双镶嵌应用中底部抗反射涂层的两步蚀刻的制作方法

专利名称：双镶嵌应用中底部抗反射涂层的两步蚀刻的制作方法
技术领域：
本发明一船步及半导体加工技术，尤其涉及用于在双镶嵌蚀刻工艺中蚀刻底部抗 反針凃层的方法。
背景技术：
集成电路已经发展成可能在单一芯片上包括上百万个零件(例如，晶体管、电容 和电阻)的复，置。芯片设计的发展辦卖需求更快的电路和更大的电路密度。对更 大电路密度的需求迫使减小集成电路零件的尺寸。
当减小集成电路零件尺寸时(例如，亚m^:尺寸)，用于制备这种零件的材料影 响其电性能。例如，低电阻的金属互连线(例如，铜和铝)提供了集成电路上的零件 之间的导电路径。
由于其合意的电特性，铜特另悧于用在互连线结构中。通常f顿镶嵌工艺制备铜 互连线系统，在镶嵌工艺中将沟槽和通 L蚀刻到绝缘层中。用铜填充沟槽和通 L随 后使用(例如)化学机械平坦化(CMP)工艺使铜平坦化。
由绝缘材料将铜互纖彼此电隔离。当相邻金属互连线之间的距离和/或绝缘材料 的厚度具有亚货iXt尺寸时，电容耦合可能潜在地在这种互连线之间发生。相邻金属互 连线之间的电容耦合可能导致恶化集成电路整体性能的干扰和/或电阻一电容(RC)。 为了防止相邻金属互连线之间的电容耦合，需要低介电常数(低k)的绝缘材料(例 如，介电常数低于大约4.0)。
图1A—1D描述了由"通孔优先"加力l,形成的示范双镶嵌结构。首先参考图 1A，将介电体绝缘层110和底侧介电阻挡层108堆叠在另一个预先形成的互连线上， 该互连线具有嵌入到布置在衬底102上的另一个介电体绝缘层104中的导电层106。 可以糊壬选抛光停lhjl或抗反針凃层(ARC) 112布置在介电体绝缘层110上。通常 由具剤氐于4.0的介电常数的诸如FSG、聚合物材料、含碳硅层(SiOC)及相1财才料 的介电材料形成介电体绝缘层110。
在沟槽平板印刷之前，为了填充由通孔t駭江艺形成的通孔128并覆盖介电体绝
缘层IIO，旋转施加底部抗反射涂层(BARC)层114。在BARC层114上布置光刻 胶层116层，并构图光刻胶层116，以便确定用于形成沟槽的开口 130。在蚀刻沟槽 之前，为了清除BARC层114在由构图的光刻胶层116层掩盖的通孔开口 128之上 的部分，执行BARC蚀刻工艺，如图1B所示。执行BARC蚀刻工艺，直到由光刻胶 层116确定的任选抛光停止层112被暴露并且i真，孔128的BARC层114被蚀刻 到预定深度，如图1B所示。随后，为了蚀刻暴露的抛光停止层112和由构图的光刻 胶层116确定的底侧介电阻挡层108，执行沟槽蚀刻工艺，如图1C所示。沟槽蚀刻 工艺将介电体绝缘层110蚀刻到预定深度并且在介电体绝缘层110中确定沟槽122。 在己经形成沟槽122之后，将±真充通孔128的残余BARC层114和在介电体绝缘层 110顶部表面上的光刻胶层116从衬底102上去除，由此在衬底102上形成双镶嵌结 构，如图1D所示。
通常，在BARC层114或光刻胶层116去除工艺期间，为了与在衬底102上的 残余BARC层114和光亥贩层116反应，执行賴等离子体蚀刻工艺，形成从加工 室泵出的氧化碳聚合物。然而，在BARC层114和光刻胶层116去除期间，含氧等 离子体可能轰击在介电体绝缘层110中形成的沟槽122的暴露侧壁120和表面126和 域通 L 128。氧可能在介电体绝缘层110表面上形成Si—O键，其危害介电体绝缘层 110的介电性能。例如，氧可能在低k介电体绝缘层110的侧壁120或暴露表面126 上积累，并渗入多孔的低k介电体，由此导致薄膜处的碳损耗。碳损耗可能使低k材 料的介电常数非预期增加，导致材料介电性能的"k损"。其结果是，在BARC和光 亥帔蚀刻工艺之后，干扰和RC延迟可能增加。
此外，BARC的去除和/^刻胶层去除工艺还可能在通孔128禾口/或沟槽122中 留下诸如残余BARC、残余光刻胶层、杂质、有机或无机副产品的污染物124。通孔 128和/或沟槽122中存在的污染物124可倉脆害互连线结构的衝模成性，导致差的 装置可靠性和电性能。
因此，需要用于在互连线结构中去除BARC的改进工艺。

发明内容
本发明中Jlf共了用于从特征中去除BARC层的方法。在一个实施例中，该方法 包括在蚀刻室中iK共具有填充了 BARC层的特征的衬底，为了蚀刻填充该特征中的 BARC层的第一部分，将含有NH3气体的第^^^^昆合物充入室内，并且为了蚀刻布置在该特征中的BARC层的剩余部分，将含有02气体的第二气体混合物充入1:畅瞎内。
在另一个实施例中，用于从特征中去除BARC层的方^^括在蚀亥瞎中提供具 有在介电绝缘层中形成的特征并填充了 BARC层的衬底，为了蚀刻填充该特征中的 BARC层的一部分，将含有NH3气体的第^1体混合物充入室内，并且为了蚀刻布置 在特征中的BARC层的剩余部分，将含有02气体的第二气体混合物充人蚀刻室内。
在另一个实施例中，用于从特征中去除BARC层的方纟跑括在蚀刻室中衝共具 有在介电绝缘层中形成的特征并填充了 BARC层的衬底，其中介电绝缘层的介电常 数小于3.5，为了蚀刻填充该特征中的BARC层的一部分，将在大约50 sccm和大约 1000 sccm之间的含有NH3气体的第"^i体混合物充入室内，并且为了蚀刻布置在特 征中的BARC层的剩余部分，将在大约50 sccm和大约500 sccm之间的含有02气体 的第二气体混合物充入蚀刻室内。


为了获得并详细理解本发明的上述特征的方式，参考在附图中描述的实施例给出
上面捐M的本发明的更加明确的描述。
图1A—lD是示范双镶嵌制itX艺的一系列剖视图2是根据本发明一个实施例!顿的等离子体蚀刻室的示意横截面图3是描述用于在双镶嵌结构中蚀刻BARC层和/或光致抗蚀层的两步蚀刻方法
的方法的一个实施例的工艺流程图4A—4B是根据本发明一个实施例的双镶嵌制紅艺的一系歹賠舰图。
为了便于理解，仅可能的使用相同参考数字表示附图中共用的相同元件。预期一 个实施例的元件和特征易于合并到其它实施例中，而不需要进一步描述。
然而，需要指出的是，附图仅描述了本发明的示范实施例，由于本发明可能允许 其它等效实施例，不能认为附图限制了本发明的范围。
本发明的实施例包括用于在双镶嵌结构中两步蚀刻BARC层的方法。该方法通 过在双镶嵌制紅艺中的分离BARC层蚀刻步骤4顿不同气体混合物，在保持高去 除速率的同时保持低k介电膜的质量。可以在倒可适宜等离子体蚀刻室内抛豫里描述的蚀刻工艺。一个这种蚀亥惶是
由加利佛尼亚圣克拉拉的应用材料公司提供的ENABLER⑧加工室。预期包括由其它 制造商樹共的其它蚀亥阪应器可能适于从本发明受益。
图2描述了适于执行本发明的一个或多个步骤的等离子体蚀亥係统202的一个实 施例的示意横截面视图。等离子体蚀亥係统202可能包括具有导电室壁230禾顺盖213 的工艺室体210。使用位于导电室壁230内禾H域其周围的含液导管(未示出)控审恃 电室壁230的温度。导电室壁230连接到电接地234。为了覆盖导电室壁230的内表 面，将衬垫231布置在工艺室体210内。衬垫231作为防护工艺室体210的室壁230 的内表面的表面防护层。在一个实施例中，衬垫231可以由包括Al203、 A1N、氧化
硅、Y203及相似物的陶瓷材料制成。
工艺室体210是M节流阀门227连接到真空泵236的真空容器。将支撑基座216 布置在工艺室体210的底部，以便在处理期间支撑放置在其上的衬底260。支撑基座 216可能包括用于夹持衬底260的静电卡盘226。 DC电源220用于控制供应给静电卡 盘226的电力。舰匹配网络224将支撑基座216连接到射频(RF)偏置功率源222。 偏置功率源222 —般能够产生具有在大约50 kHz到大约60 MHz之间的可调频率和在 大约0到大约5000瓦之间的偏置功率的RF信号。偏置功率源222可能JH共诸如大约 13.56 MHz和大约2 MHz的多频信号。可选地，偏置功率源222可能是DC ^E冲 DC源。
至少部分i舰过调节支撑基座216的^M控制衬底260的 鹏。在一个实施例 中，支撑基座216包括具有用于涼Lil冷却齐啲通道的冷却板(未示出)。另外，由气 体源248的诸如氦(He)气的背部气体适于提供到布置在衬底背部和在静电卡盘226 表面形成的沟槽(未示出)之间的M中。背部气^S基座216和衬底260之间提供 有效热传输。为了在加工期间加热衬底260，静电卡盘226还可能包括布置在卡盘226 中的电阻加热器(未示出)。在一个实施例中，将衬底260保持在大约10到大约500 摄氏度之间的温度。
将喷头232相对衬底基座116空间分离且面向衬底260安,lj工艺室体210的顶 盖213。将气体面板238不固定i,接到在喷头232和顶盖213之间确定的充气增压 室(未示出)。喷头232包括允许从气体面板238提供给充气增压室的气体进入工艺 室体210的多个开孔。可能将喷头232中的开孔布置在不同区域，以便可以以不同体 流M剩每不同气体释放到室体210中。
通过阻抗 器219 (例如，四分之一波长匹配轴端)将喷头232和/或临近其放 置的上电极228连接到RF等离子体功率源218。RF功率源218 —般能够产生具有在 大约50 kHz到大约160 MHz之间的可调频率和在大约大约0到大约5000瓦之间的源 功率的RF信号。RF等离子体功率源218可能提供诸如大约13.56 MHz和大约2 MHz
的多频信号。
等离子体蚀亥孫统202还可能包括放置在室壁230外部、誕室顶盖213的一个 或多个线圈片段或fe1体212。由DC电源或低频AC电源254控制提供乡煞美圈片段212 的电力。
在衬底加工期间，使用气体面板238和节流阀门227控制室体210内部的气体压 力。在一个实施例中，将室体210内部的气体压力保持在大约0.1到大约999 mTorr 之间。
为了便于控制本发明的工艺，将包括中央处理器(CPU) 244、存储器242和支 撑电路246的控制器240连接到系统202的不同组件。存储器242可以是系统202或 CPU244本地或远程的任何计算机可读介质，诸如随机访问存储器(RAM)、只读存 储器(ROM)、软盘、硬盘，字存储的ftf可其它形式。为了以传统方5 撑CPU 244， 将支撑电路246连接到CPU244。这些电路包括高速缓冲存储器、电源、时钟脉冲电 路、输A/输出电路和系统，等等。当由CPU 244执行时，存储在存储器242中的软 件禾骄或一系列禾辨指令使等离子体蚀刻系统202执行本发明的蚀刻工艺。
图2仅示出了可以用于实现本发明的不同类型等离子体t畅U室的一个示范配置。 例如，可以使用不同连接机制将不同类型的源功率和偏置功率连接到等离子体室中。 ^ffl源功率和偏置功率允许3te控制等离子体密度和衬底关于等离子体的偏置电压。 在某些应用中，可能不需要源功率，并且仅由偏置功率保持等离子体。可以由使用诸 如磁体212的由低频(例如，0.1-0.5Hz)AR电源或DC源驱动的电磁体施加到真空 室的磁场增强等离子体密度。在其它应用中，可能在方爐衬底的室(例如，远离等离 子4顿)以外的不同室内产生等离子体，并且随后使用现有技术已知的技术将等离子 体导入到该室内。
图3描述了根据本发明的一个实施例的适于用于双镶嵌制造工艺的BARC去除 工艺300的流程图。图4A—4B是描述用于描述BARC去除工艺300的工艺300的不 同阶段的连续示意横截面视图。可以将工艺300作为当由控制器240执行时使工艺300 在室202中执行的指令存储在存储器242中。
通过提供具有适于制备双镶嵌结构的薄膜堆栈的衬底，工艺300以步骤302刑台。 如图4A所示，为了在通 L 420上形成具有沟槽422的双镶嵌结构400，己经蚀刻了 该薄膜堆栈。薄膜堆栈包括介电体绝缘层410，其布置在堆在底部介电绝缘层404上 的介电阻挡层408上。在不存在介电阻挡层408的实施例中，可以将介电体绝缘层410 直接布置在底部介电绝缘层404上。底部介电绝缘层404布置在衬底402上并且至少 具有I^A其中的诸如铜线的导电层406。
在一个实施例中，介电体绝缘层410是具有小于4.0，诸如小于3.4的介电常数的 介电材料。适当材料的示例包括诸如由应用材料公司提供的BLACK DIAMONI^介 电材料的碳掺,化硅(SiOC)和诸如聚酰胺的其它聚合物。从具有介电常数大约为 5.5顿小的材料中选择介电阻挡层408。在一个实施例中，介电阻挡层408是含碳硅 层(SiC)、氮掺IV^碳硅层(SiCN)、淑目似物。例如，介电阻挡层408可能是由应 用材料公司提f共的BLOK⑧介电材料。
在介电绝缘层410中形成的沟槽422 JU1构图的光刻胶层412开口 。填充通 L420 的BARC层414暴驗沟槽422的底部。在一个实施例中，光刻胶层412可能是用 于构图集成电路的传统碳基有机或聚合tlt才料。BARC层414可能从通孔420延伸到 沟槽422的底部表面428之外的高度，由此轻微地突出至腿孔420之外。BARC层 414可能包括(例如)诸如通常具有含氢和含碳元素的聚酰胺和多硫化物的有机材料， 或诸如氮化硅、氮氧化硅、碳化硅等等的无机材料。在图4A所示的实施例中，BARC 层414是旋转布置在衬底402上的有机材料。在另一个示范实施例中，可能以任何适 当方式将BARC层414涂覆、沉积或±真充在通孔中。
构图的光刻胶层412在介电绝缘层410中传输预定图案和/或特征。在预定图案和 域特征形成过程期间，可能消耗或^f斜勾图的光刻胶层412，在介电绝缘层410的上 表面416上留下光刻胶层412的一部分。替代地，可能将已构图的光刻胶层412完全 去除，由此暴露介电绝缘层410的上表面416。在图4A所示的实施例中，在为了形 成沟槽422将预定图案和/或特征传输到介电绝缘层410中之后，在双镶嵌结构400 上残余了光刻胶层412的一部分。在不存在光刻胶层412的实施例中，为了去除残余 在通 L 420中的BARC层414，可能执行两步蚀刻工艺。
在步骤304，为了初始蚀刻i真顿孔420且通过沟槽422暴露的BARC层414的 一部分，通过在蚀刻室202中充入第H本混合舰行执行第"^虫刻步骤。如果可能 在衬底表面残余光刻胶层412的一部分，第一 BARC蚀刻步^班可能蚀刻构图的光
刻胶层412。
在一个实施例中，充入到蚀刻室202中的第一气4本混合物含有氨气(NH3)。第 一气体混合物用于去除可能来自先前蚀刻工艺和/或在衬底表面存在的有机聚合物和 光刻胶外壳。第1体混合物中的貌素通过形戯出蚀亥係统202的挥发性碳氢化 合物清洁有丰ilf除物，而不损害衬底表面。第1体混合物还可能使介电绝缘层410 的侧壁426或暴露表面428钝化，由此防鹏部低k介电衬底k值偏移和介电常数增 加。第^t体混合物还可能清除和彻底冲6快自先前蚀刻工艺的残余在蚀亥瞎202中 的诸如含氟气体的残余气体，由此防止缺陷的产生或与可能还攻击介电绝缘层表面的 残余氟物质的〗七学反应。
在一个实施例中，fflil从含有NH3气体的第"^^本混合物形成等离子体，首先蚀 刻BARC层414和/或构图光刻胶层412。可能在诸如图2所示蚀刻室202或其它适 宜反应器中蚀刻BARC层414和/或构图光刻胶层412。
当将第"^t体混合物充入到1:膽孫统202中时，在步骤304调整几个工艺参数。 在一个实施例中，在大约5 mTorr到大约300 mTorr之间调整蚀刻反应器中的气体混 合物压力，将衬底纟鹏保持在大沐10摄氏度和大约55摄氏度之间。可能以在大约 150瓦到大约2000瓦之间的功率施加RF源功率。以诸如大约100 sccm和大约800 sccm的在大约50 sccm和大约1000 sccm之间的流速涼iil NH3气体。可能以在大约 50 sccm到大约1000 sccm之间的箭速在气体混合物中、鹏和充入诸如N2、 Ar、 He 气体的气体惰性气体。
在一个实施例中，可會^W终结预定时间周期来终止第H:虫刻步骤。例如，通过 在大约20秒到大约200秒之间处S^终ih^H:虫刻步骤。在另一个实施例中，可能 通过其它适当方法，例如M监控光Mt或通过其它指示器，终止第一 barc 1:駭iJ步骤。
在步骤306，为了t駭脷去除填充通 L 402的BARC层414的残余部分，执行第 二蚀刻步骤。第二歩3聚306还去除残余在介电绝缘层410的上表面416上的ftf可构图 的光刻胶层412。 f顿充入到蚀刻室202的第二气体混合物执行第二蚀刻步骤。在一 个实施例中，第二气体泡^包括02气体。含有02气体的第二气体混合物与来自第 H:虫刻步骤304的残，和副产品形成挥发性聚合物并且与衬底402上的残余BARC 414和光刻胶层412反应，由此从衬底402))躬戋余物、副产品、残余BARC414和光 亥帔层412有效地去除出t膽係统202。第二气体混合物中的氧元素衛共高的蚀刻速率和聚合物去除速率，这不仅有利于促进残余物和污染物的去除，而且清除在第H:虫
亥IJ工艺清洁不能完全去除的残余物和副产品。
在一个实施例中，ilil/人含有02气体的第二气体混合物形成等离子体蚀刻BARC
层414和/或光刻胶层412。可能在诸如涂2所示蚀刻室202或其它适当反应器中蚀刻 BARC层和/或光刻胶层412
当将第二气体混合物充入到蚀刻系统202中时，在步骤306调整几个工艺参数。 在一个实施例中，在大约5 mTorr到大约50 mToir之间调整蚀刻反应器中的气体混合 物压力，将衬底^Jt保持在大约-10摄氏度和大约55摄氏度之间。可能以在大约150 瓦到大约2000瓦之间的功率施加RF源功率。以在大约50 sccm和大约500 sccm之 间的流速流通02气体。蚀刻时间可能在诸如大约10秒到大约60秒之间的在大约20 苗和大约200秒之间。
通过终结预定时间周期来终ltm二蚀刻步骤306。例如，通过在大约IO秒到大约 60秒之间加工来终止第二 BARC t^ij步骤。在一个实施例中，第二蚀刻步骤306还
可能设置成具有基本等于如上戶腿的第H:駭陟骤304的工艺时间。替代地，第H:虫
刻步骤304和第二嫩ij步骤306的工艺时间可能设置成具有在大约1: 1到大约4: 1 之间的时间周期比。在另一个实施例中，通过监控光发射或通过表示已经将BARC 层414和/或光亥贩层412从衬底402或介电绝缘层410的上表面416完全去除并且通 孔420的底部表面418已经暴露的其它标始终止第二蚀刻步骤306，如图4B所示。
由于在步骤304使介电绝缘层410的侧壁和表面钝化并且由提供暴露于第^(体 混合物形成的聚合物《尉户，第二气体混合物306主要蚀刻残余物、畐'J产品和布置在衬 底上的残余BARC层414禾口/或光刻胶层412，而不危害或蚀刻衬底上的诸如介电绝 缘层410的底部结构。而且，由于在第二蚀刻步骤306樹共的第二气術昆合物主要与 BARC层414和/或光刻胶层412反应，第二蚀刻步骤306有利于并且有效地从衬底 去除有机和减无机材料。
如图3所示的循环308 ，可能在衬底上重复地且连续i也执行如步骤304和步骤306 戶腿的两步蚀刻工艺。替代地，可能在相反 ^iWl行如步骤304和步骤306戶腿的两 步蚀刻工艺。例如，可能首先执行如步骤306戶腿的蚀刻工序，然后执行如步骤304 臓的蚀刻工序。
如图4所示的双镶嵌结构400仅示出了可能用于执行如本发明戶脱的两步蚀刻工 艺的示范实施例。诸如第1嵌结构、仅有通孔的结构、沟槽优先结构禾啪似结构的其它结构也可能用于执行如上所述的两步蚀刻工艺。该方法还可能用于蚀刻在其它衬 底中的BARC层。
因此，本发明提供了用于以高去除速率和清除效率蚀刻BARC层的两步蚀刻方 法。该方法利于从双镶嵌结构中的沟槽和/或通孔去除BARC层、光刻胶层和相关残 余物和副产品，而不危害布置在衬底上的底部介电材料。该两步蚀刻工艺还提喉良好 的侧壁和/或表面f尉户。
虽然前面定向于本发明的实施例，可能在不偏离其基本范围的情况下设计本发明 的其它和额外实施例，本发明的范围由权利要求确定。
权利要求
1.一种用于从特征中去除BARC层的方法，包括在蚀刻室中提供具有填充了BARC层的特征的衬底；为了蚀刻填充在特征中的BARC层的第一部分，将包含NH3气体的第一气体混合物充入到室中；为了蚀刻布置在特征中的BARC层的残余部分，将包含O2气体的第一气体混合物充入到蚀刻室中。
2. 根据权利要求1戶，的方法，其特征在于，充入第-,体混合物的步骤还包括使具有在50 sccm和1000 sccm之间的流速的NH3流入到蚀刻室中。
3. 根据权利要求1戶脱的方法，其特征在于，充入第巧術昆合物的步骤还包括将工艺压力保持在大约5 mTorr到大约300 mTorr之间。
4. 根据权利要求1戶欣的方法，其特征在于，^A第^t術昆合物的步骤还包括将衬底^^控制在大约-10摄氏度到大约55摄氏度之间。
5. 根据权利要求1戶诚的方法，其特征在于，充入第^t体混合物的步骤还包括施加在大约150瓦到大约2000瓦之间的等离子体功率。
6. 根据权利要求1戶，的方法，其特征在于，充入第~^体混合物的步骤还包括在大约20秒和大约200秒之间的工艺时间蚀刻填充在特征中的BARC层的第一 部分。
7. 根据权利要求1戶，的方法，^#征在于，充入第二气体混合物的步骤还包括使具有在50 sccm和500 sccm之间的流速的02气体流入到蚀刻室中。
8. 根据权利要求1戶/M的方法，其特征在于，充入第二气体混合物的步II33S包括将工艺压力保持在大约5 mToir到大约50 mTorr之间。
9. 根据权利要求1戶腿的方法，其特征在于，充入第二气体混合物的步骤还包括将衬底St控制在大约-lO摄氏度到大约55摄氏度之间。
10. 根据权利要求1戶;M的方法，其特征在于，充入第二气体混合物的步骤还包括施加在大约150瓦到大约2000瓦之间的等离子体功率。
11. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，充入第二气体混合物的步骤还包括在大约10秒和大约60秒之间的工艺时间蚀刻i真充在特征中的BARC层的残余 部分。
12. 根据权禾腰求1戶脱的方法，其特征在于，第,体混合物充入和第二气体混合物充入之间的蚀刻时间比值在大约l: l和大约4: l之间。
13. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，镶嵌结构包括具有小于3.5的介 电常数的介电绝缘层。
14. 根据权利要求1所述的方法，其特征在于，镶嵌结构包括含有碳掺^ft化硅 的介电绝缘层。
15. 根据权利要求1戶诚的方法，^f寺征在于，樹共步马驗包括樹共具有布置在衬底上表面上的光刻胶层的衬底。
16. 根据权利要求15戶脱的方法，其特征在于，充入至鹏刻室中的第巧術昆 合物和第二气体混合物在嫩i」BARC层的同时蚀刻光刻胶层。
17. —种用于从特征中去除BARC层的方法，包括在蚀刻室中樹共具有在介电绝缘层中形成的且i真充了 BARC层的特征的衬底； 为了蚀刻填充在特征中的BARC层的一部分，将包含NH3气体的第一气体混合 物充入到室中；为了蚀刻布置在特征中的BARC层的残余部分，将包含02气体的第^体混合 物充入到蚀刻室中。
18. 根据权利要求17戶脱的方法，其特征在于，充入第"^t体混合物的步舰 包括使具有在50 sccm和1000 sccm之间的^3I的NH3 ^A至lJt駭U室中。
19. 根据权利要求17戶腿的方法，其特征在于，充入第二气体混合物的步3驗包括使具有在50 sccm和500 sccm之间的》M的02气^松荒入至收虫刻室中。
20. 根据权利要求17戶腿的方法，其特征在于，第一气体混合物充入和第二气 体混合物充入之间的蚀刻时间比值在大约l: l和大约4: l之间。
21. 根据权利要求17戶舰的方法，其特征在于，介电绝缘层的介电常数小于3.5。
22. —种用于从特征中去除BARC层的方法，包括在蚀刻室中提供具有在介电绝缘层中形成的且填充了 BARC层的特征的衬底， 其中介电绝缘层的介电常数小于3.5;为了蚀刻填充在特征中的BARC层的一部分，以在50 sccm和1000 sccm之间的 》M将包含NH3气体的第一气体混合物充入到室中；为了蚀刻特征中的BARC层的残余部分，以在50 sccm和500 sccm之间的流速 将包含02气体的第"^t体混合物充入到i:膽l度中。
全文摘要
本发明中提供了用于从特征中去除BARC层的方法。在一个实施例中，该方法包括在蚀刻室中提供具有填充了BARC层的特征的衬底，为了蚀刻填充在特征中的BARC层的第一部分，将包含NH₃气体的第一气体混合物充入到室中并且为了蚀刻布置在特征中的BARC层的残余部分，将包含O₂气体的第一气体混合物充入到蚀刻室中。
文档编号H01L21/311GK101197277SQ200710198720
公开日2008年6月11日 申请日期2007年12月10日 优先权日2006年12月8日
发明者加拉德·A·德尔加蒂诺, 李思义, 黄智林 申请人:应用材料股份有限公司