁（27)上成型的、朝向上方的凸缘（20)，所述凸缘 (20)尤其与所述垂直壁（28)的下部部段和所述上壁（27)共同构成环绕所述排气机构的整 个圆周延伸的环形槽。
【文档编号】C23C16/44GK203878207SQ201320897426
【公开日】2014年10月15日 申请日期:2013年12月6日 优先权日:2012年12月6日
【发明者】H·希尔瓦, P·莱嫩 申请人:艾克斯特朗欧洲公司