一种基于相位载波调制的光纤硅微传声器系统的制作方法

文档序号:6877165阅读:487来源:国知局
专利名称:一种基于相位载波调制的光纤硅微传声器系统的制作方法
技术领域
本发明涉及微机电器件技术领域,具体地说,本发明涉及一种基于相位载波调制的光纤硅微传声器系统。
背景技术
传声器,又称为麦克凤(Microphone的译音),是一种将语音信号转换成电 信号的装置,它广泛应用于我们生活中。对应于不同的应用需求和场合,出现了 多种传声器,如驻极体传声器、硅微电容传声器和光纤传声器等。驻极体传声器、硅微电容传声器是民用消费电子产品中应用最为普遍的传声 器,如手机、录音机、耳机、计算机和PDA (个人数字助理)等等,它们都是声 一电转换装置,也就是将声波声压的变化转换成电压的变化,这些传声器通常由 电容芯片、金属外壳和放大电子电路组成,因此,在有些应用场合的应用中受到 一定的限制,如强电场、强磁场或强射频场环境中不适合。而光纤传声器是将声波信号转换成调制的光学信号,并通过光纤传输,再将 调制的光信号解调成电信号的一种装置。光纤传声器一般包括传感头和电子电路 系统两个独立的部分,这两个部分通过光纤连接。由于在其传感头部分没有电信 号的转换,也没有电子电路,即传感头部分既不产生电磁信号,也不受电磁信 号的干扰,因此,可以应用于强电场、强磁场或强射频场环境中,如核磁共振成 像(MR工)和CT (计算机X射线断层扫描)医学成像中,也可以用于国家安全侦 听设备中。光纤传声器的调制方式一般有光强度调制、相位调制和偏振调制等, 采用光强度调制的传声器系统一般比较简单,但在灵敏度、信噪比和动态范围指 标上,没有采用相位调制的光纤传声器系统好。另外,光纤传声器在低频响应、 频带宽度、抗振动等方面也优于传统的传声器。已知的光纤传声器是以色列Phone-0r公司(参考网址:w丽.phone-or com ) 研制的光纤光学传声器(Fiber Optical Microphone,简称F0M),在其公司的白 皮书中,详细介绍了 FOM的原理和性能。Phone-Or公司的光纤光学传声器(FOM) 采用LED (发光二极管)作为光源,传感头中光信号的输入和输出通过两根不同 的光纤与远处的电子系统连接。來自LED光源的输入光纤通过一个光学透镜将光 束照射到传感振动膜的中心区域,当振动膜接收到语音信号而振动时,振动膜中 心区域反射光的强度将发生变化,此反射光信号将通过输出光纤传递给远方的电 子系统。这种通过调制光的强度而实现光传感的方法,优点是比较简单,对光源 和电子系统的要求比较低,例如一般的发光二极管LED就能满足要求,但这样的 系统也有一些不足之处1) 由于这个系统的信噪比(SNR)正比于发光二极管LED电流的平方根, 要提高信噪比(SNR)就要大幅度地提高发光二极管LED的电流,或使用更大功 率的LED,因此,对于要求大信噪比(SNR)的情况下,很难满足要求。2) 由于使用光强度调制的传感器灵敏度比较别的调制方式如光相位调 制等的灵敏度低,动态范围也比光相位调制系统的小,因此,在对灵敏度和动态 范围要求较高的情况下,用光强度调制的传感技术不能满足要求。发明内容本发明的目的在于克服现有技术中信噪比和灵敏较低、动态范围小的不足之 处,从而提供--种基于相位载波调制的光纤硅微传声器系统。为实现上述发明目的,本发明提供的基于相位载波调制的光纤硅微传声器系统,如图1所示,包括激光光源、光纤、光纤耦合器、传声器探头、光电探测器; 其特征在于,所述激光光源是-一种相位载波调制的激光光源100;所述光纤包括输入光纤200、传输光纤400、输出光纤600;所述光纤耦合器300通过所述输入光纤 200与所述相位载波调制的激光光源100连接,并通过所述传输光纤400与所述传 声器探头500连接,并通过所述输出光纤600与所述PIN光电探测器700连接;所 述PIN光电探测器700与相位载波调制信号电子解调系统800通过电线或电缆连接; 所述传声器探头500包括梯度透镜和带有反光区域的振动膜,所述梯度透镜的出射 端面和振动膜上的反光区域平行放置,构成激光斐索干涉腔。上述 技术方案中,所述相位载波调制的激光光源100至少包括一个半导体激 光器和一个产生调制电流的振荡器,在额定的发光功率范围内,所述半导体激光 器输出的激光光频随调制电流线性变化。上述技术方案中,所述输入光纤200、输出光纤600和传输光纤400均为单 模光纤。上述技术方案中,所述光纤耦合器300是一种将注入光束分成光强相等的两
束光的耦合器。上述技术方案中,所述光电探测器是一种由PIN光电二极管组成的光电转换电路。上述技术方案中,所述相位载波调制信号电子解调系统800是一种将载波调制信号中的音频信号解调出来的电子信号处理系统。上述技术方案中,传声器探头500还包括斐索干涉腔支架505和MEMS传感 芯片;所述斐索干涉腔支架505制作在MEMS传感芯片硅基片的上表面或下表面 上,构成一个圆柱形的斐索干涉腔,所述梯度透镜506固定在斐索干涉腔支架上, 该梯度透镜506通过尾纤508与传输光纤400连接;所述反光区域制作在MEMS 传感芯片的振动膜上。本发明具有如下有益效果1) 由于本发明的光纤传声器探头没有电子电路和金属封装的外壳,它 在使用时可以通过光纤连接,所以它既不产生电磁信号,也不受电磁信号的干扰, 因此,可以应用于强电场、强磁场或强射频场环境中,如核磁共振成像(MRI) 和CT医学成像中,也可以用于国家安全侦听设备中。2) 由于使用相位载波调制的激光作为光源并在光纤MEMS传感探头中应 用了梯度透镜,因此,本发明在灵敏度、动态范围和信噪比等方面要比使用光强 度调制的传感器要好很多。3) 本发明的光纤MEMS传声器在低频响应、频带宽度、抗振动等方面也 优于传统的驻极体传声器。由于采用了 MEMS振动膜,(MEMS: Micro-electromechanical Systems,微 机电系统)因此,整个光纤MEMS传声器探头可以制作得非常小,也可以实现一 体化集成。


图1是基于相位载波调制的光纤硅微传声器系统原理图; 图2是相位载波调制的激光光源电路原理图 图3是光纤硅微传声器探头实例1 图4是光纤硅微传声器探头实例2 图5是光纤硅微传声器探头实例3图6是相位载波调制(PGC)信号的模拟电路解调方案 图7是相位载波调制(PGC)信号的数字DSP解调方案 图8是数字DSP解调方案中的程序流程图具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式
对本发明作进一歩详细描述。实施例1:图1示出了本发明的一个实施例的原理性框图。本发明即一种基于相位载波调制的光纤硅微传声器系统1000,包括相位载波调制的激光光源100、输入光纤 200、 3dB光纤耦合器300、传输光纤400、光纤MEMS传声器探头500、输出光纤 600、 PIN (p-!'-n photodiode,即由半导体p惨杂一本征一n掺杂构成光电二极管) 光电探测器700和载波调制信号电子解调系统800。所述的3dB光纤耦合器300 分别与所述的相位载波调制的激光光源100、所述的光纤MEMS传声器探头500 以及所述的PIN光电探测器700通过所述的输入光纤200、所述的传输光纤400 以及所述的输出光纤600连接。所述的PIN光电探测器700与所述的PGC载波调 制信号电子解调系统800通过电线或电缆连接。本发明的工作原理是这样的所述的光纤MEMS传声器探头500至少包括一 个梯度透镜(也称自聚焦透镜)和一个带有反光区域(或称反光斑点)的MEMS 振动膜,梯度透镜的出射端面和MEMS振动膜上的反光区域(或称反光斑点)平 行放置,构成激光斐索(Fizemj)干涉腔。所述的梯度透镜作为出射光的准直透 镜和来自所述的MEMS振动膜上的反光区域(或称反光斑点)反射光的会聚透镜。 所述的梯度透镜出射端面镀有反射膜,以反射一部分入射光作为参考臂(即没有 包含传感信息的光信号走过的路径)光信号,而信号臂(即包含传感信息的光信 号走过的路径)的长度是所述的MEMS振动膜上的反光区域(或称反光斑点)与 所述的梯度透镜出射端面的距离。当所述的MEMS振动膜接收到变化的声压时, 其上的反光区域(或称反光斑点)将产生微小的位移,此微小的位移将调制反射 光的相位。这样,来自参考臂的光信号和来自信号臂相位调制的光信号形成干涉, 所产生的干涉光信号通过所述的传输光纤400、 3dB光纤耦合器300和所述的输 出光纤600传输到所述的PIN光电探测器700,并被其转换成载波调制的电信号, 此电信号被所述的PGC载波调制信号电子解调系统800解调出来,得到对应于声 压变化的电信号。为了提高所述光纤硅微传声器系统1000的灵敏度和扩大动态
范围,所述光纤MEMS传声器探头500的入射光信号来自所述相位载波调制的激光光源100。所述相位载波调制的激光光源100至少包括一个高稳定度的激光器(如DFB 半导体激光器)和一个产生调制信号的振荡器,且激光器的波长(频率)与输出 光功率有关,即与注入激励电流有关。在一定的发光功率范围内激光器光源输出 的光频随调制电流近似线性变化。每种光源都有自己特有的频率调制指数和相对 频率调制指数。所述的高稳定度激光器和所述的振荡器一起,产生一个周期性调 制的激光信号。此载波调制的激光信号输出时,如果所述的输入光纤200为保偏 光纤,可以通过一个偏振片后传输给所述的输入光纤200, 一般情况下,也可以 省去所述的偏振片。所述的输入光纤200、输出光纤600和传输光纤400为单模光纤,可以是保偏 单模光纤,也可以非保偏的单模光纤。这些光纤的作用是保证光信号低损耗传输。所述的3dB光纤耦合器300是一种广义的光耦合装置,它的作用是将所述相 位载波调制的激光光源100的光信号耦合到所述传输光纤400中,并将来自所述 光纤MEMS传声器探头500的反射光信号耦合到所述输出光纤600中。所述的3dB 光纤耦合器300可以是2 x 1光纤耦合器,也可以是2 x 2光纤耦合器,它将注 入的光束分成光强为1: 1的两束光。对于使用2 x 2光纤耦合器的情况, 一束 注入到所述2 x 2光纤耦合器的光是来自所述相位载波调制的激光光源100的光 信号,它经过所述输入光纤200与所述2x2光纤耦合器连接,分出的两束光中, 其中一束到所述传输光纤400,光的传播方向是从所述2 x 2光纤耦合器到所述 光纤MEMS传声器探头500,而另一束分出的光没有用(本发明没有画出),可以 连接到光吸收端头,也可以什么都不接。另一束注入光是来自所述光纤MEMS传 声器探头500的反射光,光的传播方向从所述光纤MEMS传声器探头500到所述 2 x 2光纤耦合器,分出的两束光,一束进入所述输入光纤200, 一束进入所述 输出光600。所述的PIN光电探测器700是一种广义的光强检测装置,它将接收到的 光信号转换成与光强度成正比的电信号。它一般是由PIN光电二极管组成的 光电转换电路。所述的PGC载波调制信号电子解调系统800是广义的电子信号处理系统,它 的功能就是将PGC载波调制信号中的音频信号解调出来。能够完成解调的方案一 般有两种,即模拟电子电路解调方案和数字信号处理DSP解调方案。所述的模拟电子电路解调方案是指利用模拟电路的乘法、滤波、微分、积分等模拟运算,完 成PGC载波调制信号的解调;所述的数字信号处理DSP解调方案是指将模拟信号经过A/D转换进行量化,通过数字信号处理DSP的软件运算,实现数字解调,然 后,再通过D/A转换将数字解调信号转换成相应的模拟解调信号。本实施例给出的是用MEMS振动膜传感音频信号的实例,但从工作原理可知,本发明和本实施例并不限于呢MS振动膜,也可以是别的电容式传感芯片的振动 膜,如有机膜振动膜电容传声器的有机振动膜、金属膜电容传声器的金属振动膜 等,只要是振动膜的中心区域有一能够反射光的区域即可。实施例2-图2示出了本发明的一个实施例,尤其给出了所述相位载波调制的激光光源 100的详细电路图。所述相位载波调制的激光光源100包括信号源105、运算放大器A1、晶体三 极管Q1、 DFB激光器L1、齐纳二极管Dl和若干电阻、电容等。放大器A1的负 输入端接反馈信号,该放大倍数可由反馈电阻R6、接地电阻R5的阻值之比决定。直流电压源通过可变电阻Rl产生一个可调节的直流电压,信号源105产生 一个交流调制信号,所述直流电压和一个交流调制信号通过ttl直流支路电阻R2、 交流支路电阻R3、接地电阻R4组成的加法电路叠加在一起,然后接入所述运算 放大器Al的输入端。其中接地电阻R4的阻值范围是直流支路电阻R2的10 倍,同时也是交流支路电阻R3的10 100倍,直流支路电阻R2与交流支路电阻 R3的阻值一般相等,但也可以不等。所述运算放大器A1将来叠加信号同比例放大,放大倍数一般为1 10倍。 放大器A1的输出端和所述晶体三极管Q1的基极相连,通过连接在所述晶体三极 管Ql发射极上的射极电阻R7将电压转换成比例的发射极电流,此电流通过所述 晶体三极管Ql的集电极控制所述DFB激光器Ll的激励电流。所述的直流电压用 于确定所述DFB激光器的输出功率,而所述信号源105的交流信号用于周期性地 调制所述DFB激光器的输出光强,并在一定范围内改变输出光信号的频率。所述 DFB激光器一般都有内置的梯度透镜(GRIN Lens简称GL),将产生的激光通过 梯度透镜耦合到输出光纤200中。所述运算放大器Al的输出端还接有反馈电阻 R6然后接入运算放大器Al的负输入端,该负输入端同时接有一个接地电阻R5。 一般来讲,所述信号源105交流信号的幅度与所述的直流电压值的比值在1 % 80%之间,其频率至少大于所述光纤硅微传声器系统的传感音频信号带宽的 2倍,例如,传感音频信号的频率为10KHz,则所述信号源105交流信号的频率至 少要大于20KHz。另外,本实施例中,在晶体三极管Ql集电极还接有一个齐纳 二极管Dl,所述的齐纳二极管Dl的作用是在开关电源或在所述DFB激光器Ll 反向偏置时保护所述DFB激光器L1。电容C1是稳压电容,主要滤去来自电源的 交流噪声。电容C2滤波电容,主要是滤去高频信号或噪声。实施例3:图3示出了本发明的一个实施例,尤其给出了所述的光纤MEMS传声器探头 500的详细结构。在此实施例中,所述的光纤MEMS传声器探头500包括梯度透镜506、尾纤 508、斐索干涉腔支架505和MEMS传感芯片。所述的梯度透镜506通过所述的尾 纤508与所述的传输光纤400连接。其中所述的MEMS传感芯片由体刻蚀掩膜501 、 硅基片502、振动膜503和制作在振动膜503上的反光膜区域504组成。所述的反光膜区域504用于反射来自所述梯度透镜506的光信号,此反射光 信号又通过所述梯度透镜506耦合到光纤里,作为来自信号臂的传感信号。所述的斐索干涉腔支架505 —般为非金属材料制成(如有机玻璃、聚氯乙烯 材料、陶瓷、玻璃等),用于固定所述MEMS传感芯片和所述梯度透镜506,使其 出射端面507与所述的反光膜区域504平行放置,并调节它们之间的距离,即斐 索干涉腔的长度。所述的出射端面507上有一层反射膜(如铝膜、银膜和氟化镁 膜等),使来自光源的信号部分被反射,作为斐索干涉的参考臂信号。所述的梯度透镜506,也称为梯度折射率透镜,或称自聚焦镜,它可以将 光纤内的传输光转变成准直光(平行光),或将外界平行(近似平行)光耦合至 单模光纤内。所述的振动膜503是一种低应力的非金属薄膜,它通常是利用半导体工艺在 所述硅基片502上制作的。它可以是低应力氮化硅薄膜、多晶硅薄膜、二氧化硅 薄膜、浓硼掺杂的硅薄膜等,也可以是有机薄膜,如聚酰亚胺薄膜等。所述的振 动膜503可以是周围固定的圆形或四边固定的方形膜,也可以是部分固定(例如, 整个膜悬浮在硅基片上,但被分布在四达形顶角的四个固定锚点拉着)的圆形或方形薄膜。所述的振动膜5()3的边沿可以有褶皱(Corrugations),也可以没有 褶皱(Corrugations)。所述的振动膜503可以没有小的声孔,也可以有小的声 孔。这里,褶皱的作用是为了减少振动膜应力,而小的声孔可以改善传声器在整 个频带内的响应。所述的反光膜区域504是指广义的反光材料制成的一小的圆形区域,直径为 10 1000微米之间,该反光膜区域504也可以是方形或别的形状的区域。所述 的反光膜区域504 —般采用金属铝或金膜。对于振动膜本身就具有反光的情况 (例如,有的振动膜是在氮化硅薄膜上镀一层铝膜),可以不另外制作反光膜。实施例4:图4示出了本发明的一个实施例,尤其给出了所述的光纤MEMS传声器探头 500的详细结构。本实施例与实施例3除了所述MEMS传感芯片外,其它部分完 全相同。相同的部分使用同一个标号,功能部分这里不再重述。在此实施例中,所述的光纤MEMS传声器探头500包括梯度透镜506、尾纤 508、斐索干涉腔支架505和MEMS传感芯片。所述的MEMS传感芯片依次由体刻蚀掩膜501、硅基片502、声背板513、空 气隙516、隔离层517、振动膜503和反光膜区域504组成。所述的反光膜区域504用于反射来自所述梯度透镜506的光信号,此反射光 信号又通过所述梯度透镜506耦合到光纤里,作为来自信号臂的传感信号。所述的振动膜503是一种低应力的非金属薄膜,它通常是利用半导体工艺在 所述硅基片502上制作的。它可以是低应力氮化硅薄膜、多晶硅薄膜、二氧化硅 薄膜、浓硼掺杂的硅薄膜等,也可以是有机薄膜,如聚酰亚胺薄膜等。所述的振 动膜503可以是四边固定的圆形或方形膜,也可以是部分固定的圆形或方形薄 膜。所述的振动膜503的边沿可以有褶皱(Corrugations),也可以没有褶皱 (Corrugations)。所述的声背板513为一体刻蚀自停止层,它与所述的振动膜503之间有一个 空气隙516。所述声背板513至少有一个光孔515,使来自所述梯度透镜507的 平行光束能通过。所述声背板513也可以有许多小圆形或方形声孔514。
所述隔离层517在所述硅基片502之上,用于支持所述振动膜503。所述隔 离层517 —般为低温二氧化硅(LTO),也可以是氮化硅或氮化硅与低温二氧化硅 (LTO)的复合层。所述隔离层517的厚度为1 20微米之间。所述空气隙516的厚度由所述隔离层517决定,为1 20微米之间。当所述 振动膜503的边沿有用于减小应力的褶皱时,所述空气隙516比所述隔离层517 的厚度小。实施例5:图5示出了本发明的一个实施例,尤其给出了所述的光纤MEMS传声器探头 500的详细结构。本实施例与实施例4的结构基本相同,不同之处在于本实施例 中MEMS传感芯片的声背板没有小声孔,而将声孔移到振动膜上了。两实施例中 相同的部分使用同一个标号,功能部分这里不再重述。在此实施例中,所述的光纤MEMS传声器探头500包括梯度透镜506、尾纤 508、斐索干涉腔支架505和MEMS传感芯片。所述的MEMS传感芯片依次由体刻蚀掩膜501、硅基片502、声背板513、空 气隙516、隔离层517、振动膜503和反光膜区域504组成。所述的反光膜区域504用于反射来自所述梯度透镜506的光信号,此反射光 信号又通过所述梯度透镜506耦合到光纤里,作为来自信号臂的传感信号。所述的振动膜503是一种低应力的非金属薄膜,它通常是利用半导体工艺在 所述硅基片502上制作的。它可以是低应力氮化硅薄膜、多晶硅薄膜、二氧化硅 薄膜、浓硼掺杂的硅薄膜等,也可以是有机薄膜,如聚酰亚胺薄膜等。所述的振 动膜503可以是四边固定的圆形或方形膜,也可以是部分固定的圆形或方形薄 膜。所述的振动膜503的边沿可以有褶皱(Corrugations),也可以没有褶皱 (Corrugations)。所述的振动膜503有小的声孔527。所述的声背板513为一体刻蚀自停止层,它与所述的振动膜503之间有一个 空气隙516。所述声背板513至少有一个光孔515,使来自所述梯度透镜507的 平行光束能通过。所述隔离层517在所述硅基片502之上,用于支持所述振动膜503。所述隔 离层517 —般为低温二氧化硅(LTO),也可以是氮化硅或氮化硅与低温二氧化硅 (LTO)的复合层。所述隔离层517的厚度为1 20微米。 所述空气隙516的厚度由所述隔禽层517决定,为1 20微米。当所述 振动膜503的边沿有用于减小应力的褶皱时,所述空气隙516比所述隔离层 517的厚度小。实施例6:图6示出了本发明的一个实施例,尤其给出了 PGC载波调制信号电子解调系 统800的详细电路框图。在此实施例中,所述PGC载波调制信号电子解调系统800包括信号源0SC、 四个模拟乘法器M1 M4、低通滤波电路LP1和LP2、微分器Di和D2、模拟减法 器A1、积分电路J1、高通滤波电路HP和音频输出。来自所述P工N光电检测器700的载波调制的电信号分成两路,分别与来自所 述信号源OSC的一倍频信号G Coscot和二倍频信号H Cos2(nt (G和H分别代表 两信号幅度,o)是基频角频率,t是时间)通过所述的模拟乘法器Ml和M2进行 乘法运算,乘积输出分别与所述低通滤波器LP1和LP2相连接。低通滤波器将信 号的高频分量和混频的镜像频率分量滤去,只留下所需要的低频信号。所述滤波 器LP1的输出分成两路, 一路经过所述微分电路Dl后与所述滤波器LP2的输出 通过所述模拟乘法器M3相乘;另一路与所述微分电路D2的输出通过所述乘法器 M4相乘。两模拟乘法器的输出通过所述的模拟减法器A1相减,运算的结果经过 所述的积分电路Jl和高通滤波电路HP,此时,整个相位载波调制的信号得到解 调,恢复出相应传感电信号。此信号通过所述的音频输出可以直接驱动喇叭或扬 声器,或连接到远方的音频设备上。所述信号源0SC为高稳定度的信号源,且能够提供初始相位相同、输出 幅度可调节的一倍频信号和二倍频信号。两信号源的互相抑止要大于60dB。 所述信号源0SC的一倍频信号的频率与所述位载波调制的激光光源100的调 制信号的频率相同。为了得到的解调信号不失真,对解调电路的对称性要求较高,即要求所述的 模拟乘法器Ml与M2、低通滤波器LP1与LP2、微分电路Dl与D2、模拟乘法器 M3与M4有相同的幅频特性和相频特性。
实施例7:图7示出了本发明的一个实施例,尤其给出了 PGC载波调制信号电子解调系 统800的数字解调方案框图。在此实施例中,所述PGC载波调制信号电子解调系统800的数字解调方案包 括A/D转换器(模/数转换器)、MPb'微处理器单元、TMS32()DSP引擎、D/A转换 器(数/模转换器)、低通滤波器和音频输出单元。来自所述PIN光电检测器700的模拟电压信号经过所述A/D转换器量化成数 字信号,此数字信号被所述MPU微处理器单元读取后,通过数据总线传输给所述 TMS320DSP引擎,由其运行数字信号处理软件来完成PGC载波调制信号的数字解 调,并将解调的数据再回传给所述MPU微处理器单元。所述V1PU微处理器单元将 解调后的数据通过所述D/A转换器转换成模拟信号,此信号经过所述低通滤波器 输出给所述音频输出单元,此单元可以直接驱动喇叭或扬声器,或连接到远方的 音频设备上。所述MPU微处理器单元是一种广义的微处理器单元,可以是8位、16位或 32位微处理器。它的功能是连续读取所述A/D转换器的数据、控制并与所述 TMS320DSP引擎交换数据、并处理后的数据输出给所述D/A转换器。所述TMS320DS引擎是一种广义的数字信号处理单元,它通常是TMS320系列 的数字信号处理器。它的功能通过运行其软件来完成PGC载波调制信号的数字解 调。图8给出了其实现PGC载波调制信号的数字解调的软件流程,此流程所完成 的功能于实施例7相同,只是用数字的方法来实现模拟的运算。数字解调的歩骤如下831)当所述MPU微处理器单元822完成对所述 TMS320DSP引擎823的初始化后,就开始启动其解调工作;832)从所述MPU微 处理器单元822读取A/D (模/数)转换的数据D(n),并将保存求和结果的变量 Sum初始化为零:833) D(n)与G Coscot 相乘;834) D(n)与H Cos2cotn相乘; 835)数据通过第一FIR低通滤波器,输出保存到变量Foutl中;836)数据通 过第二FIR低通滤波器,输出保存到变量Fout2中;837)对Foutl求差分,保 存结果到Doutl; 838 )对Fout2求差分,保存结果到Dout2; 839 )作 Foutl*Dout2-Fout2*Doutl运算,即将一个低通滤波器的输出与另一个低通滤波 器输出信号的微分相乘,然后再将两路的结果相减,结果保存到变量Aout中;840)对Aout与前一个求和结果Sum相加并用该相加结果更新Sum,代替实施例6 中的积分运算,;841)用Sum减去所有Sum的平均值,代替实施例6中的高通滤 波器;842)将解调的数据传送给所述MPU微处理器单元。
权利要求
1、一种基于相位载波调制的光纤硅微传声器系统,包括激光光源、光纤、光纤耦合器(300)、传声器探头(500)、光电探测器(700);其特征在于,所述激光光源是一种相位载波调制的激光光源(100);所述光纤包括输入光纤(200)、传输光纤(400)和输出光纤(600);所述光纤耦合器(300)通过所述输入光纤(200)与所述相位载波调制的激光光源(100)连接,并通过所述传输光纤(400)与所述传声器探头(500)连接,并通过所述输出光纤(600)与所述光电探测器(700)连接;所述光电探测器(700)与相位载波调制信号电子解调系统(800)通过电线或电缆连接;所述传声器探头(500)包括梯度透镜和带有反光区域的振动膜,所述梯度透镜的出射端面和振动膜上的反光区域平行放置,构成激光斐索干涉腔。
2、 按权利要求1所述的基于相位载波调制的光纤硅微传声器系统,其特征 在于,所述相位载波调制的激光光源(100)至少包括一个半导体激光器和一个 产生调制电流的振荡器,在额定的发光功率范围内,所述半导体激光器输出的激 光光频随调制电流线性变化。
3、 按权利要求1所述的基于相位载波调制的光纤硅微传声器系统,其特征 在于,所述输入光纤(200)、输出光纤(600)和传输光纤(400)均为单模光纤。
4、 按权利要求1所述的基于相位载波调制的光纤硅微传声器系统,其特征 在于,所述光纤耦合器(300)是一种将注入光束分成光强相等的两束光的耦合 器。
5、 按权利要求1所述的基于相位载波调制的光纤硅微传声器系统,其特征 在于,所述光电探测器是一种由PIN光电二极管组成的光电转换电路。
6、 按权利要求1所述的基于相位载波调制的光纤硅微传声器系统,其特征 在于,所述相位载波调制信号电子解调系统(800)是一种将载波调制信号中的 音频信号解调出来的电子信号处理系统。
7、 按权利要求1所述的基于相位载波调制的光纤硅微传声器系统,其特征 在于,所述传声器探头(500)还包括斐索干涉腔支架(505)和MEMS传感芯片; 所述斐索干涉腔支架(505)制作在MEMS传感芯片硅基片的上表面或下表面上, 构成一个圆柱形的斐索干涉腔,所述梯虔透镜(506)固定在斐索干涉腔支架上,该梯度透镜(506)通过尾纤(508)与传输光纤(400)连接;所述反光区域制 作在MEMS传感芯片的振动膜上。
全文摘要
本发明涉及一种基于相位载波调制的光纤硅微传声器系统,包括激光光源、光纤、光纤耦合器、传声器探头、光电探测器;所述激光光源是一种相位载波调制的激光光源;光纤耦合器通过输入光纤与相位载波调制的激光光源连接,并通过传输光纤与所述传声器探头连接,并通过输出光纤与所述光电探测器连接;所述传声器探头包括梯度透镜和带有反光区域的振动膜,所述梯度透镜的出射端面和振动膜上的反光区域平行放置,构成激光斐索干涉腔。本发明在灵敏度、动态范围和信噪比等方面均优于使用光强度调制的传感器;另外,本发明的光纤MEMS传声器在低频响应、频带宽度、抗振动等方面优于传统的驻极体传声器。
文档编号H01S3/00GK101132653SQ20061011261
公开日2008年2月27日 申请日期2006年8月25日 优先权日2006年8月25日
发明者乔东海, 宫铭举, 迪 张, 王孟姣, 静 田 申请人:中国科学院声学研究所
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