专利名称：电路图形尺寸调整方法及系统的制作方法
技术领域：
本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及电路图形尺寸调整方法及系统。
背景技术：
在根据集成电路图形制造掩膜时，常在电路图形中添加散射条(SB，Scattering Bar)，以改善光刻工艺窗口。但由于SB的尺寸通常显著小于主图形尺寸，在制造出的掩膜 中，其图形制作的准确性控制困难，即准确性较低，该准确性较低的问题通常表现为SB尺 寸制作差异、SB偏移或SB无法成形等现象。参照图1及图2，分别为SB在制作前预定位置及制作后实际位置的示意图，在制作 前SB 10预计处于位置A，但制作后，SB 10却偏移至位置A，。参照图3及图4，分别为SB制作前后图形对比的示意图，在制作前，根据图形，在位 置B将制作出SB 30，但实际制作后发现SB 30由于尺寸太小而无法成形。
发明内容
本发明提供了电路图形尺寸调整方法及系统，以避免调整前的图形尺寸降低图形 制作准确性的问题，提高图形制作的准确性。本发明提出了电路图形尺寸调整方法，包括步骤根据电路图形的图形尺寸与尺 寸偏差量的对应关系及图形尺寸，获得图形的尺寸偏差量；根据获得的尺寸偏差量，调整图 形尺寸。本发明还提出了一种电路图形尺寸调整系统，包括偏差量获得单元，用于根据电 路图形的图形尺寸与尺寸偏差量的对应关系及图形尺寸，获得图形的尺寸偏差量；调整单 元，用于根据偏差量获得单元获得的尺寸偏差量，调整图形尺寸。本发明通过根据图形尺寸与尺寸偏差量的对应关系及图形尺寸，来获得图形的尺 寸偏差量对电路图形尺寸进行调整，能够避免调整前图形尺寸降低图形制作准确性的问 题，提高了图形制作的准确性；此外，本发明提出的方案中尺寸偏差量是基于所述对应关系 获得，其调整的准确性和效率均较高，能够大幅度提高图形制作的准确性；另一方面本发 明提出的方案能够基于软件程序自动实现而系统化应用，提高了方案实施的有效性及广泛 性。
图1为SB在制作前预定位置示意图；图2为SB在制作后实际位置的示意图；图3为SB制作前的位置示意图；图4为SB无法成形的示意图；图5为本发明实施例中图形尺寸调整方法流程图；图6为本发明实施例提供的电路图形尺寸调整系统的结构示意图。
具体实施例方式针对背景技术提及的问题，本发明实施例提出如果在对图形尺寸进行调整时，能 够根据尺寸和尺寸偏差量之间的对应关系，由图形尺寸定量计算出尺寸偏差量，对图形尺 寸进行调整，则能够避免调整前图形尺寸降低图形制作准确性的问题，提高图形制作的准 确性。基于上述设计思路，本发明实施例提出下述图形尺寸调整方法。图5为本发明实施例中图形尺寸调整方法流程图，结合该图，该方法包括步骤步骤1，根据电路图形的图形尺寸与尺寸偏差量的对应关系及图形尺寸，获得图形 的尺寸偏差量；步骤2，根据获得的尺寸偏差量，调整图形尺寸。其中所述对应关系可以是预先确定的，如果预先没有确定对应关系，则上述方案 还需要包括获得所述对应关系的步骤。获得图形尺寸和尺寸偏差量的对应关系的方法有多种，本发明实施例给出一种获 得所述对应关系的思路是先制作出一批图形，然后比较实际制作的尺寸与预先设计的尺 寸，将两者的差额作为尺寸偏差量，即可模拟出预先设计的尺寸与尺寸偏差量的对应关系， 以便在制作图形时，根据尺寸偏差量将设计尺寸进行调整，则根据调整后的图形尺寸制作 出来的图形的实际尺寸将更加符合设计尺寸。根据该思路，本发明实施例给出一种获得所 述对应关系的过程为步骤al，分别制作不同图形尺寸的电路图形，此处图形尺寸是指制作前设计的图 形的尺寸；步骤a2，测量制作出来的各个电路图形的实际尺寸；步骤a3，获得各个电路图形的实际尺寸与其对应的设计的图形尺寸的差额，作为 尺寸偏差量；步骤a4，根据各个图形尺寸与其对应的尺寸偏差量，模拟出图形尺寸与尺寸偏差 量的对应关系。在步骤a4中，获得了各个图形尺寸及其对应的尺寸偏差量后，可以采用多种数据 处理方案来模拟出图形尺寸和尺寸偏差量的对应关系，本发明实施例给出的一种方式为 选定包含未定参数的对应关系，所述未定参数是指用于表征所述对应关系的关系式中未确 定的参数；根据各个图形尺寸及其对应的尺寸偏差量以及该对应关系，计算出未定参数，以 模拟出所述对应关系。选择的包含未定参数的对应关系可以有多种，只需能够较佳的与数 据相符即可。后续实施例中将给出部分具体的对应关系。此外在需要调整尺寸的电路图形有至少两个的情况下，可以根据各个电路图形的 尺寸获得其对应的偏差量，也可以选择某一个或多个电路图形，根据该选择的电路图形尺 寸获得尺寸偏差量，然后对需要调整尺寸的电路图形进行尺寸调整。如果是前一种处理方案，即分别根据各个电路图形的尺寸及所述对应关系，获得 各个对应的尺寸偏差量，则其调整的准确度较高，能够最大程度的实现精确调整。如果是后一种处理方案，即选择出部分电路图形，根据这部分电路图形的尺寸获 得一个或多个尺寸偏差量，然后对这部分以及其它电路图形的尺寸一起进行调整，则能够 降低计算尺寸偏差量所耗费的资源，例如时间及系统等资源。由于如果尺寸最小的电路图形在调整尺寸后制作出来的电路图形能够符合要求，则其它尺寸的电路图形在根据该最小 的电路图形的偏差量调整后的尺寸制作出来后，通常也会满足要求，因此较佳的，本实施例 提出在有多个电路图形的尺寸需要调整时，选择出尺寸最小的电路图形，根据该最小尺寸 及所述对应关系获得尺寸偏差量，然后基于该尺寸偏差量来调整所需调整尺寸的电路图 形，则能够最大限度的节约资源，且能够实现制作要求。下面给出具体实施例来详细阐述上述方案，该实施例中，需要获得对应关系，且在 调整尺寸时根据最小尺寸对应的尺寸偏差量来调整全部所需调整尺寸的电路图形的尺寸， 且需要调整尺寸的电路图形为散射条。首先获得电路图形尺寸与尺寸量的对应关系，其具体实施过程可以但不限于是首先制作不同尺寸的散射条，散射条的尺寸通常包括长度L和宽度W，然后测量 制作出的各个散射条的实际尺寸，并分别计算出各个尺寸与实际尺寸的差额作为尺寸偏差 量。参照表1，表1是不同尺寸散射条的尺寸列表，其中Wi代表散射条的期望宽度，Lj代表 期望长度，Wij代表实际宽度，Lij代表实际长度，其中i = 1，2，3，. . .，N1 ;j = 1，2，3，...， N2。通常来讲，N1,N2越大，本实施例的方案效果越好，下表中给出N1和N2均等于5的情况， 在具体实施时，实施人员可以自主选择N1及N2的值。本实施例选择的对应关系为BL = ai+b^L+c^ff+d^L^ff+e^L^L+f^ff^ff ； (1)Bff = a2+b2*L+c2*W+d2*L*W+e2*L*L+f2*爾。(2)本实施例中BL代表长度偏差量，Bff代表宽度偏差量，ai; b1 C1, Cl1, e1 f1 a2, b2， c2, d2，e2, f2为参数，L为长度，W为宽度。
LWW1W2W3W4W5L1L11, W11“1，W31L41，W41L51，W51L2^12'艰 12^22 ‘ W22^32' W32L42 W42L52，W52L3[23' W23^33' W33L43 W43“3，W53L4L14，W14L24 W24L34，W34L44，W44L54，W54L5L15，W15[25' W251^35，W35L45 W45L55 W55表1根据表1中的数据、关系式⑴和关系式(2)即可确定出关系式中的未定参数 b1 C15Cl1, ei; fi; a2, b2，C2, d2，e2及f2，获得散射条的长度与长度偏差量，宽度与宽度偏差量 的对应关系。其中根据所述表1的数据、关系式(1)和关系式(2)确定上述未定参数时，可 以有多种常规方式，例如拟合法等。在获得上述对应关系后，即可对散射条的尺寸进行调整。本实施例中，选择出散射 条的最小长度和最小宽度，然后将最小长度及宽度均代入关系式(1)及关系式(2)，由于此 时a1; b1 C1, Cl1, e1 f1 a2，b2，C2, d2，e2，f2均已计算出来，因此可以计算出对应的长度偏差
6量及宽度偏差量。在计算出长度偏差量及宽度偏差量后，即可对散射条的长度和宽度进行调整，然 后根据调整后的长度和宽度来进行制作。其中调整后的图形长度L/和宽度W/设计尺寸 可分别近似为 L/ = Lj^BLij., Wi' = W^Bffijo本实施例通过获得散射条尺寸与尺寸偏差量的对应关系，并根据对应关系及散射 条的尺寸计算出散射条的尺寸偏差量，再对散射条的尺寸进行调整，避免散射条尺寸过小 而影响散射条制作准确性的问题，提高了散射条制作的准确性；此外本实施例基于所述对 应关系精确计算出尺寸偏差量，因此散射条尺寸的调整具备较高的准确性及效率，而且由 于本发明实施例提供的调整方案可以通过软件程序自动实现，提高了方案应用的广泛性及 有效性。本发明实施例还提出了电路图形尺寸调整系统，以避免调整前图形尺寸影响图形 制作准确性的问题，提高图形制作的准确性。图6为本发明实施例提供的电路图形尺寸调整系统的结构示意图，结合该图，本 发明实施例提供的该系统包括偏差量获得单元61，用于根据电路图形的图形尺寸与尺寸偏差量的对应关系及图 形尺寸，获得图形的尺寸偏差量；调整单元62，用于根据偏差量获得单元61获得的尺寸偏差量，调整图形尺寸。所述对应关系可以是预先确定的，也可以是该系统获得的，如果是后者，则该系统 还可以包括对应关系获得单元63，用于获得图形尺寸与尺寸偏差量的对应关系。根据获得对应关系的方案不同，对应关系获得单元63可以有多种结构，获得对应 关系的各类方案可以参照上述方法实施例，此处本实施例给出对应关系获得单元63的一 种结构，该对应关系获得单元63，具体包括用于获得在制作不同图形尺寸的各个电路图形时将制作出的实际尺寸与其对应 的图形尺寸的差额作为尺寸偏差量的子单元；以及用于根据各个图形尺寸与其自身对应的尺寸偏差量，模拟出图形尺寸与尺寸偏差 量的对应关系的子单元。其中在模拟出所述关系时，所述用于模拟出对应关系的子单元，可以但不限于具 体包括用于选定包含未定参数的对应关系的子单元，所述未定参数是指用于表征所述对 应关系的关系式中未确定的参数；以及用于根据各个图形尺寸及其对应的尺寸偏差量以及 该对应关系，计算出未定参数，以模拟出所述对应关系的子单元。本发明实施例提出的电路图形尺寸调整系统中，所采用的对应关系，电路图形的 类型等均可以参照上述方法实施例，此处不再赘述。通过本发明实施例提出的电路图形尺寸调整系统调整电路尺寸，能够避免调整前 图形尺寸影响图形制作准确性的问题，提高图形制作的准确性，避免了现有技术中散射条 制作准确性低的问题；此外本实施例基于所述对应关系精确计算出尺寸偏差量，因此图形 尺寸的调整具备较高的准确性及效率；另一方面本发明实施例提出的电路图形尺寸调整系 统解决方案能够系统化应用，提高了方案实施的有效性及广泛性。显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精 神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围
7之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
权利要求
一种电路图形尺寸调整方法，包括根据电路图形的图形尺寸与尺寸偏差量的对应关系及图形尺寸，获得图形的尺寸偏差量；根据获得的尺寸偏差量，调整图形尺寸。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括获得图形尺寸与尺寸偏差量的对应 关系的步骤。
3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，获得所述对应关系的步骤具体包括 分别制作不同图形尺寸的电路图形；测量制作出来的各个电路图形的实际尺寸； 获得实际尺寸与其对应的图形尺寸的差额，作为尺寸偏差量； 根据各个图形尺寸与其自身对应的尺寸偏差量，模拟出图形尺寸与尺寸偏差量的对应 关系。
4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，模拟所述对应关系，具体包括步骤选定包含未定参数的对应关系，所述未定参数是指用于表征所述对应关系的关系式中 未确定的参数；根据各个图形尺寸与其对应的尺寸偏差量以及该对应关系，计算出未定参数，以模拟 出所述对应关系。
5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括在电路图形数目有至少两个的情况 下，选择出各个图形尺寸中最小尺寸的步骤；以及根据所述对应关系及最小尺寸，获得所述尺寸偏差量，以调整各个电路图形的图形尺寸。
6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括在电路图形数目有至少两个的情况 下，分别根据各个电路图形的尺寸及所述对应关系，获得各个尺寸偏差量的步骤。
7.如权利要求1 6任一项权利要求所述的方法，其特征在于，所述对应关系为 BL = ai+b^L+c^ff+d^L^ff+e^L^L+f^ff^ff ；Bff = a2+b2*L+c2*W+d2*L*W+e2*L*L+f2*W*W，其中BL代表长度偏差量，BW代表宽度偏差 量，ai; bi; C1, Cl1，ei; fi; a2, b2，c2, d2，e2, f2为参数，L为电路图形的长度，W为电路图形的宽度。
8.如权利要求1 6任一项权利要求所述的方法，其特征在于，所述电路图形为散射^^ ο
9.一种电路图形尺寸调整系统，其特征在于，包括偏差量获得单元，用于根据电路图形的图形尺寸与尺寸偏差量的对应关系及图形尺 寸，获得图形的尺寸偏差量；调整单元，用于根据偏差量获得单元获得的尺寸偏差量，调整图形尺寸。
10.如权利要求9所述的系统，其特征在于，还包括对应关系获得单元，用于获得图形 尺寸与尺寸偏差量的对应关系。
11.如权利要求10所述的系统，其特征在于，所述对应关系获得单元，具体包括 用于获得在制作不同图形尺寸的各个电路图形时将制作出的实际尺寸与其对应的图形尺寸的差额作为尺寸偏差量的子单元；用于根据各个图形尺寸与其自身对应的尺寸偏差量，模拟出图形尺寸与尺寸偏差量的 对应关系的子单元。
12.如权利要求11所述的系统，其特征在于，所述用于模拟出对应关系的子单元，具体 包括用于选定包含未定参数的对应关系的子单元，所述未定参数是指用于表征所述对应关 系的关系式中未确定的参数；用于根据各个图形尺寸与其对应的尺寸偏差量以及该对应关系，计算出未定参数，以 模拟出所述对应关系的子单元。
13.如权利要求9 12任一项权利要求所述的系统，其特征在于，所述对应关系为 BL = ai+b^L+c^ff+d^L^ff+e^L^L+f^ff^ff ；Bff = a2+b2*L+c2*W+d2*L*W+e2*L*L+f2*W*W，其中BL代表长度偏差量，BW代表宽度偏差 量，ai; bi; C1, Cl1，ei; fi; a2, b2，c2, d2，e2, f2为参数，L为电路图形的长度，W为电路图形的宽度。
14.如权利要求9 12任一项权利要求所述的系统，其特征在于，所述电路图形为散射^^ ο
全文摘要
本发明提供了电路图形尺寸调整方法及系统，以避免调整前的图形尺寸影响图形制作准确性的问题，提高图形制作的准确性。该方法包括步骤根据电路图形的图形尺寸与尺寸偏差量的对应关系及图形尺寸，获得图形的尺寸偏差量；根据获得的尺寸偏差量，调整图形尺寸；该系统包括偏差量获得单元，用于根据电路图形的图形尺寸与尺寸偏差量的对应关系及图形尺寸，获得图形的尺寸偏差量；调整单元，用于根据偏差量获得单元获得的尺寸偏差量，调整图形尺寸。
文档编号H01L21/70GK101944500SQ20091005458
公开日2011年1月12日 申请日期2009年7月9日 优先权日2009年7月9日
发明者田明静 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司