专利名称：平板保持体的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种平板保持体，例如，关于一种对使用于曝光装置等的掩模或平面镜进行保持的保持体。
背景技术：
图5是表示现有技术的曝光装置的概略构成的图。
如该图所示，该曝光装置大致包括射出曝光光的光照射部110；对形成图形的掩模进行保持的掩模载台部120；对被曝光的工件进行载放保持的工件载台部130。
光照射部110设有放射曝光光的灯111；反射来自灯111的光并进行聚光的聚光镜112；使被照射面的曝光光的照度分布均匀的积分仪(integrator)113(也称为复眼微透镜)；将曝光光的光路折返的平面镜114(此处使用3枚)；支持平面镜114的载台基座115及支持体116；使曝光光成为平行光的准直仪(collimator)117等，并且从光射出口118射出曝光光。
在掩模载台部120中，在光射出口118的光出口侧，形成了电路等图形的掩模121(也称为光栅)，被保持固定在掩模载台122上。另外，在该图中，掩模121被安装在掩模载台122的上面侧，但是也存在被安装在下面侧的情况。
在工件载台部130中，涂布或粘贴有感光剂的印刷电路基板或晶片等工件131，被保持在工件载台132上。
在掩模载台部120及/或工件载台部130上，设有掩模载台移动机构123及/或工件载台移动机构133，掩模121及/或工件131在XYθ方向(掩模121及/或工件131平面的正交的2个方向、及与上述平面正交的轴周围的旋转方向)移动，并进行定位以便使掩模121与工件131成为预定的位置关系。
在掩模121与工件131的定位结束之后，工件载台132通过工件载台移动机构133，在与上述平面正交的Z方向移动，并将掩模121与工件131设定为预定间隔。
之后，从光照射部110经由掩模121对涂布有感光剂的工件131照射曝光光，掩模图形被曝光转印。完成曝光的工件131被从工件载台132搬出，并搬入下一个要被处理的工件131。
另外，在上述中以曝光装置为例进行了说明，但是在液晶面板的粘合工程中，经由形成了遮光部的掩模，只对涂布了光硬化型粘接剂的区域照射紫外线，使粘接剂硬化地粘合2个面板的装置，也使用与图5所示的曝光装置相同的装置。
该情况下，工件是与形成的面板的轮廓配合地涂布了粘接剂的玻璃面板基板，掩模形成有图形以便使光照射上述粘接剂、而液晶等部分被遮光。从光照射部照射的光，是具有使光硬化型粘接剂硬化的波长的光。大多光硬化型粘接剂通过紫外线进行硬化，使用包含200nm～400nm的紫外线的光。
图6是表示图5所示的曝光装置等所使用的现有技术的掩模载台的构成的图。
掩模载台140主要包括保持掩模141的载台基座142；载台移动机构143，使载台基座142在XYθ方向(掩模141的平面内的正交的2个方向、及正交于上述平面的轴周围的旋转方向)，并且根据情况也在Z方向(相对于掩模141的平面正交的方向)移动。
在载台基座142上设有开口144，经由掩模141被照射于工件的光线(曝光光·紫外线)通过该开口144。并且，在开口144的周边部，形成用于保持掩模141的真空吸附槽145，通过对掩模141的周边部进行吸附，将掩模141保持固定在载台基座142上。
由于掩模141在四周被吸附保持在载台基座142上，因此载台基座142的平面度需要高精度地进行加工。当载台基座142的平面度低时，被转印到工件的图形产生歪斜、或光照射的位置偏移等，曝光精度或光照射精度变差。
专利文献1日本特开平11-186124号公报专利文献2日本特开平10-335204号公报然而，被曝光的工件(例如印刷电路基板)或进行粘合的液晶面板逐年大型化。例如，进行粘合的液晶面板用的玻璃基板，出现了一边超过2m的。随着工件的大型化，照射光(曝光光，紫外线)的区域也变大，因此掩模也大型化。随着掩模的大型化，保持掩模的掩模载台的载台基座也大型化。
具有如图6所示的开口144的大载台基座142，难以进行高平面度的加工。对具有开口144的部件进行平面加工本来就很难，当在平面加工之后再设置开口144时，在设置开口144的加工时产生飞边或歪斜，并且即使掩模141被高平面精度地制作，但是由于被保持在载台基座142上也产生飞边或歪斜。
作为其对策，代替通过载台基座142吸附保持掩模141四周的方法，如图7所示，可以考虑，将支持体146立在载台基座142上，并在3点支持掩模141。由于掩模141基本上为平板，如果进行3点支持，理想地应成为平面。
但是，如图7所示，在掩模141为大型的情况下，在仅3点的支持中，在掩模141未被支持的部分产生自重变形。当掩模141变形时，由于掩模图形歪斜地投影在工件上，因此曝光精度降低。
并且，在上述中对掩模与掩模载台的问题点进行了说明，但在图5所示的曝光装置的光照射部110中，在用于折返光路的平面镜114的支持中也发生同样的问题。当平面镜114发生变形时，反射的光线变宽或变窄，无法得到平行的光。当无法得到平行的光时，例如在使掩模121与工件131接近地进行曝光的曝光装置中，由于掩模图形被变形地投影在工件131上，因此曝光精度降低。
发明内容
本发明的目的是提供一种保持体，不使用加工困难、难以得到平面精度的载台，可对曝光装置等所使用的大型掩模或平面镜等平板进行防止自重变形的保持。
本发明为了解决上述课题，采用如下方法。
第1方法是一种保持体，由保持平板的多个棒状保持部件构成，其特征为，上述保持部件构成为与上述平板相接的部分为平面，并且上述保持部件包括第一保持部件，在偏转(yawing)、转动(rolling)及起伏(pitching)移动被允许的状态下，相对于保持体的基座在1处被支持；第二保持部件，在可转动和第二保持部件可向延伸方向膨胀的状态下，起伏及偏转被限制，并相对于保持体的基座在2处被支持。
第2方法是一种保持体，由保持平板的多个棒状保持部件构成，其特征为，上述保持部件构成为与上述平板相接的部分为平面，并且上述保持部件包括第一保持部件，通过保持与球的支承关系，利用支柱在保持体的基座的1处被支持；第二保持部件，通过保持与球的支承关系，利用支柱在保持体的基座的2处被支持，并且在第二保持部件可在延伸方向膨胀的状态下被支持。
第3方法是在第1方法或第2方法中，除上述第一保持部件及上述第二保持部件外，还具有其他保持上述平板的棒状保持部件，该其他保持部件构成为与上述平板相接的部分为平面，并且相对于保持体的基座通过弹簧或气缸进行支持。
根据方式1记载的发明，可对用于曝光装置等的大型掩模或平面镜等平板进行防止自重变形的保持。
根据方式2记载的发明，可对用于曝光装置等的大型掩模或平面镜等平板进行防止自重变形的保持。并且，通过使第一保持部件保持与球的支承关系，并利用支柱在1处进行支持，由此在偏转、转动及起伏移动被允许的状态下，可在1处进行支持。并且，通过使第二保持部件保持与球的支承关系，并利用支柱在2处进行支持，并且在可以在第二保持部件的延伸方向膨胀的状态下进行支持，由此可以限制起伏及偏转地在2处进行支持，并且可对应于长度方向热变化的膨胀伸缩。
根据方式3记载的发明，通过根据保持的平板的形状或大小，适当地组合第一及第二保持部件和其他保持部件，由此可对第一及第二保持部件不能保持的部分进行补充。
图1是表示第1实施方式的发明的保持体的构成的立体图。
图2是表示第一保持部件2及第二保持部件3的详细构成的断面图或立体图。
图3是表示第2实施方式的发明的保持体的构成的立体图、及第三或第四保持部件7、8的构成的断面图。
图4是表示对第3实施方式的发明的平板进行保持的保持体的构成例的图。
图5是表示现有技术的曝光装置的概略构成的图。
图6是表示图5所示的曝光装置等所使用的现有技术的掩模载台的构成的图。
图7是用于对在掩模141为大型的情况下、在只有3点的支持中在掩模141未被支持的部分产生自重变形进行说明的图。
具体实施例方式
使用图1或图2来说明本发明的第1实施方式。
图1是表示本实施方式的发明的保持体的构成的立体图。
在该图中，1是在曝光装置等中对四方型的掩模6等平板进行保持的保持体；2是对掩模6的一边进行保持的第一保持部件；21是支柱；22、23是按压弹簧；3是对掩模6的与上述一边相对的一边进行保持的第二保持部件；31、32是支柱；33是按压弹簧；4是载台基座；5是开口；6是掩模。
另外，在该图中，将掩模6平面内的图中左右方向设为X轴，将在掩模6平面内与X轴正交的方向设为Y轴，并将与掩模6平面正交的方向设为Z轴，并且将X轴周围的旋转称为转动(rolling)R，将Y轴周围的旋转称为起伏(pitching)P，将Z轴周围的旋转称为偏转(yawing)Y。
如该图所示，掩模6由棒状的第一保持部件2、及第二保持部件3保持，所述第一保持部件2、及第二保持部件3与掩模6的4边中相对的2边的各边相对应的部分被加工为平面。
如后述的图2所示，第一及第二保持部件2、3的表面，形成有真空吸附槽25、37并被抽真空，对载放的掩模6进行吸附保持。并且，第一及第二保持部件2、3都被安装在载台基座4上，载台基座4设置有开口5以便使通过了掩模6的光通过。
使第一保持部件2允许相对于载台基座4的偏转Y、转动R、起伏P移动，并由支柱21在1点支持。
另一方面，使第二保持部件3仅允许相对于载台基座4的转动R移动、限制偏转Y、起伏P移动，并由支柱31、32在2点支持。
并且，第一及第二保持部件2、3很长，在由于本身自重产生变形的情况下，设置抬起按压弹簧22、23以便使支持第一保持部件2的支柱21以外部分的自重变形消失，并设置抬起按压弹簧33以便使支持第二保持部件3的支柱31、32以外部分的自重变形消失。另外，也可使用气缸来代替按压弹簧。
图2是表示第一保持部件2及第二保持部件3的详细构成的断面图或立体图。
图2(a)是表示第一保持部件2的构成的图，通过1根支柱21并通过球面轴承24对第一保持部件2进行保持，并在X轴、Y轴、Z轴向的移动被限制、偏转Y、转动R、起伏P移动被允许的状态下进行支持。另外，如图2(b)所示，代替球面轴承24，也可以构成为将在削尖的顶端设置了球27的支柱21，插入在第一保持部件2上形成的圆锥孔26中。但是，需要进行使第一保持部件2不在Z方向抬起的研究。
图2(c)是表示第二保持部件3的构成的图，第二保持部件3通过2根支柱31、32在2点被支持。一个支柱32通过球面轴承34支持第二保持部件3，另一个支柱31，考虑到第二保持部件3因热变化在第二保持部件3的长度方向(第二保持部件3的延伸方向)进行膨胀伸缩的情况，在第二保持部件3的一部分沿着长度方向形成V形槽35，并通过将在削尖的顶端设置了球36的支柱31插入该V形槽35中，来保持第二保持部件3。通过这种构成，第二保持部件3可进行转动R移动和第二保持部件3在伸展方向的膨胀、但是在偏转Y与起伏P移动、及X轴、Y轴、Z轴向的移动被限制的状态下被支持。
图2(d)是表示第二保持部件3的其他构成的图。在一个支柱32中，与第一保持部件2的情况相同，代替球面轴承34也可以由球38与圆锥孔39构成。并且，在另一个支柱31中，也可以代替考虑了第二保持部件3长度方向的膨胀伸缩的V形槽35与球36的构成，使其为利用了轴40与套筒(bush)41的花键(spline)构造。该情况下，设置沿第二保持部件3的长度方向延伸的轴40，并将设置在支柱31顶端的套筒41安装在该轴40上。
返回图1，使第一及第二保持部件2、3的构成采用如图2所示的构成，并将第一保持部件2与第二保持部件3作为保持框，当在其上载放掩模6时，第一及第二保持部件2、3沿着被高平面精度制作的掩模6的平面吸附掩模6。由此，通过在X方向延伸的第一及第二保持部件2、3，掩模6无自重变形地被保持。掩模6通过第二保持部件3限制偏转Y与起伏P移动、通过掩模6本身限制转动R移动，并被定位。
另外，在本实施方式的发明的保持体中，在保持的掩模6的Y轴向变形为不成问题程度的小的情况下，如上所述，用第一及第二的两根保持部件2、3进行保持即可。但是，在掩模6为非常大型、并在Y轴向产生变形的情况下，需要设置对掩模6剩余的2边进行保持的棒状的第三及第四保持部件，并构成保持框。
以下，使用图3来说明本发明的第2实施方式。
图3(a)是表示本实施方式的发明的保持体的构成的立体图，图3(b)是表示第三及第四保持部件7、8的构成的断面图。
在这些图中，7是保持掩模6一边的第三保持部件，71、72、73是按压弹簧，8是对掩模6的与上述一边相对的一边进行保持的第四保持部件，81、82、83是按压弹簧。另外，其他构成对应于图1所示的相同符号的构成，因此省略说明。
如这些图所示，与第一及第二保持部件2、3同样，第三及第四保持部件7、8的表面被加工为平面、形成真空吸附槽74、84并被抽真空，并吸附保持载放的掩模6。第三及第四的保持部件7、8不由支柱保持，仅由多个按压弹簧71～73、81～83进行相对于载台基座4的支持，按压弹簧71～73、81～83的弹簧常数被决定，以便在第三及第四保持部件7、8吸附掩模6时，使其成为1个平面。另外，也可使用气缸来代替按压弹簧。
如图3(a)所示，掩模6由第一及第二保持部件2、3保持，并且由第三及第四保持部件7、8保持。在Y轴向延伸的第三及第四保持部件，通过沿着被高平面精度制作的掩模6的平面被吸附，使其Y轴向的自重变形消失地被保持。
在上述第1实施方式及第2实施方式中，以对用于曝光装置的掩模6进行保持的保持体为例进行了说明，但并不被限于此，也可适用于对用于曝光装置的平面镜、或用于其他光照射器的反射镜等平板进行保持的保持体。
以下，使用图4来说明本发明的第3实施方式。
图4是表示对本实施方式的发明的平板进行保持的保持体的构成例的图。
图4(a)是表示在平板9为三角形的情况下，使由1个支柱支持的第一保持部件10为纵、由2个支柱支持的第二保持部件11为横，并组合成T字型地保持平板9的例的俯视图。
图4(b)是表示在平板12为与图4(a)所示的平板9不相同的三角形的情况下，使第一保持部件13和第二保持部件14组合成L字型地保持2边，并通过由未图示的按压弹簧或气缸支持的第三保持部件15来支持剩余一边的例的俯视图。
如此，第一保持部件10、13与第二保持部件11、14，不但相对并行地配置，还可根据保持的平板9、12的形状或大小适当组合地配置，并且，也可设置第三保持部件15来补充第一及第二保持部件13、14无法保持的部分。
符号说明1保持体 2第一保持部件 21支柱 22、23按压弹簧24球面轴承 25真空吸附槽 26圆锥孔 27球3第二保持部件 31、32支柱 33按压弹簧34球面轴承 35V形槽 36球 37真空吸附槽 38球39圆锥孔 40轴 41套筒4载台基座 5开口6掩模 7第三保持部件 71、72、73按压弹簧8第四保持部件 81、82、83按压弹簧 9平板10第一保持部件 11第二保持部件 12平板13第一保持部件 14第二保持部件 15第三保持部件
权利要求
1.一种保持体，由保持平板的多个棒状保持部件构成，其特征为上述保持部件构成为与上述平板相接的部分为平面，并且上述保持部件包括第一保持部件，在偏转、转动及起伏移动被允许的状态下，在保持体的基座的1处被支持；第二保持部件，在可进行转动与在第二保持部件延伸方向膨胀的状态下，起伏及偏转被限制地在保持体的基座的2处被支持。
2.一种保持体，由保持平板的多个棒状保持部件构成，其特征为上述保持部件构成为与上述平板相接的部分为平面，并且上述保持部件包括第一保持部件，通过保持与球的支承关系，利用支柱在保持体的基座的1处被支持；第二保持部件，通过保持与球的支承关系，利用支柱在保持体的基座的2处被支持，并且在第二保持部件延伸方向膨胀成为可能的状态下被支持。
3.如权利要求1或2所述的保持体，其特征为除了上述第一保持部件及上述第二保持部件之外，还具有保持上述平板的棒状的其他保持部件，该其他保持部件构成为与上述平板相接的部分为平面，并且在保持体的基座上通过弹簧或气缸支持。
全文摘要
提供一种保持体，可对用于曝光装置等的大型掩模或平面镜等平板进行防止自重变形的保持。该保持体由保持平板(6)的多个棒状保持部件构成，其特征为，上述保持部件构成为与平板(6)相接的部分为平面，并且上述保持部件包括第一保持部件(2)，在偏转、转动及起伏移动被允许的状态下，相对于保持体的基座(4)在1处被支持；第二保持部件(3)，在可进行转动与在第二保持部件延伸方向膨胀的状态下，起伏及偏转被限制，并相对于保持体的基座(4)在2处被支持。
文档编号H01L21/00GK101025572SQ200710005750
公开日2007年8月29日 申请日期2007年2月13日 优先权日2006年2月17日
发明者田中米太 申请人:优志旺电机株式会社